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公开(公告)号：JP6431796B2
公开(公告)日：2018-11-28
申请号：JP2015057915
申请日：2015-03-20
申请人： 昭和電工株式会社
发明人： 早川 智也
IPC分类号： B22D11/00 , B22D11/12 , B22D11/126 , C23G1/24 , C23G3/02 , B08B3/04 , B08B3/08 , B22D11/128
CPC分类号： B21B45/0239 , B08B3/00 , B08B3/041 , B08B3/123 , B21B3/00 , B21B45/0269 , B21B2003/001 , B21C43/00 , B21D3/02 , B23B5/12 , B23B2250/12
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公开(公告)号：JP6378890B2
公开(公告)日：2018-08-22
申请号：JP2014024551
申请日：2014-02-12
申请人： 株式会社荏原製作所
发明人： 石橋 知淳
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/304
CPC分类号： H01L21/02065 , B08B3/00 , B08B3/02 , B08B3/024 , B08B3/04 , B08B7/00 , B08B7/0035 , B08B7/005 , B08B7/0057 , B24B37/10 , B24B37/34 , B24B49/12 , H01L21/0206 , H01L21/02074 , H01L21/67028 , H01L21/67034 , H01L21/67046 , H01L21/67051 , H01L21/67115
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公开(公告)号：JP2017038966A
公开(公告)日：2017-02-23
申请号：JP2016228183
申请日：2016-11-24
申请人： 株式会社村田製作所
IPC分类号： A61L2/08 , A61L2/20 , A61L2/10 , A61L2/07 , B01D71/02 , B01D65/02 , B08B3/04 , A61L101/10 , A61L101/44 , A61L2/28
CPC分类号： A61L2/081 , A61L2/08 , A61L2/28 , B01D35/143 , B01D39/10 , B07B1/4609 , B07B1/50 , B08B13/00 , B08B3/00 , B08B3/08 , G01N31/226 , B08B3/12
摘要： 【課題】金属製多孔膜の洗浄が完了したことを判別する洗浄判別方法を提供する。 【解決手段】金属製多孔膜の洗浄が完了しているかを判別する洗浄判別方法において、前記金属製多孔膜の少なくとも一部に感光性有機物を付着させる工程、前記金属製多孔膜を洗浄する工程、および前記金属製多孔膜に付着している前記感光性有機物の量に基づいて前記金属製多孔膜の洗浄が完了していることを判別する工程、を含む。このような構成により、金属製多孔膜に付着した感光性有機物に基づいて金属製多孔膜の洗浄が完了したことを容易に判別することができる。 【選択図】図6
摘要翻译： 本发明提供了用于鉴别确定所述金属多孔膜的清洗结束的清洁方法。 在用于区分一种清洁金属多孔膜中的清洗方法是是否完全确定的，在所述的至少一部分上沉积光敏有机材料的金属多孔膜，清洁金属多孔膜的步骤 和一个步骤，以确定该金属多孔膜的清洗是基于粘附到金属多孔膜中的光敏有机材料的量完成。 根据这样的结构，能够容易地确定，所述金属多孔膜的清洗是基于附着于金属多孔膜中的光敏有机材料完成。 点域6
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公开(公告)号：JP2017038965A
公开(公告)日：2017-02-23
申请号：JP2016228179
申请日：2016-11-24
申请人： 株式会社村田製作所
CPC分类号： A61L2/081 , A61L2/08 , A61L2/28 , B01D35/143 , B01D39/10 , B07B1/4609 , B07B1/50 , B08B13/00 , B08B3/00 , B08B3/08 , G01N31/226 , B08B3/12
摘要： 【課題】金属製多孔膜の滅菌が完了したことを判別する滅菌判別方法を提供する。 【解決手段】金属製多孔膜の滅菌が完了しているかを判別する滅菌判別方法において、金属製多孔膜の少なくとも一部に感光性有機物を付着させる工程、金属製多孔膜を滅菌する工程、および感光性有機物の変性に基づいて金属製多孔膜の滅菌が完了していることを判別する工程、を含む。このような構成により、金属製多孔膜に付着した感光性有機物に基づいて金属製多孔膜の滅菌が完了したことを容易に判別することができる。 【選択図】図5
摘要翻译： 本发明提供了用于鉴别确定金属多孔膜的灭菌完成灭菌方法。 在用于确定灭菌是否已完成一个金属多孔薄膜，至少沉积在所述金属多孔膜，消毒金属多孔膜的工序的光敏有机材料的部分灭菌确定方法，以及 确定金属多孔膜的基于光敏有机材料的退化的灭菌已经完成包括以下步骤,. 根据该结构，能够容易地确定金属多孔膜的灭菌已经基于附着于金属多孔膜中的光敏有机材料完成。 点域5
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公开(公告)号：JP2015096264A
公开(公告)日：2015-05-21
申请号：JP2015022618
申请日：2015-02-06
申请人： 株式会社IHI , 株式会社IHI機械システム
CPC分类号： B08B3/04 , B08B3/00 , B08B3/02 , B08B3/08 , B08B3/10 , B08B5/04 , C23G5/00 , F26B5/04 , B08B2230/01
摘要： 【課題】ワークの乾燥に要する時間を短縮して全体の処理能力を向上することができる真空洗浄装置および真空洗浄方法を提供する。 【解決手段】真空ポンプと、石油系溶剤の蒸気を生成する蒸気生成手段と、真空ポンプによって減圧され、当該減圧の状態において蒸気生成手段から供給される蒸気によってワークを洗浄する洗浄室と、真空ポンプによって洗浄室とは独立して減圧され、当該減圧の状態が保持される凝縮室と、凝縮室を洗浄室よりも低い温度に保持する温度保持手段と、凝縮室と洗浄室とを連通させ、または、その連通を遮断する開閉バルブと、を備え、蒸気を洗浄室に供給してワークを洗浄した後、開閉バルブによって洗浄室を当該洗浄室よりも低い温度に保持された凝縮室と連通させる。 【選択図】図1
摘要翻译： 要解决的问题：提供一种能够减少干燥工件所需的时间并提高整体生产率的真空清洁装置和真空清洁方法。解决方案：真空清洁装置包括：真空泵; 用于产生石油溶剂蒸气的蒸气产生装置; 由所述真空泵减压的清洁室，以及在所述蒸气发生装置中以所述解压缩状态从所述蒸汽供给的蒸气清洗工件; 冷凝室由真空泵独立于清洁室减压并保持减压状态; 用于将冷凝室保持在比清洁室低的温度的温度保持装置; 以及用于使冷凝室与清洁室连通或切断冷凝室与清洁室的连通的开关阀。 在将蒸气供应到清洁室中并且清洁工件之后，开/关阀将清洁室与冷凝室连通，其温度低于清洁室的温度。
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公开(公告)号：JP2015088737A
公开(公告)日：2015-05-07
申请号：JP2014169334
申请日：2014-08-22
申请人： 株式会社SCREENホールディングス
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/02052 , H01L21/67028 , H01L21/67051 , B08B3/00 , B08B3/02 , B08B3/022 , B08B3/024 , B08B3/04
摘要： 【課題】基板の表面状態によらずに、リンス液の液膜で基板の表面の全域をパドル状に覆うことができ、かつ当該液膜の形成を短時間で実現できる、基板処理方法および基板処理装置を提供すること。 【解決手段】減速リンス工程(S42)が、急減速工程(S421)と、急減速工程に引き続いて実行される液盛り工程(S422)とを含む。急減速工程では、高速回転中の基板Wを、急な減速勾配で約100rpmまで一時に減速させる。緩減速工程では、急減速後の基板Wを、一定の緩やかな減速勾配(たとえば、約4.5(rpm/分))を保ちながら、パドル速度(約10rpm)まで連続的に減速させる。また、緩減速工程における基板Wに供給されるDIWの流量は、高速リンス工程時よりも大流量(4.0(リットル/分))に設定されている。 【選択図】図5
摘要翻译： 要解决的问题：提供一种基板处理方法和基板处理装置，其可以与漂洗液体的液膜一样以水玻璃几何形状覆盖基板的整个区域，而不管基板的表面状况如何，以及 这可以在短时间内实现液膜的形成。解决方案：一种基板处理方法包括减速冲洗过程（S42），其包括突然减速处理（S421）和连续执行的水坑处理（S422） 减速过程。 在突然减速过程中，高速旋转时的基板W一次以急剧减速梯度减速至约100rpm。 在缓慢减速过程中，在保持恒定且缓慢的减速梯度（例如约4.5（rpm / min））的同时，突然减速过程之后的基板W连续减速至搅拌速度（约10rpm）。 并且以慢速减速度供给到基板W的DIW（DeIonized Water）的流量被设定为比高速冲洗处理中更高的流速（4.0l / min）。
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公开(公告)号：JP2014181405A
公开(公告)日：2014-09-29
申请号：JP2014051340
申请日：2014-03-14
发明人： HULSE RYAN , KANE COOK
CPC分类号： C11D11/0041 , B08B3/00 , B08B3/02 , B08B3/04 , B08B3/08 , B08B5/00 , C11D3/245 , C11D7/30 , C11D7/5018 , C11D7/5022 , C11D11/0029 , C23G5/02809 , C23G5/02825
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide cleaning compositions that are effective to remove residue from certain parts formed from metals and metal alloys without negatively affecting one or more of the important properties of the metal, especially for example, without negatively affecting the brittleness of the metal, with regard to metal components, especially metal components used for high-stress applications for aircrafts and the like; and to provide cleaning methods.SOLUTION: A composition comprises at least about 50% by weight of a compound shown by the following formula, preferably l-chloro-3,3,3-trifluoropropene (HCFO-1233zd). The composition is brought into contact with a cleaning composition containing at least one of ethanol and methanol as a solvent. (R1 to R4 are each independently selected from H, F, Cl, and substituted or unsubstituted C1 alkyl.)
摘要翻译： 要解决的问题：提供清洁组合物，其有效地从金属和金属合金形成的某些部分中除去残留物，而不会不利地影响金属的一种或多种重要性质，特别是例如不会不利地影响金属的脆性 关于金属部件，特别是用于飞机等的高应力应用的金属部件; 并提供清洁方法。溶液：组合物包含至少约50重量％的由下式表示的化合物，优选1-氯-3,3,3-三氟丙烯（HCFO-1233zd）。 使组合物与含有乙醇和甲醇中的至少一种作为溶剂的清洁组合物接触。 （R 1至R 4各自独立地选自H，F，Cl和取代或未取代的C 1烷基。
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公开(公告)号：JP5191880B2
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：JP2008332795
申请日：2008-12-26
申请人： 東京エレクトロン株式会社
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/306
CPC分类号： B08B3/08 , B08B3/00 , G06Q10/06 , H01L21/67276 , H01L21/67745
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公开(公告)号：JP2011204346A
公开(公告)日：2011-10-13
申请号：JP2011045486
申请日：2011-03-02
发明人： MIYAJIMA SHUNEI , RATTRAY BRIAN
IPC分类号： G11B5/84 , G11B7/26 , H01L21/304
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce a quantity of pure water required for washing, and make an apparatus compact so as to reduce the footprint occupied thereby, in the apparatus for washing a substrate such as a disk.SOLUTION: In a washing apparatus including: a scrub washing unit for washing both surfaces of a substrate, which are scrubbed by a rotating brush while supplying pure water to both surfaces of the substrate; a rinse unit for washing the surfaces of the substrate which have been washed by the scrub washing unit using the pure water; and a dry unit for drying the surfaces of the substrate which have been washed by the rinse unit, the scrub washing unit includes an ultrasonic application unit for applying ultrasonic waves to pure water supplied to the both surfaces of the substrate, which are scrubbed and washed by the rotating brush while supplying the pure water to which the ultrasonic wave has been applied by the ultrasonic application unit to the both surfaces of the substrate.
摘要翻译： 要解决的问题：为了减少洗涤所需的纯水量，并且使得设备紧凑，从而减少其所占据的占地面积，在用于清洗诸如盘的基板的设备中。解决方案：一种洗涤设备，包括： 洗涤洗涤单元，用于洗涤基底的两个表面，所述两个表面被旋转刷洗涤，同时向所述基底的两个表面提供纯水; 冲洗单元，用于清洗已经由洗涤洗涤单元使用纯水洗涤的基底表面; 以及用于干燥已经被冲洗单元洗涤的基底表面的干燥单元，擦洗洗涤单元包括超声波施加单元，用于向被洗涤和洗涤的基底的两个表面的纯水施加超声波 通过旋转刷将超声波施加了超声波的纯水供给到基板的两面。
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公开(公告)号：JP2011044562A
公开(公告)日：2011-03-03
申请号：JP2009191287
申请日：2009-08-20
申请人： Fujitsu Ltd , 富士通株式会社
IPC分类号： H01L21/304 , B08B3/12
CPC分类号： B08B3/12 , B08B3/00 , H01L21/67051
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cleaning apparatus for controlling the amount of a cleaning solution during cleaning, and to provide a cleaning method.
SOLUTION: The cleaning apparatus includes: a supply unit for supplying the cleaning solution to a predetermined part of an object to be cleaned; a vibrating body for vibrating the cleaning solution supplied to the object by coming into contact with the cleaning solution; a monitoring unit for monitoring an amount of the cleaning solution; and a control unit for controlling the supply unit to supply an additional cleaning solution to the cleaning solution when detecting reduction in the cleaning solution based on results of the control unit.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT摘要翻译： 要解决的问题：提供一种用于在清洁期间控制清洁溶液量的清洁装置，并提供清洁方法。 解决方案：清洁设备包括：供应单元，用于将清洁溶液供应到待清洁物体的预定部分; 用于通过与清洁溶液接触而使供给到物体的清洁溶液振动的振动体; 监视单元，用于监视清洁溶液的量; 以及控制单元，用于当基于控制单元的结果检测清洁溶液的减少时，控制供应单元向清洁溶液提供附加的清洁溶液。 版权所有（C）2011，JPO＆INPIT
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