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公开(公告)号:KR102228029B1
公开(公告)日:2021-03-12
申请号:KR1020197006768A
申请日:2017-08-09
申请人: 케이엘에이 코포레이션
发明人: 제임스 지앙구오 수 , 로니 소에타만 , 켄 킨선 리 , 니티그야 카투리아
CPC分类号: G06T7/0004 , H01L21/67242 , G01B11/02 , G01B11/12 , G01B11/24 , G01B11/2441 , G01B11/25 , G01N21/8851 , G01N21/9501 , G01N21/9505 , G02B21/0016 , G02B21/006 , G02B21/244 , G02B21/367 , G06T7/62 , H01L22/12 , H01L22/30 , G01B2210/56 , G01N2021/8887 , G06T2207/10016 , G06T2207/10024 , G06T2207/10056 , G06T2207/30148
摘要: 광학 현미경을 이용하여 샘플의 3D 정보를 생성하는 방법은, 미리 결정된 단계들에서 샘플과 광학 현미경의 대물 렌즈 사이의 거리를 변화시키는 단계; 각각의 미리 결정된 단계에서 이미지를 캡처하는 단계; 각각의 캡처된 이미지 내의 각각의 픽셀의 특성 값을 결정하는 단계; 각각의 캡처된 이미지 내의 각각의 픽셀의 특성 값에 기초하여 상기 샘플의 제1 표면에 포커스되는 제1 캡처된 이미지를 결정하는 단계; 및 상기 제1 캡처된 이미지에 기초하여 상기 샘플의 제1 표면의 개구의 측정치를 결정하는 단계를 포함한다. 상기 샘플의 제1 표면 및 상기 샘플의 제2 표면은 각각의 캡처된 이미지의 시야 내에 있다. 상기 제1 캡처된 이미지는 패턴 오버레이를 포함한다. 다른 예에서, 개구 측정치는 패턴 오버레이 없이 제2 캡처된 이미지를 이용하여 결정된다.
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公开(公告)号:KR102226779B1
公开(公告)日:2021-03-10
申请号:KR1020197006770A
申请日:2017-08-08
申请人: 케이엘에이 코포레이션
发明人: 로니 소에타만 , 제임스 지앙구오 수
CPC分类号: G01B11/022 , G01B11/0608 , G01B11/22 , G01B11/24 , G01B9/04 , G02B21/0016 , G02B21/367 , G06T1/0007 , G06T7/571 , G06T7/60 , G01B11/2441 , G01B11/25 , G01B2210/56 , G01N21/956 , G06T2207/10056 , G06T2207/30148
摘要: 3차원(3-D) 정보를 생성하는 방법은 미리 결정된 단계들에서 샘플과 광학 현미경의 대물 렌즈 사이의 거리를 변화시키는 단계; 각각의 미리 결정된 단계에서 이미지를 캡처하는 단계; 각각의 캡처된 이미지 내의 각각의 픽셀의 특성 값을 결정하는 단계; 각각의 캡처된 이미지에 대해, 상기 캡처된 이미지 내의 픽셀들의 제1 부분에 걸쳐 최대 특성 값을 결정하는 단계; 각각의 캡처된 이미지에 대한 최대 특성 값을 비교하여 각각의 미리 결정된 단계에서 상기 샘플의 표면이 존재하는지 여부를 결정하는 단계; 상기 샘플의 범프의 정점에 포커스되는 제1 캡처된 이미지를 결정하는 단계; 각각의 캡처된 이미지 내의 각각의 픽셀의 특성 값에 기초하여 상기 샘플의 제1 표면에 포커스되는 제2 캡처된 이미지를 결정하는 단계; 및 상기 범프의 정점과 상기 제1 표면 사이의 제1 거리를 결정하는 단계를 포함한다.
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公开(公告)号:JP6306724B2
公开(公告)日:2018-04-04
申请号:JP2016545928
申请日:2015-01-08
申请人: ザイゴ コーポレーション , ZYGO CORPORATION
发明人: ドレゼル、トーマス , リーゼナー、ヤン , デ グロート、ピーター ジェイ.
CPC分类号: G02B21/367 , G01B9/02072 , G01B9/02085 , G01B9/04 , G01B11/2441 , G01B11/2522 , G01B2210/52 , G01M11/025 , G01M11/0271 , G02B21/002 , G02B21/008 , G02B21/26
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公开(公告)号:JP6273142B2
公开(公告)日:2018-01-31
申请号:JP2013506713
申请日:2011-04-19
申请人: ナノテック ソリュシオン , NANOTEC SOLUTION
发明人: フレスケ ジル
CPC分类号: G02B21/0016 , G01B9/02057 , G01B9/0209 , G01B9/04 , G01B11/0675 , G01B11/2441
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公开(公告)号:JP6192017B2
公开(公告)日:2017-09-06
申请号:JP2014539666
申请日:2013-09-20
申请人: 国立大学法人京都工芸繊維大学
CPC分类号: G01B11/2441 , G01B9/02047 , G02B5/30 , G03H1/0443 , G01B2290/70 , G03H2001/0445 , G03H2001/0458 , G03H2210/12 , G03H2223/19 , G03H2223/22
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公开(公告)号:JP2017523441A
公开(公告)日:2017-08-17
申请号:JP2017527978
申请日:2015-08-19
申请人: ベルツ,マルティン
发明人: ベルツ,マルティン
IPC分类号: G01B9/02
CPC分类号: G01B9/02072 , G01B9/02097 , G01B11/2441 , G01J3/45 , G01J3/453 , G01J9/02
摘要: 本発明は、干渉計であって、第1の干渉計アームと第2の干渉計アームとを備え、第1の干渉計アーム及び第2の干渉計アームは、結像対象物の中心画素から出射する第1の中心ビームが第1の干渉計アームを通過し、結像対象物の中心画素から出射する第2の中心ビームが第2の干渉計アームを通過するように配置され、第1の中心ビーム及び第2の中心ビームは、それぞれ第1及び第2の干渉計アームを通過した後に重複され、第1の中心ビームと第2の中心ビームとの重複点でk垂直=0−干渉を生成し、結像される原画像の画素から出射する第1の中心ビームは、第1の干渉計アームを通過し、結像される原画像の画素から出射する第2の中心ビームは、第2の干渉計アームを通過し、結像される原画像の画素から出射する第1のビーム及び前記第2のビームは、それぞれ第1及び第2の干渉計アームを通過した後、第1の中心ビームと第2の中心ビームとの重複点で重複され、第2の中心ビームが第2の干渉計アームを通過し、重複点で第1の中心ビームに対して垂直な第1のビームの波数ベクトル成分と第2の中心ビームに対して垂直な第2の波数ベクトル成分とが逆方向であるように配置される干渉計、に関する。本発明は更に、本発明による干渉計を使用して測定された原画像を再構成する方法に関する。本発明は更に、本発明による干渉計を較正する方法に関する。
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公开(公告)号:JP2017106876A
公开(公告)日:2017-06-15
申请号:JP2015242646
申请日:2015-12-11
申请人: キヤノン株式会社
发明人: 太田 哲二
IPC分类号: G01B21/20
CPC分类号: G01B11/24 , G01B11/005 , G01B11/2441 , G01B21/04 , G01B5/20
摘要: 【課題】被検面の形状を精度よく計測するために有利な計測装置を提供する。 【解決手段】被検面Fの形状を計測する計測装置100は、被検面上で走査されるプローブ1と、プローブの走査方向に並んだ複数の基準部材10z1、10z2と、複数の基準部材のうち選択された基準部材からの距離を検出するようにそれぞれ構成され、走査方向におけるプローブの異なる位置に設けられた複数の検出部13y、13zと、プローブを走査しながら、複数の検出部による検出結果のうち少なくとも1つに基づいてプローブの位置情報を求めることにより、被検面の形状情報を得る処理部20と、を含み、処理部は、プローブの走査範囲が区分けされた複数の範囲のうちプローブが配置された範囲に応じて、位置情報を求める際に用いる検出結果を変更し、複数の範囲は、複数の検出部の各々について選択された基準部材の組み合わせが互いに異なる。 【選択図】図1
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公开(公告)号:JP2017096956A
公开(公告)日:2017-06-01
申请号:JP2016235402
申请日:2016-12-02
申请人: ナノテック ソリュシオン , NANOTEC SOLUTION
发明人: フレスケ ジル
CPC分类号: G02B21/0016 , G01B11/0675 , G01B11/2441 , G01B9/02057 , G01B9/0209 , G01B9/04
摘要: 【課題】トポグラフィ測定、層厚さ測定、及びパターン高さ測定を同時に行うことのできる構造物体を検査するための光学装置及び方法を提供する。 【解決手段】構造物体を検査するための顕微鏡装置であって、カメラ1と、カメラ1において視野に応じて物体の画像を生成することができ、かつ、物体4の側に配置された遠位レンズ3を含む光学画像化手段2と、測定ビームを含み、かつ、測定ビームの逆反射と少なくとも1つの別の光学参照との干渉によって測定を行うことのできる低コヒーレンス赤外線干渉計5とを含む顕微鏡装置に関する。本装置は、ビームが遠位レンズ3を通過するように、測定ビームを光学画像化手段2に導入するための結合手段7をさらに含み、低コヒーレンス赤外線干渉計5は、物体4に対する測定ビームが対象範囲とする光学距離に近い光学距離において発生する、測定ビームの逆反射のみによって測定が行われるように、調節される。 【選択図】図1
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公开(公告)号:JP2017083448A
公开(公告)日:2017-05-18
申请号:JP2016210957
申请日:2016-10-27
发明人: HELEN LIU , ZHAO XUAN , LI SHAOWEI
CPC分类号: G01B9/02083 , G01B9/02078 , G01B9/02088 , G01B11/0608 , G01B11/2441 , G01B2210/56
摘要: 【課題】パターン援用補正を用いる局所的位相アンラッピングの方法とシステムを提供する。【解決手段】ウェハ計測計システムは、干渉計サブシステム140a、140bと、コントローラ130を含む。干渉計サブシステムは、ウェハ表面の変調表現に対応する強度マップを有する干渉画像を生成するように構成される。さらに、干渉計サブシステムは、干渉画像を作成するように構成された検出器116a、116bを含む。コントローラ130は、1つまたは複数のプロセッサ132を含み、これらは、干渉画像のラップト(畳み込み)位相マップ(wrapped phase map)を生成し、ウェハ上の特徴物に関連するパターンを定義し、位相アンラッピング手順をラップト位相マップに適用してアンラップト位相マップを生成し、アンラップト位相マップの中の位相不連続性をパターンに基づいて補正することによって、位相不連続性を補正する。【選択図】図1
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公开(公告)号:JP2017505434A
公开(公告)日:2017-02-16
申请号:JP2016545928
申请日:2015-01-08
发明人: ドレゼル、トーマス , リーゼナー、ヤン , グロート、ピーター ジェイ. デ , グロート、ピーター ジェイ. デ
CPC分类号: G02B21/367 , G01B9/02072 , G01B9/02085 , G01B9/04 , G01B11/2441 , G01B11/2522 , G01B2210/52 , G01M11/025 , G01M11/0271 , G02B21/002 , G02B21/008 , G02B21/26
摘要: 非平坦面の合成画像を生成するステップは、非平坦面の異なる領域の複数の画像であって、少なくとも1つの隣接した画像と重なり合う領域をそれぞれが含む画像を、顕微鏡であって、非平坦面上の、横方向の寸法が10ミクロン以下であり高さが10nm以下である微細構造を3次元で結像するのに十分な解像度を有する顕微鏡を使用して取得するステップと、画像のそれぞれについて、画像の試験対象物の位置および向きを共通の座標系に関連付けする剛体パラメータのセットであって、画像の重なり合う領域において解像された微細構造を、隣接した画像の重なり合う領域の対応する微細構造とフィッティングすることによって決定される剛体パラメータのセットを決定するステップと、剛体パラメータのセットに基づいて画像を組み合わせて、合成画像を生成するステップと、を含む。
摘要翻译: 生成所述非平面表面的合成图像中,多个非平面表面的不同区域的图像的,图像的每个区域重叠与至少一个相邻的图像包括,显微镜,非平面表面 以上,使用具有足够的分辨率来图像的显微镜的微观结构具有的高度在10nm或在三维中小于10微米,得到在横向方向上的尺寸的步骤,对于每个图像的 ,一组测试对象的图像的位置和取向的坐标系中,在图像的重叠区域中的分辨率的微观结构,相邻的重叠的微结构的图像的对应区域相关联,以共同的刚体参数 确定一组通过拟合基于一组的刚体参数的组合的图像中确定的刚性参数, 并产生所形成的图像。
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