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    長尺要素の検査グループ
    3.
    发明专利
    長尺要素の検査グループ 审中-公开

    公开(公告)号：JP2018536161A

    公开(公告)日：2018-12-06

    申请号：JP2018525646

    申请日：2016-11-17

    申请人： ジ・ディ・ソシエタ・ペル・アチオニ ,  G.D S.p.A.

    发明人： アルベルト、カサグランデ ,  セルジオ、モレッリ ,  ジルベルト、スピリト ,  ルカ、フェデリーチ

    IPC分类号： A24C5/34 ,  G01B11/24

    CPC分类号： G01B11/2408 ,  A24C5/3412 ,  G01B11/245 ,  G01B11/25

    摘要： 喫煙用物品のための円筒状の長尺要素を検査するための検査グループ(1)が提案され、第1の長尺要素(2)の長手方向軸(S)を通過する作業平面(P)が選択され、作業平面(P)に対して反対側に配置された第1の半空間(3)と第2の半空間(4)とが考慮される。検査グループ(1)は、第1の長尺要素(2)の外面(8)の検査部分(6)上に第1の半空間(3)から第1の線状光(5)を投影して、第1の3次元光跡(7)を得るように適合され、また検査部分(6)上に第2の半空間(4)から第2の線状光(9)を投影して、第2の3次元光跡(10)を得るように適合された、投影装置と、第1の長尺要素(2)をフレームに入れ、第1の視図および第2の視図を処理するように適合された光学アセンブリと、第1の長尺要素(2)の第1の閉湾曲断面プロファイル(12)を再構成し、第1の視図における識別された第1の湾曲光線(7’)および第2の視図における第2の識別された湾曲光線(10’)を処理し、第1の再構成された閉湾曲プロファイル(12)を理想的な断面プロファイルと比較して、理想的な断面プロファイルに対する再構成された第1の閉湾曲プロファイル(12)の起こり得る変形を識別するように適合された処理装置(11)と、を備える。投影装置は、単一の線状光(29)の単一プロジェクタ(28)と、単一のプロジェクタ(28)と第1の長尺要素(2)との間に配置され、単一の線状光(29)を、線状光(29a)の第1の部分と線状光(29b)の第2の部分とに分割するように適合された、シールド(30)と、単一の線状光(29)から第1半空間(3)から投影された第1の線状光(5)と、第2の半空間(4)から投影された第2の線状光(9)と、をそれぞれ得るために、第1の半空間(3)に配置された線状光(29a)の第1の部分の第1の偏向器(31)および第2の半空間(4)に配置された線状光(29b)の第2の部分の第2の偏向器(32)と、を備える。

    3次元形状計測装置及び3次元形状計測方法
    8.
    发明专利
    3次元形状計測装置及び3次元形状計測方法 审中-公开

    公开(公告)号：JP2018146449A

    公开(公告)日：2018-09-20

    申请号：JP2017043115

    申请日：2017-03-07

    申请人： オムロン株式会社

    发明人： 林 剣之介 ,  大西 康裕 ,  諏訪 正樹

    IPC分类号： G06T7/50 ,  G01B11/25

    CPC分类号： G01B11/25 ,  G06T7/50 ,  G06T7/521

    摘要： 【課題】計測対象物に投影したパターンの位相を基に3次元形状を計測する方法において、多重反射の影響を低減し、計測精度を向上するための技術を提供する。 【解決手段】制御装置は、撮像装置で観測される観測光が、投影装置から投影された光が計測対象物上の計測点で反射し撮像装置に入射する1次反射光と、投影装置から投影され他の反射面で反射された光が計測対象物上の計測点で反射し撮像装置に入射する2次反射光との合成光であると仮定する。制御装置は、観測光の輝度振幅値について3つ以上のサンプルを取得し、これらのサンプルを用いて2次反射光に起因する位相誤差を算出し、位相誤差を用いて観測光の位相値を補正することにより補正位相値を算出し、補正位相値に基づいて計測対象物上の計測点の3次元位置を算出する。 【選択図】図4

    三次元計測装置
    9.
    发明专利
    三次元計測装置 有权

    公开(公告)号：JP2018146289A

    公开(公告)日：2018-09-20

    申请号：JP2017039311

    申请日：2017-03-02

    申请人： CKD株式会社

    发明人： 梅村 信行 ,  大山 剛 ,  坂井田 憲彦

    IPC分类号： G01N21/956 ,  G01B11/25

    CPC分类号： G01B11/25 ,  G01N21/956

    摘要： 【課題】三次元計測における計測精度の低下抑制を図ることのできる三次元計測装置を提供する。 【解決手段】基板検査装置1は、プリント基板2に対し縞パターンを投影する投影装置4と、プリント基板2上の縞パターンの投影された部分を撮像するカメラ5と、基板検査装置1内における各種制御を実施する制御装置6とを備えている。投影装置4は、所定の光を発する光源4aや、該光源4aからの光を縞パターンに変換するDMD4bなどを備え、単位時間あたり所定のフレーム数で縞パターンをプリント基板2に対し投影する。制御装置6は、所定数フレーム分の縞パターン投影期間の前後に所定の全黒パターンを投影可能な1フレーム分の全黒パターン投影期間を設定し、縞パターン投影期間前の全黒パターン投影期間中にカメラ5の撮像処理を開始し、縞パターン投影期間後の全黒パターン投影期間中にカメラ5の撮像処理を終了する。 【選択図】 図1

    適応可能な深度検知システム
    10.
    发明专利
    適応可能な深度検知システム 审中-公开

    公开(公告)号：JP2018523089A

    公开(公告)日：2018-08-16

    申请号：JP2017552940

    申请日：2016-04-27

    申请人： インテル・コーポレーション

    发明人： シン、チー−ファン ,  クリシュナスワミー、プラサンナ

    IPC分类号： G06F3/0346 ,  G01B11/00 ,  G01C3/06

    CPC分类号： G01B11/22 ,  G01B11/25 ,  G01S11/00 ,  G01S11/12 ,  G06F3/017 ,  H04N5/2226 ,  H04N5/2258 ,  H04N5/332 ,  H04N9/045 ,  H04N9/09 ,  H04N13/128 ,  H04N13/239 ,  H04N13/254 ,  H04N13/271

    摘要： 本開示は、適応可能な深度検知(DS)システムを対象とする。DSデバイスは、DS機器モジュールおよび制御モジュールを備え得る。制御モジュールは、近距離検知、中距離検知または長距離検知のためのDS機器モジュールの動作モードを構成し得る。制御モジュールは、動作モードを判定するためにDS機器モジュールから少なくとも深度データを受信し得る。制御モジュールはまた、DSデバイスが結合されるDSデバイスおよび/またはホストデバイスに関する条件データを受信し得、条件データに基づく構成を判定し得、DS機器モジュールを構成すべく、深度データと共に条件データを利用し得る。DS機器モジュールを構成することは、例えば、DS機器モジュール内部のコンポーネントを有効にすること、コンポーネントのためにフォーカスを構成すること、コンポーネントのために画像方向付けを構成すること、および/またはコンポーネントのためにDS方法論を選択することを含む。