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公开(公告)号：KR102231348B1
公开(公告)日：2021-03-23
申请号：KR1020200022640A
申请日：2020-02-25
Applicant: 한국해양대학교 산학협력단
CPC classification number: G01N21/39 , G01J3/42 , G01K11/125 , G01N2021/399 , G01N2201/0612
Abstract: 토모그래피 광학 측정 방식에 의거한 연소장 가스의 온도 및 농도 동시 측정 방법 및 시스템이 제시된다. 일 실시예에 따른 토모그래피 광학 측정 방식에 의거한 연소장 가스의 온도 및 농도 동시 측정 방법은, 연소 장치를 구성하여 건조 공기와 프로판의 예혼합하여 연료의 당량비를 조절하는 단계; 2차원 측정 셀(cell)을 설치하여 상기 연소 장치의 연소 생성물인 고온 가스의 온도를 측정하는 단계; 다이오드 레이저를 이용하여 기설정된 온도 이상의 고온 영역의 흡수 스펙트럼을 취득하는 단계; TDLAS(Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy) 기법 및 토모그래피 기법 중 적어도 어느 하나 이상을 이용하여 상기 흡수 스펙트럼 결과에서 2차원 공간의 광 신호 정보를 취득하는 단계; 상기 흡수 스펙트럼 결과를 캘리브레이션(calibration) 시험을 통해 흡수 신호를 자동 보정하는 단계; 상기 흡수 스펙트럼의 구현에 있어, 상기 광 신호의 세기를 정규화하는 단계; 및 상기 광 신호의 세기를 정규화한 후, 3차 다항식을 적용하여 매질을 투과한 투과광으로부터 흡수 스펙트럼을 자동으로 분별하기 위한 흡수 신호를 취득하는 단계를 포함하여 이루어질 수 있다.
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公开(公告)号：KR102230001B1
公开(公告)日：2021-03-19
申请号：KR1020150148491A
申请日：2015-10-26
Applicant: 한국전자통신연구원
CPC classification number: G01J3/42 , H01S1/02 , G01J2003/423
Abstract: 포토닉 크리스탈 구조의 대구경 테라헤르츠 발생 장치는 제1 방향으로 확장된 제1 라인 패턴, 상기 제1 라인 패턴과 연결되고 상기 제1 방향과 교차된 제2 방향으로 확장된 복수의 제2 라인 패턴들 및 상기 제1 라인 패턴과 연결되고 상기 제2 방향으로 확장되고 상기 복수의 제2 라인 패턴들의 사이에 위치되고 상기 제2 라인 패턴들에 비해 긴 길이를 갖는 복수의 제3 라인 패턴들을 포함하는 제1 전극; 및 상기 제1 방향으로 확장된 제4 라인 패턴, 상기 제4 라인 패턴과 연결되고 상기 제2 방향으로 확장된 복수의 제5 라인 패턴들 및 상기 제4 라인 패턴과 연결되고 상기 제2 방향으로 확장되고 상기 복수의 제5 라인 패턴들의 사이에 위치되고 상기 제5 라인 패턴들에 비해 긴 길이를 갖는 복수의 제6 라인 패턴들을 포함하고, 상기 제1 전극과 마주하여 배치된 제2 전극을 포함한다.
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公开(公告)号：JP2018533812A
公开(公告)日：2018-11-15
申请号：JP2018500601
申请日：2016-07-07
Applicant: シーウェア システムズ , SI−WARE SYSTEMS
Inventor： サブリィ,ヤセル,エム. , カーリル,ディアー , ブルイナ,タリク,イー. , アンワル,モーメン
CPC classification number: H01L49/00 , G01J3/0205 , G01J3/0208 , G01J3/0216 , G01J3/0237 , G01J3/0245 , G01J3/108 , G01J3/26 , G01J3/42 , H01K1/04 , H01K1/14
Abstract: ブラックシリコンなどの不規則半導体構造から生成された光学的放射源が提供されている。この光学的放射源は、半導体基板と、この半導体基板にエッチングされた不規則半導体構造と、この不規則半導体構造に近接して配置され、不規則半導体構造が熱赤外線放射を出射する温度にこの不規則半導体構造を加熱するように構成した加熱素子を具える。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2018146589A
公开(公告)日：2018-09-20
申请号：JP2018062926
申请日：2018-03-28
Applicant: メイヨ フォンデーシヨン フォー メディカル エジュケーション アンド リサーチ
Inventor： ギルバート、バリー、ケー , ハイダー、クリフトン、アール , デルプ、ゲイリー、エス , ローズ、ジェイムズ、エイ
IPC: A61B5/1455 , G01N21/27
CPC classification number: G01J3/42 , A61B5/0075 , A61B5/14532 , A61B5/14552 , G01J3/0237 , G01N21/49 , G01N33/4925
Abstract: 【課題】複数の波長において分光システムによって生成され、システムの検出器の固定位置において検出される波を用いて組織サンプルを特性化するパラメータの測定値を動的に位置特定するシステムおよび方法。 【解決手段】パラメータは、サンプルのインパルス応答、サンプルの物質成分の特性を表す基準データ、および、異なる波長に対応するサンプルを通る経路長に基づいて計算される。動的位置特定は、求められたパラメータを表す曲線の異なる点を考慮することによって実行され、サンプルにわたるパラメータの分布の空間マップを形成することを可能にする。複数の検出器におけるインパルス応答のさらなる測定が、時間の関数としてのサンプルにわたる測定パラメータの変化の判定を促進する。 【選択図】図8E
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公开(公告)号：JP6391278B2
公开(公告)日：2018-09-19
申请号：JP2014083134
申请日：2014-04-14
Applicant: キヤノン株式会社
Inventor： 井辻 健明
IPC: G01N21/3581
CPC classification number: G01J3/42
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP6371774B2
公开(公告)日：2018-08-15
申请号：JP2015542035
申请日：2013-11-13
Applicant: ヴァイアヴィ・ソリューションズ・インコーポレイテッド , Viavi Solutions Inc.
Inventor： カーチス アー. ルスカ , チャールズ エイ. ハルス , ブレット ジェイ. ブライアーズ , メアー ケイ. フォン・グンテン , クリストファー ジー. ペダーソン , ナダ エイ. オブライエン , ジェリー ジーバ
CPC classification number: G01N21/35 , G01J3/0205 , G01J3/0272 , G01J3/10 , G01J3/26 , G01J3/42 , G01J5/08 , G01J2003/1234 , G01N21/359 , G01N2201/0221 , G01N2201/061 , G01N2201/068
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公开(公告)号：JP2018087984A
公开(公告)日：2018-06-07
申请号：JP2017245686
申请日：2017-12-22
Applicant: 富士フイルム株式会社
Inventor： 岩見 一央
CPC classification number: H05K1/0274 , G01J3/42 , G06F1/16 , G06F3/0412 , G06F3/044 , G06F2203/04112 , H05K1/0296 , H05K9/0096
Abstract: 【課題】異なる解像度の表示装置に対しても、また、観察距離によらず、モアレの発生を抑止でき、表示ユニットの表示画面の視認性を大幅に向上させることができる導電性フイルムの評価方法を提供する。 【解決手段】算出された導電性フイルムの配線パターンのピーク周波数及びピーク強度と表示ユニットの画素配列パターンのピーク周波数及びピーク強度とから算出されたモアレの周波数及び強度の中から、表示ユニットの表示解像度に応じて規定されるモアレの最高周波数以下の周波数を持つモアレを選び出し、それぞれのモアレの周波数におけるモアレの強度に人間の視覚応答特性を観察距離に応じて作用させてそれぞれモアレの評価値を得、得られた複数のモアレの評価値からモアレの評価指標を算出し、算出されたモアレの評価指標が所定値以下である導電性フイルムを評価する。 【選択図】図6
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公开(公告)号：JP2018511794A
公开(公告)日：2018-04-26
申请号：JP2017547529
申请日：2016-03-09
Inventor： アクセル・シェーラー , フランク・ティー・ハートレイ
CPC classification number: G01N21/35 , G01J3/0208 , G01J3/0256 , G01J3/18 , G01J3/36 , G01J3/42 , G01J2003/1213 , G01N21/3577
Abstract: 精細なスペクトル分解能及び高感度分光を可能にする階層的スペクトル分散を有する分光システムが開示される。階層的スペクトル分散は、試験サンプルの両側に位置する少なくとも二つの回折レンズアレイを用いることによるものであり、各回折レンズアレイは、入力スペクトル範囲を有する入力放射線を受け、入力放射線を複数の出力信号に分布させ、各出力信号は、入力放射線のスペクトル範囲の一部分を有する。結果として、二つのアレイの信号多重化因子は、システムを通る波長高調波の伝播を軽減するようにして多重化される。一部実施形態では、複数のスペクトル選択性エミッタを備えるエミッタアレイが、入力MIR放射線を分光システムに提供する。一部実施形態では、スペクトル選択性検出器を用いて、試験サンプルを通過した後の放射線中の狭いスペクトル成分を検出する。
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公开(公告)号：JP2018511777A
公开(公告)日：2018-04-26
申请号：JP2017534597
申请日：2015-12-22
Applicant: センター ナショナル ド ラ ルシェルシュ サイエンティフィーク , ユニヴェルシテ ド リール 1 , イセン
Inventor： ドゥヴォス アルノー
CPC classification number: G01J3/027 , G01J3/42 , G01J11/00 , G01N21/1717 , G02B7/28 , G02B21/247 , G02B26/06 , G02B27/40
Abstract: 本発明は、短パルス光源(2)から生じる少なくとも1つのビーム(fu)を使用して、光学機器を標的表面(100)上に再合焦させる方法に関し、光学機器は、ビーム(fu)を標的表面(100)上に合焦させる少なくとも1つの光学素子(5)を備え、再合焦は、光学組立体が合焦されると見なされる基準条件(d1)を学習した後に行われる。本方法によれば、標的表面の(100)から反射するビーム(fr)と標的表面(100)から反射しない光源(2)から到来する基準ビーム(fref)との間のパルスの時間的オーバーラップ表す合焦信号が検出され、ビームの1つは、遅延線(14)によって遅延され、遅延線(14)が配置されるビームの光路は、合焦信号を所定の閾値に到達させるか又はこれを超えさせるように基準条件に基づいて変更され、合焦は、基準条件(d1)と、合焦信号が所定の閾値に到達するか又はこれを超える条件(d2)との間の光路の変動の知識に基づいて調整される。【選択図】図2
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公开(公告)号：JP2018503843A
公开(公告)日：2018-02-08
申请号：JP2017558360
申请日：2016-01-26
Applicant: エイチ2オプティクス・インコーポレイテッド , H2Optx Inc.
Inventor： ルドルフ・ジェイ・ホフマイスター , ドナルド・エイ・アイス , スコット・ダブリュー・タンディ
CPC classification number: G01J3/42 , B01D46/0002 , B01D46/42 , G01J3/00 , G01J3/0267 , G01J3/0291 , G01J3/06 , G01J3/10 , G01J3/44 , G01N1/06 , G01N21/01 , G01N21/25 , G01N21/253 , G01N21/33 , G01N21/3504 , G01N21/3577 , G01N21/65 , G01N23/00 , G01N33/15 , G01N35/10 , G01N2021/0106 , G01N2201/0231
Abstract: 試料に関する情報を得るように構成されたハイパースペクトル分析サブアセンブリの一実施形態である。ハイパースペクトル分析サブアセンブリは、試料に電磁気的に接続された電磁放射線を生成する1つまたは複数の送信器と、試料に電磁気的に接続された電磁放射線を検出する1つまたは複数のセンサと、電磁気的に透過する窓と、を備える。センサの少なくとも1つは、窓を介して試料からの電磁放射線を検出する。ハイパースペクトル分析サブアセンブリは、試料に対する1つまたは複数の移動方向において、ハイパースペクトル分析サブアセンブリの少なくとも一部を駆動する分析駆動サブアセンブリを備える。【選択図】図2A
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