公开(公告)号：JP4732668B2

公开(公告)日：2011-07-27

申请号：JP2002145479

申请日：2002-05-20

申请人： ヘッドウェイテクノロジーズ インコーポレイテッド

发明人： 張 介威 ,  林 冠志 ,  陳 朝鵬

IPC分类号： C25D5/00 ,  C25D3/56 ,  C25D5/18 ,  C25D7/00 ,  G11B5/31 ,  H01F10/16 ,  H01F41/26

CPC分类号： C25D5/18 ,  C25D3/562 ,  C25D5/006 ,  C25D7/001 ,  G11B5/3109 ,  G11B5/3163 ,  H01F10/16 ,  H01F41/26 ,  Y10T428/115 ,  Y10T428/12493

公开(公告)号：JP4581871B2

公开(公告)日：2010-11-17

申请号：JP2005190789

申请日：2005-06-29

申请人： ソニー株式会社

发明人： ウエイ ベン ン、 ,  昭夫 高田

IPC分类号： H01F10/16 ,  B81B1/00 ,  B81C99/00 ,  C22C19/07 ,  C23C28/00 ,  C25D5/34 ,  C25D7/00 ,  H01F41/26

CPC分类号： H01F10/16 ,  H01F41/26 ,  Y10T428/32

摘要： A magnetic material comprises 50-80 wt % of Cobalt, 9-15 wt% of Nickel, 10-25 wt% of Rhenium, 0.1 to 2.0 wt% of Phosphorus, and 5-10 wt % of Tungsten or Platinum. It can be formed as a layer having good vertical magnetic properties (e.g. when magnetised it can provide a high magnetic field strength in the direction perpendicular to the plane of the layer). The layer preferably has a thickness of above 1 mum. It can be formed by electroplating. The layer is useful for inclusion in a MEMS device.

公开(公告)号：JP2006253252A

公开(公告)日：2006-09-21

申请号：JP2005064886

申请日：2005-03-09

申请人： Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv ,  ヒタチグローバルストレージテクノロジーズネザーランドビーブイ

发明人： KUDO KAZUE ,  OIKAWA GEN ,  MARUYAMA YOJI ,  SHIINA HIROMI

IPC分类号： H01F10/16 ,  G11B5/31 ,  H01F10/14 ,  H01F41/18 ,  H01L43/08

CPC分类号： G11B5/1278 ,  G11B5/21 ,  G11B5/3109 ,  H01F10/16 ,  H01F41/26 ,  Y10T428/115 ,  Y10T428/1186

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magnetic film which gives a higher saturation magnetic flux density than the conventional one, and also to provide its manufacturing method and a thin-film magnetic head using the same and a magnetic disc device mounted with the thin-film magnetic head. SOLUTION: The magnetic film contains Co, Ni, and Fe, with the composition being 10≤Co≤40 wt%, 0 COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

摘要翻译： 要解决的问题：提供一种比常规磁饱和磁通密度高的磁性膜，并提供其制造方法和使用其的薄膜磁头和安装有 薄膜磁头。 解决方案：磁性膜含有Co，Ni和Fe，组成为10≤Co≤40wt％，0

公开(公告)号：JP3576263B2

公开(公告)日：2004-10-13

申请号：JP9989595

申请日：1995-03-30

申请人： 株式会社リコー

发明人： 伸一郎 中島 ,  智博 井上 ,  孝二 氏家

IPC分类号： H01F10/10 ,  C30B28/04 ,  G02F1/361 ,  H01F10/00 ,  H01F41/14 ,  H01F41/26

CPC分类号： B82Y25/00 ,  H01F10/007 ,  H01F41/26

公开(公告)号：JP2003034891A

公开(公告)日：2003-02-07

申请号：JP2002145479

申请日：2002-05-20

申请人： Headway Technologies Inc ,  ヘッドウェイテクノロジーズ インコーポレイテッド

发明人： CHEN CHAOPENG ,  KANSHI RIN ,  KAII CHO

IPC分类号： C25D3/56 ,  C25D5/00 ,  C25D5/18 ,  C25D7/00 ,  G11B5/31 ,  H01F10/16 ,  H01F41/26

CPC分类号： C25D5/18 ,  C25D3/562 ,  C25D5/006 ,  C25D7/001 ,  G11B5/3109 ,  G11B5/3163 ,  H01F10/16 ,  H01F41/26 ,  Y10T428/115 ,  Y10T428/12493

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a cobalt iron alloy and a quaternary alloy which can improve magnetic properties, and a method for manufacturing a plated magnetic thin-film of a cobalt iron alloy and a plated magnetic thin-film of a cobalt iron molybdenum alloy. SOLUTION: The plated magnetic thin-film of a cobalt iron alloy includes an alloy having, for instance, the formula of Co100-a-b Fea Mb , (where, (a) and (b) are mass ratios in ranges of respectively satisfying 0 /(4π) A/m or less. The method for manufacturing such a plated magnetic thin-film includes employing a plating treatment through applying plating current of, for instance, direct current, pulse current, bipolar pulse current, pulse adjusting current, or these combinations.

摘要翻译： 要解决的问题：提供一种能够提高磁性能的钴铁合金和四价合金的制造方法，以及钴铁合金的镀覆磁性薄膜的制造方法以及电镀磁性薄膜的制造方法 钴铁钼合金。 解决方案：钴铁合金的镀覆磁性薄膜包括具有例如Co100-ab Fea Mb的式（其中，（a）和（b））分别满足0 < （a）<= 100且0 <=（b）<100，M表示钴和铁以外的一种以上的元素），饱和磁化强度为2T以上，容易轴矫顽力为13×10 3 / （4π）A / m以下。 制造这种镀覆磁性薄膜的方法包括通过施加例如直流电流，脉冲电流，双极脉冲电流，脉冲调整电流或这些组合的电镀电流来进行电镀处理。

公开(公告)号：JPS57116795A

公开(公告)日：1982-07-20

申请号：JP15490481

申请日：1981-10-01

申请人： Ibm

发明人： MARIBERU KIYAPURON BUREEKUSURI ,  JIYADEISU DEIAN ORUSON ,  RUBOMIA TARASU ROOMANKIYUU

IPC分类号： C22C19/03 ,  C25D3/56 ,  G11B5/858 ,  H01F10/14 ,  H01F41/26

CPC分类号： C25D3/562 ,  H01F41/26

公开(公告)号：JPS579636B2

公开(公告)日：1982-02-22

申请号：JP14577277

申请日：1977-12-06

IPC分类号： C25D7/00 ,  C25D3/56 ,  C25D5/08 ,  C25D17/00 ,  C25D21/12 ,  G11B5/31 ,  G11B5/858 ,  H01F10/14 ,  H01F41/14 ,  H01F41/26

CPC分类号： G11B5/3163 ,  C25D3/562 ,  C25D5/08 ,  C25D21/12 ,  H01F41/14 ,  H01F41/26

公开(公告)号：JP2018532259A

公开(公告)日：2018-11-01

申请号：JP2018509499

申请日：2016-08-19

申请人： エクスタリック コーポレイション ,  XTALIC CORPORATION

发明人： アラン・シー・ルンド ,  ロバート・ヒルティ ,  ローレンス・マサー ,  シーユン・ルアン ,  ジェイソン・リース

IPC分类号： C25D7/00 ,  C25D5/12 ,  C22C21/00 ,  H01F1/04 ,  H01F1/055 ,  H01F41/02 ,  H01F1/057

CPC分类号： C23C28/021 ,  C22C21/00 ,  C22C38/002 ,  C22C38/005 ,  C25D3/56 ,  C25D5/10 ,  C25D5/12 ,  C25D5/18 ,  C25D5/36 ,  C25D7/001 ,  C25D17/16 ,  H01F41/026 ,  H01F41/26

摘要： 皮膜を含む磁石及び関連する方法は、本明細書に記載される。前記皮膜はアルミニウムマンガン合金層を含んでもよい。前記アルミニウムマンガン層は電気めっき処理で形成できる。

公开(公告)号：JPWO2008146368A1

公开(公告)日：2010-08-12

申请号：JP2009516106

申请日：2007-05-30

申请人： 信越化学工業株式会社

发明人： 和男 田村 ,  和男 田村

IPC分类号： H01F41/02 ,  C23C22/07 ,  C23C22/62 ,  C23C22/82 ,  C23C28/00 ,  C25D7/00 ,  H01F1/053 ,  H01F1/08

CPC分类号： C23C8/12 ,  C23C22/74 ,  C23C28/04 ,  C25D5/50 ,  C25D7/001 ,  H01F1/0577 ,  H01F41/026 ,  H01F41/26

摘要： R−Fe−B系焼結磁石を切断及び/又は研磨して表面の加工仕上げを行い、メッキ前処理をした後、電気ニッケルメッキにより所定の厚みにメッキ処理を行い、リン酸塩を含む水溶液に浸漬した後、水洗し、次いで酸素分圧が1.3×103Pa以上の雰囲気下において、150〜400℃にて1〜24時間熱処理し、表層部に薄いニッケル酸化物層を形成させることを特徴とする高耐食性希土類永久磁石の製造方法。

公开(公告)号：JP2010515820A

公开(公告)日：2010-05-13

申请号：JP2009544828

申请日：2007-09-25

申请人： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーションInternational Business Maschines Corporation

发明人： デリジャンニ、ハリクリア ,  フワン、チャン ,  ロマンキウ、ルボミール、ティー

IPC分类号： C25D5/18 ,  B82B1/00 ,  B82B3/00 ,  C25D5/10 ,  C25D7/00 ,  H01F10/14 ,  H01F41/26 ,  H01L21/8246 ,  H01L27/105 ,  H01L43/08

CPC分类号： C25D5/022 ,  B82Y25/00 ,  C25D3/562 ,  C25D5/10 ,  C25D5/18 ,  H01F1/0072 ,  H01F41/26 ,  Y10S977/762 ,  Y10S977/81 ,  Y10S977/838 ,  Y10T428/12028 ,  Y10T428/12465 ,  Y10T428/12493 ,  Y10T428/12931 ,  Y10T428/12944 ,  Y10T428/12951 ,  Y10T428/12986 ,  Y10T428/24967 ,  Y10T428/2982

摘要： 【課題】本発明は、交互する異なった材料組成の第一強磁性層と第二強磁性層とを包含する構造を形成する方法に関する。
【解決手段】最初に、少なくとも一つの開孔を有する支持マトリックスと、導電ベース層とを包含する基材が形成される。 次いで、少なくとも一つの強磁性金属元素と、さらなる一つ以上の異なった金属元素を包含する電気メッキ液の中で該基材の電気メッキが行われる。 交互する高電位と低電位とを有するパルス電流を基材構造の導電ベース層に印加し、これにより、支持マトリックスの開孔中に、交互する異なった材料組成の層を形成する。
【選択図】図３