感放射線性組成物、重合体及びパターン形成方法

    公开(公告)号:JP2020201389A

    公开(公告)日:2020-12-17

    申请号:JP2019108261

    申请日:2019-06-10

    Abstract: 【課題】高膜厚の隔壁等を形成可能な新たなパターン形成方法、並びにこのようなパターン形成方法に好ましく使用できる感放射性組成物及び重合体を提供する。 【解決手段】本発明は、下記式(1)で表される構造単位とフッ素原子を含む基を有する構造単位とを含む重合体、酸発生剤、及び溶剤を含有する感放射線性組成物である。式(1)中、Xは、単結合、−COO−、又は−CONH−である。R 1 は、単結合又は炭素数1から6のアルカンジイル基である。R 2 は、炭素数1から4のアルキル基である。R 3 は、水素原子又はメチル基である。nは、1から4の整数である。nが2以上の場合、複数のR 2 は、それぞれ独立して上記定義を満たす。 【選択図】図1A

    硬化膜、表示素子、硬化膜形成用材料及び硬化膜の形成方法

    公开(公告)号:JP2017171748A

    公开(公告)日:2017-09-28

    申请号:JP2016057660

    申请日:2016-03-22

    Abstract: 【課題】低い誘電性及び高い耐熱透明性を有し、表示素子の表示性能等を高めることができる硬化膜、この硬化膜を備える表示素子、並びに上記硬化膜を形成することができる硬化膜形成用材料及び硬化膜の形成方法を提供することを目的とする。 【解決手段】本発明は、同一又は異なる分子中に、下記式(1)又は式(2)で表される基及びカルボキシ基を有する化合物を含有する硬化膜形成用材料から形成され、10kHzにおける比誘電率が2.5以上3.0以下である硬化膜である。式(1)中、R 1 は、3,4−エポキシシクロヘキシル基等である。R 2 は、単結合又は2価の炭化水素基である。式(2)中、R 3 は、オキシラニル基である。R 4 は、炭素数2以上の3価の炭化水素基である。 【選択図】なし

    レジストに使用可能な化合物
    7.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2018199650A

    公开(公告)日:2018-12-20

    申请号:JP2017105637

    申请日:2017-05-29

    Abstract: 【課題】未露光部への加熱処理での悪影響を低減し、微細加工を可能とする感放射性化合物の提供。 【解決手段】式(1)で表される化合物。 (R 1 及びR 3 は夫々独立して炭化水素基、フッ素化アルキル基或いはケイ素化アルキル基で置換/非置換のC1〜8の1級或いは2級アルキル基、R 2 及びR 4 は夫々独立して炭化水素基、フッ素化アルキル基或いはケイ素化アルキル基で置換/非置換のC1〜8のアルキル基又はアリール基;XはC1〜12の2価の炭化水素基;R 5 は重合性基を含む有機基;Zはn価の有機基;nは1から10の整数) 【選択図】なし

    液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子及び液晶配向膜の製造方法

    公开(公告)号:JP2017097085A

    公开(公告)日:2017-06-01

    申请号:JP2015227321

    申请日:2015-11-20

    Abstract: 【課題】プレチルト角の経時的な安定性及び耐熱性が良好であって、かつ電圧保持率が高い液晶素子を得ることができる液晶配向剤を提供する。 【解決手段】側鎖に官能基を有するブロック共重合体(B)を液晶配向剤に含有させる。ブロック共重合体(B)としては、側鎖に官能基を有するブロック部として、エポキシ基を側鎖に有するブロック部を含むブロック共重合体などを含む。 【選択図】なし

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