ガス分離膜、ガス分離膜モジュール及びガス分離装置
    10.
    发明专利
    ガス分離膜、ガス分離膜モジュール及びガス分離装置 有权
    气体分离膜,气体分离膜模块和气体分离器

    公开(公告)号:JP2016163869A

    公开(公告)日:2016-09-08

    申请号:JP2015146305

    申请日:2015-07-24

    摘要: 【課題】高圧下におけるガス透過性及びガス分離選択性が高く、耐曲げ性が良好なガス分離膜の提供。 【解決手段】多孔質支持体A4の上に位置するシロキサン結合を有する化合物を含む樹脂層3を有し、シロキサン結合を有する化合物が式(2)又は式(3)で表される繰り返し単位を有し、シロキサン結合を有する化合物を含む樹脂層が多孔質支持体B中に存在する領域GLiと多孔質支持体Bの上に存在する領域GLeとを含み、GLeの厚みが50〜1000nm、GLiの厚みが20nm以上、かつ、GLeの厚みの10〜350%、GLe表層20nm中とGLi表層20nm中の式(3)で表される繰り返し単位の含有率との差が30〜90%であるガス分離膜。 【選択図】図7

    摘要翻译: 要解决的问题:提供一种气体分离膜,其在高压下具有高的气体渗透性和气体分离选择性,并且具有优异的抗弯曲性。解决方案:气体分离膜具有含有硅氧烷键位于 多孔支撑件A4。 具有硅氧烷键的化合物具有由式(2)和式(3)中的任一个表示的重复单元。 含有具有硅氧烷键的化合物的树脂层含有存在于多孔载体B中的区域GLi和存在于多孔载体B上的区域GLe .Gel的厚度为50〜1000nm,GLi的厚度为20nm 以上,GLe的厚度为10〜350%,由式(3)表示的重复单元的含量与GLe的表面层的20nm以及GLi的表面层的20nm的差异 是30-90%。选择图:图7