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    Film deposition apparatus, film deposition method, patterning method, optical apparatus manufacturing method, and electronic device manufacturing method
    4.
    发明专利
    Film deposition apparatus, film deposition method, patterning method, optical apparatus manufacturing method, and electronic device manufacturing method 有权
    薄膜沉积装置，薄膜​​沉积方法，图案方法，光学装置制造方法和电子装置制造方法

    公开(公告)号：JP2007046080A

    公开(公告)日：2007-02-22

    申请号：JP2005229521

    申请日：2005-08-08

    申请人： Seiko Epson Corp ,  セイコーエプソン株式会社

    发明人： MIYAZAWA TAKASHI

    IPC分类号： C23C16/455 ,  B05B7/08 ,  B05D1/26 ,  H01L21/28 ,  H01L21/285 ,  H01L21/288 ,  H01L21/31 ,  H01L21/336 ,  H01L29/786

    CPC分类号： C23C16/452 ,  B05B7/0846 ,  B05B7/0876 ,  B05B7/1606 ,  B05B7/1673 ,  B05B7/228 ,  C23C16/345 ,  C23C18/02 ,  C23C18/06 ,  C23C18/1204 ,  C23C18/14

    摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a film deposition apparatus capable of improving accuracy for forming a fine pattern. SOLUTION: The film deposition apparatus comprises a first nozzle 102a for discharging first chemical species on a base body 160, a second nozzle 102b for discharging second chemical species on the base body 160, a material storage chamber 101a for storing the first chemical species and a reaction-active species generation unit 103a for generating reaction-active species, and a material storage chamber 101b for storing the second chemical species and a reaction-active species generation unit 103b for generating the reaction-active species. The first nozzle 102a and the second nozzle 102b are installed so that the flow of the discharged first chemical species crosses the flow of the second chemical species. COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

    摘要翻译： 解决的问题：提供能够提高形成精细图案的精度的成膜装置。 解决方案：成膜装置包括用于在基体160上排出第一化学物质的第一喷嘴102a，用于在基体160上排放第二化学物质的第二喷嘴102b，用于存储第一化学品的材料储存室101a 物质和用于产生反应活性物质的反应活性物质产生单元103a和用于存储第二化学物质的材料储存室101b和用于产生反应活性物质的反应活性物质产生单元103b。 第一喷嘴102a和第二喷嘴102b被安装成使得排出的第一化学物质的流动与第二化学物质的流动相交。 版权所有（C）2007，JPO＆INPIT

    Method and apparatus for applying droplet, electrooptical device, and electronic equipment
    6.
    发明专利
    Method and apparatus for applying droplet, electrooptical device, and electronic equipment 审中-公开
    用于涂覆刮水器，电子设备和电子设备的方法和装置

    公开(公告)号：JP2006035184A

    公开(公告)日：2006-02-09

    申请号：JP2004223000

    申请日：2004-07-30

    申请人： Seiko Epson Corp ,  セイコーエプソン株式会社

    发明人： MIURA HIROTSUNA ,  AMAKO ATSUSHI

    IPC分类号： B05D3/06 ,  B05C5/00 ,  B05C9/12 ,  B05C9/14 ,  B05D1/26

    CPC分类号： G02B5/201 ,  B05B7/228 ,  B05B17/0607 ,  B05C9/14

    摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for applying a droplet, by which a columnar body having its height ensured with high precision and having a minute diameter can be obtained.
    SOLUTION: The droplet L is discharged and applied to a substrate P. Steps of imparting light energy to the discharged liquid droplet L1 and applying the next liquid droplet L2 so that the next liquid droplet L2 is put on the light energy-imparted liquid droplet L1 are repeatedly carried out.
    COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

    摘要翻译： 要解决的问题：提供一种施加液滴的方法，通过该方法可以获得高精度且具有微小直径的高度确保的柱状体。 解决方案：液滴L被排出并施加到基板P.将光能施加到排出的液滴L1并施加下一个液滴L2的步骤，使得下一个液滴L2被放置在光能被施加 液滴L1重复进行。 版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI