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公开(公告)号：KR102235662B1
公开(公告)日：2021-04-01
申请号：KR1020177009400A
申请日：2015-09-09
Applicant: 케이엘에이 코포레이션
Inventor： 아미르 아조르드간 , 프라딥 북카달라 , 크레이그 맥노튼 , 제이딥 케이. 신하
IPC: H01L21/66 , G01B11/24 , G01N21/95 , G01N21/956 , G06T3/40
CPC classification number: H01L22/20 , G01B11/24 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G06T3/4069
Abstract: 패터닝된 웨이퍼의 초고분해능 토포그래피 측정을 가능하게 하는 방법들 및 시스템들이 개시되어 있다. 초고분해능 계측을 이용하여 획득되는 측정들이 웨이퍼 계측 측정 정확도를 개선시키기 위해 이용될 수 있다. 그에 부가하여, 초고분해능 계측을 이용하여 획득되는 측정들이 또한 웨이퍼의 제조 및 설계를 개선시키기 위해 피드백 및/또는 교정 제어를 제공하는 데 이용될 수 있다.
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2.发明专利
公开(公告)号：KR20210033496A
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：KR1020217004438A
申请日：2019-07-26
Applicant: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
CPC classification number: G03F7/70616 , G01B11/24 , G01N21/9501 , G01N21/9515 , G03F7/7065 , G06N3/02 , G06T7/0004 , G06T7/001 , G01N21/95607 , G01N2201/12 , G06T2207/30144
Abstract: 프린트된 패턴의 이미지들을 평가하는 방법이 적어도 하나의 프로그램가능한 프로세서에 의해 구현된다. 상기 방법은 프린트된 패턴의 제 1 평균 이미지를 얻는 단계(2310, 2320)를 포함하고, 제 1 평균 이미지는 프린트된 패턴의 원시 이미지들을 평균함으로써 생성된다. 또한, 상기 방법은 제 1 평균 이미지의 1 이상의 피처를 식별하는 단계(2330)를 포함한다. 또한, 상기 방법은 이미지 품질 분류 모델을 실행하는 프로그램가능한 프로세서에 의해, 및 적어도 1 이상의 피처에 기초하여 제 1 평균 이미지를 평가하는 단계(2340)를 더 포함한다. 평가하는 단계는 이미지 품질 분류 모델에 의해, 제 1 평균 이미지가 메트릭을 만족시키는지 여부를 결정하는 단계(2350)를 포함한다.
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3.发明专利
公开(公告)号：KR20210033030A
公开(公告)日：2021-03-25
申请号：KR1020217004917A
申请日：2019-07-24
Applicant: 글래스텍 인코포레이티드
Inventor： 제이슨 씨. 애딩턴 , 벤자민 엘. 모란 , 마이첼 제이. 빌드
CPC classification number: G01B11/24 , G01N21/17 , G01N21/33 , G01N21/64 , G01N21/8851 , G01N21/958 , G01N2021/9586
Abstract: 유리 시트로 지향하는 평면형 레이저 시트를 형성하는 자외선 레이저 및 연관된 광학 장치를 위한 광학 검사 시스템을 제공한다. 평면형 레이저 시트는, 유리 시트의 표면과 교차하여, 유리 시트의 표면이 형광되게 하며 표면 상에 가시 파장 라인을 형성하게 한다. 카메라는 가시 파장 라인을 검출하기 위한 이미지 센서를 구비한다. 제어 시스템은, 가시 파장 라인을 나타내는 이미지 데이터를 수신하고, 데이터를 분석 및 삼각 측량하여 가시 파장 라인에 연관된 일련의 좌표를 결정하고, 유리 시트의 표면의 3차원 맵을 일련의 좌표의 함수로서 생성하도록 구성된다. 광학 검사 시스템을 이용하여 표면을 계측하고, 광학 검사 시스템을 이용하여 표면에 대한 광반사율 정보를 제공하도록, 광학 검사 시스템을 이용하기 위한 방법도 제공한다.
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公开(公告)号：KR20210030875A
公开(公告)日：2021-03-18
申请号：KR1020200113664A
申请日：2020-09-07
Applicant: 나부테스코 가부시키가이샤
CPC classification number: G01P3/38 , E02F9/26 , G01B11/24 , G01N21/8851 , G06N20/00 , G01N2021/8854 , G01N2021/8887
Abstract: 간단한 구성으로 작업부의 이동 속도를 추정 가능한 작업 기계의 정보 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
정보 처리 장치(10)는, 기억부(30)와, 화상 정보 취득부(12)와, 속도 추정부(20e)를 구비한다. 기억부(30)는, 작업 기계(100)의 작업부(40)의 참조 화상의 데이터 Gs와, 작업 기계(100)의 작업부(40)의 자세 데이터 Ks를 대응지어 생성된 대응 정보를 기억하고 있다. 화상 정보 취득부(12)는, 참조 화상의 데이터 Gs와 비교하기 위해 작업 기계(100)의 작업부(40)의 화상 데이터 Gj를 취득한다. 속도 추정부(20e)는, 화상 정보 취득부(12)에서 취득된 화상의 데이터 Gj와 대응 정보에 기초하여 작업 기계(100)의 작업부(40)의 속도에 관한 속도 정보 Ve를 생성한다.-
公开(公告)号：KR102228835B1
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：KR1020197016992A
申请日：2017-11-17
Applicant: 유니밥 에이비
Inventor： 나르스 아스프룬드
CPC classification number: B25J9/1692 , B25J19/023 , G01B11/002 , G01B21/042 , B25J9/0084 , B25J9/1697 , G01B11/005 , G01B11/24 , G05B2219/37 , G05B2219/39 , G05B2219/39025
Abstract: 산업용 로봇(2)의 측정 시스템은 툴 홀더(10)를 포함하는 다수의 가동 암 및 산업용 로봇에 의해 휴대되는 3D카메라(1)를 포함한다. 상기 측정 시스템은 실제 대상물(12)의 미러 대상물(12i)을 생성하기 위한 미러(3)를 더 포함한다. 상기 3D카메라는 상기 미러 대상물(12i)의 측정을 위해 상기 가동 암(7) 중 하나에 고정된다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR20210029812A
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：KR1020217004092A
申请日：2019-06-11
Applicant: 시로나 덴탈 시스템스 게엠베하 , 덴츠플라이 시로나 인코포레이티드
IPC: G01B11/24 , A61B1/00 , A61B1/24 , A61B5/00 , A61B5/107 , A61C9/00 , G01B5/00 , G01B11/25 , G06T7/55 , H04N13/221
CPC classification number: G01B5/0014 , A61B1/00009 , A61B1/00036 , A61B1/24 , A61B5/0062 , A61B5/0088 , A61C9/0053 , A61C9/006 , G01B11/24 , G01B11/25 , G06T7/55 , A61B5/1077 , A61B5/4542 , G01B2210/52 , H04N13/221
Abstract: 본 발명은 광학 기록 유닛에 의해 오브젝트의 표면을 3차원으로 검출하기 위한 광학 측정 방법에 관한 것으로서, 광학 기록 유닛은 제1 측정 시간 간격 동안 오브젝트에 대해 이동되고, 오브젝트는 기록 유닛에 의해 광 강도를 갖는 조명 빔으로 조명되고, 기록 유닛에 의해 기록 주파수로 연속적으로 높이 이미지가 검출되고, 검출된 높이 이미지 중 적어도 일부는 측정 시간 간격 동안 전체 높이 이미지를 형성하도록 각각 추가되고, 전체 높이 이미지가 디스플레이되며, 광 강도 및/또는 기록 주파수는 측정 시간 간격 동안 제어 신호에 의해 조절되고, 제어 신호는 측정 시간 간격 동안 시간적인 간격을 두고 생성되고, 각각의 제어 신호는 온도 센서의 적어도 하나의 센서 신호에 기초하여 생성된다.
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公开(公告)号：KR102225232B1
公开(公告)日：2021-03-08
申请号：KR1020177005515A
申请日：2014-07-30
Applicant: 유우겐가이샤 와이시스템즈
Inventor： 이브 라크로와
CPC classification number: H01L22/12 , G01B11/24 , G01B9/02092
Abstract: 반도체층을 증착법에 의해 성막할 때에, 반도체층 표면의 형상을 측정함으로써, 상기 표면의 형상의 교정 등을 행할 수 있도록 한 표면 형상의 측정방법 및 측정장치를 제공한다.
단일 레이저광을, 가동식의 미러로 반사하고, 실질적으로 3개로 분리된 레이저 입사광(Ld1, Ld2, Ld3)을 생성하며, 챔버(2) 내에서 성막되고 있는 반도체층(7)의 표면의 입사점(P1, P2, P3)에 레이저 입사광(Ld1, Ld2, Ld3)을 조사한다. 각각의 입사점(P1, P2, P3)으로부터의 레이저 반사광(Lv1, Lv2, Lv3)을 광위치센서로 검지함으로써, 입사점(P1, P2, P3)을 포함하는 막의 표면 형상을 측정한다.-
公开(公告)号：JPWO2017145356A1
公开(公告)日：2018-12-13
申请号：JP2016055809
申请日：2016-02-26
Applicant: 株式会社ニコン
CPC classification number: G01B11/24
Abstract: 【課題】対象物を検出した結果から対象物の三次元形状を高精度に構築可能にする検出装置を提供する。 【解決手段】検出装置(1)は、一視点(Vp)から対象物(OB)を検出する検出部(2)と、一視点における対象物の確度情報を算出する確度算出部(3)と、検出部の検出結果および確度情報を用いて、一視点における対象物の形状情報とテクスチャ情報との少なくとも一方を算出する情報算出部(4)と、を備える。
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公开(公告)号：JP6425586B2
公开(公告)日：2018-11-21
申请号：JP2015042172
申请日：2015-03-04
Applicant: 株式会社キーエンス
Inventor： 里吉 寛之
IPC: G01B11/24
CPC classification number: H04N5/23216 , G01B11/00 , G01B11/24 , G01B11/25 , G01B21/04 , H04N5/2256 , H04N5/23222 , H04N5/23293 , H04N5/2353
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公开(公告)号：JP2018169333A
公开(公告)日：2018-11-01
申请号：JP2017067932
申请日：2017-03-30
Applicant: 株式会社エクォス・リサーチ
Inventor： 久野 和宏
Abstract: 【課題】対象者の歩行時における腕の振りの影響を抑制して対象者の向きを推定できる身体向推定装置および身体向推定プログラムを提供する。 【解決手段】身体向推定装置は、測距センサから取得された、対象者の上半身の測距値が1乃至複数のグループにグルーピングする。右腕または左腕によるグループの近似楕円と、胴体によるグループの近似楕円との相対角度が、60度以上120度以下である場合はこれらを同一のグループとしてグルーピングする。そして、胴体を含むグループに該当する楕円タイプを取得し、その楕円タイプに該当する測距値から上半身の近似楕円が算出し、その上半身の近似楕円における短軸方向が対象者の向きとする。胴体から離れ過ぎた腕が胴体を含むグループから区別されるので、対象者の腕の位置による影響を抑制して対象者の向きを推定できる。 【選択図】図3
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