公开(公告)号：JP2017515272A

公开(公告)日：2017-06-08

申请号：JP2016563914

申请日：2015-04-29

Applicant: アクセリス テクノロジーズ, インコーポレイテッド ,  アクセリス テクノロジーズ, インコーポレイテッド

Inventor： コ−チュアン ジェン，コーソン ,  コ−チュアン ジェン，コーソン ,  ビンツ，ウィリアム

IPC: H01J37/317

CPC classification number: H01J37/1474 ,  H01J37/1478 ,  H01J37/20 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/08 ,  H01J2237/1506 ,  H01J2237/151 ,  H01J2237/152 ,  H01J2237/20207 ,  H01J2237/20214 ,  H01J2237/31701 ,  H01J2237/31708

Abstract: スキャンされたイオンビームが被加工物に衝突するのと同時に、スキャンされたイオンビームの入射角度を被加工物に対して相対的に変化させるためのイオン注入システムおよび方法を提供する。システムは、イオンビームを形成するように構成されたイオン源と、イオンビームを質量分析するように構成された質量分析器と、を有する。ビームスキャナは、イオンビームを第1方向にスキャンするように構成されており、これによってスキャンされたイオンビームを規定する。被加工物支持部は、その上に被加工物を支持するように構成されており、角度注入装置は、スキャンされたイオンビームの入射角度を前記被加工物に対して相対的に変化せるように構成されている。角度注入装置は、1つ以上の角度エネルギフィルタと被加工物支持部に結合可能な機械的装置とを備える。制御器は、角度注入装置を制御し、故に、スキャンされたイオンビームが被加工物に衝突するのと同時に、スキャンされたイオンビームの入射角度を被加工物に対して相対的に変化させる。

公开(公告)号：JP2016152233A

公开(公告)日：2016-08-22

申请号：JP2016028524

申请日：2016-02-18

Applicant: アイシーティー インテグレーテッド サーキット テスティング ゲゼルシャフト フィーア ハルプライタープリーフテヒニック エム ベー ハー

Inventor： マティアス フィルンケス ,  シュテファン ラニオ

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/09 ,  H01J37/05 ,  H01J37/147

CPC classification number: H01J37/1472 ,  H01J2237/151 ,  H01J2237/28

Abstract: 【課題】荷電粒子ビーム装置用の信号荷電粒子偏向装置を提供すること。 【解決手段】信号荷電粒子偏向装置は、信号荷電粒子ビームを偏向させるために構成されたビームベンダ(100)を含み、ビームベンダが信号荷電粒子ビームに対する光路をそれらの間に提供する第1の電極(110)および第2の電極(120)を含み、第1の電極(110)が光路に垂直な平面内に第1の断面を有し、第2の電極(120)が光路に垂直な平面内に第2の断面を有し、第1の断面の第1の部分および第2の断面の第2の部分がそれらの間に光路を提供し、第1の部分および第2の部分は、形状が異なる。 【選択図】図3A

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于带电粒子束装置的信号带电粒子偏转装置。解决方案：信号带电粒子偏转装置包括被配置为偏转信号带电粒子束的光束弯曲器（100）。 光束弯曲机包括为第一和第二电极之间的信号带电粒子束提供光路的第一电极（110）和第二电极（120）。 第一电极（110）在与光路垂直的平面中具有第一横截面，并且第二电极（120）在垂直于光路的平面中具有第二横截面。 第一横截面的第一部分和第二横截面的第二部分提供第一和第二部分之间的光路，并且第一部分和第二部分具有彼此不同的形状。图3A

公开(公告)号：JP5831770B2

公开(公告)日：2015-12-09

申请号：JP2013547512

申请日：2011-12-12

Applicant: バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド

Inventor： ラドバノフ、スベトラナ ,  ケラーマン、ピーター、エル. ,  シンクレア、フランク ,  リンドバーグ、ロバート、シー.

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/147 ,  H01L21/265 ,  H01J37/12

CPC classification number: H01J37/12 ,  H01J37/15 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/121 ,  H01J2237/151

公开(公告)号：JP2014506385A

公开(公告)日：2014-03-13

申请号：JP2013547512

申请日：2011-12-12

Applicant: バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド

Inventor： ラドバノフ、スベトラナ ,  ケラーマン、ピーター、エル． ,  シンクレア、フランク ,  リンドバーグ、ロバート、シー．

IPC: H01J37/12 ,  H01J37/147 ,  H01J37/317 ,  H01L21/265

CPC classification number: H01J37/12 ,  H01J37/15 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/121 ,  H01J2237/151

Abstract: 【解決手段】 静電レンズで荷電粒子ビームの偏向を制御する方法は、中心線軌跡に対して対称である場を形成する未調整電圧が印加される、中心線軌跡に対して対称となる未調整位置に配置されている複数の電極を有する対称静電レンズ構造を構築する段階を備える。 一群の未調整電圧に対応する対称電界を計算する。 複数の下側電極は、中心線軌跡に対して非対称である調整済み位置に配置される。 一群の調整済み電圧は、複数の下側電極について取得され、一群の調整済み電圧は、非対称となる調整済み位置における対称電界の一群の電位に対応する。 調整済み電圧は、荷電粒子ビームが通過する際に非対称レンズ構造に印加される。
【選択図】 図４

公开(公告)号：JP4621621B2

公开(公告)日：2011-01-26

申请号：JP2006099133

申请日：2006-03-31

Applicant: 株式会社東芝

Inventor： 宗博 小笠原

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  H01J37/147 ,  H01J37/305

CPC classification number: H01J37/3174 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/147 ,  H01J2237/03 ,  H01J2237/1504 ,  H01J2237/151

公开(公告)号：JP4215282B2

公开(公告)日：2009-01-28

申请号：JP53469199

申请日：1998-12-14

Applicant: エフ イー アイ カンパニFei Company

Inventor： エム クランス，ヤン ,  ペー セー エム クレイン，マルセリヌス ,  ヘンストラ，アレクサンダ

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/147

CPC classification number: H01J37/28 ,  H01J2237/151 ,  H01J2237/2448

公开(公告)号：JP2007012516A

公开(公告)日：2007-01-18

申请号：JP2005193848

申请日：2005-07-01

Applicant: Jeol Ltd ,  日本電子株式会社

Inventor： TANAKA YUKIHIRO ,  SAITO MANABU

IPC: H01J37/147 ,  G01N23/225 ,  H01J37/244 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01J37/1478 ,  H01J2237/151

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a charged particle beam apparatus which can inspect the side and the back of the periphery of a test piece, and a test piece information detection method using a charged particle beam.
SOLUTION: The charged particle beam apparatus comprises a charged particle beam source 1, an objective lens 5 which focuses a charged particle beam 6 on a test piece 8 placed in a test piece room 15 and irradiates the test piece 8 with the charged particle beam 6, a deflection means 3 between the charged particle beam source 1 and the objective lens 5 for deflecting the charged particle beam 6, and a detector 9 which detects information generated from the test piece 8 responding to the irradiation of the charged particle beam 6. The charged particle beam apparatus has an electrostatic electrode 21 which is placed on the backward side of the objective lens 5 to deflect the charged particle beam 6 passing the objective lens 5, and to irradiate the test piece 8 therewith; and a deflection voltage source 22 to apply a deflection voltage to the electrostatic electrode 21.
COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种可以检查试验片周边的侧面和背面的带电粒子束装置和使用带电粒子束的试件信息检测方法。 带电粒子束装置包括带电粒子束源1，物镜5，其将带电粒子束6聚焦在放置在测试室15中的测试片8上，并将测试片8照射到带电粒子束源 粒子束6，用于偏转带电粒子束6的带电粒子束源1和物镜5之间的偏转装置3，以及检测器9，其检测根据带电粒子束的照射从测试片8产生的信息 带电粒子束装置具有静电电极21，该静电电极21放置在物镜5的后侧，以偏转通过物镜5的带电粒子束6，并照射测试片8; 和偏转电压源22，以向静电电极21施加偏转电压。版权所有（C）2007，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP6155137B2

公开(公告)日：2017-06-28

申请号：JP2013166630

申请日：2013-08-09

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 李　ウェン ,  ウェン 李 ,  涼 門井 ,  涼 門井 ,  源 川野 ,  川野　　源 ,  弘之 高橋 ,  弘之 高橋

IPC: H01J37/147 ,  H01J37/09 ,  H01J37/153 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/28 ,  H01J37/1471 ,  H01J37/265 ,  H01J2237/1504 ,  H01J2237/151 ,  H01J2237/1536

公开(公告)号：JPWO2014184881A1

公开(公告)日：2017-02-23

申请号：JP2015516803

申请日：2013-05-14

Applicant: 株式会社日立製作所

Inventor： 憲之 李 ,  浩之 山本 ,  昭 菅原

IPC: H01J37/20 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J37/3056 ,  H01J37/317 ,  H01J2237/0262 ,  H01J2237/045 ,  H01J2237/12 ,  H01J2237/151 ,  H01J2237/206 ,  H01J2237/31745 ,  H01J2237/31749

Abstract: 広い面積で膜厚の均一な薄片試料や、先端の鋭利な針状試料を加工できる集束イオンビーム加工装置を実現するために、イオン源(1)と、イオン源(1)から引き出されたイオンビーム(2)を集束して試料(5)に照射する電子レンズ(3)と、試料(5)を保持する試料ホルダ(13)とを備えた集束イオンビーム加工装置において、試料ホルダ(13)に、試料(5)を覆うように配置されるシールド電極(7)を設けるとともに、試料(5)とシールド電極(7)を、それぞれ個別に電圧を印加できるように互いに絶縁する。

Abstract translation: 均匀且薄的样品厚度的大面积，从而实现能够处理的尖锐的针状样品尖端的聚焦离子束加工装置，离子源（1），从离子源（1）离子提取 束电子透镜（2）聚焦在照射样品（5）和（3），聚焦离子束处理设备，其包括样品架（13），用于保持一个样品（5），一个样品保持器（13） 在，提供与样品（5）的屏蔽电极，其被布置成覆盖所述（7）中，将样品（5）和所述屏蔽电极（7），彼此绝缘，使得每个可单独施加电压。

公开(公告)号：JP2015035379A

公开(公告)日：2015-02-19

申请号：JP2013166630

申请日：2013-08-09

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ ,  Hitachi High-Technologies Corp

Inventor： RI UEN ,  KADOI RYO ,  KAWANO HAJIME ,  TAKAHASHI HIROYUKI

IPC: H01J37/147 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/28 ,  H01J37/1471 ,  H01J37/265 ,  H01J2237/1504 ,  H01J2237/151 ,  H01J2237/1536

Abstract: 【課題】SEMにおけるイメージシフト機能は、イメージシフトを行うと、そのイメージシフトの方向にイメージシフト量に対応して収差が発生し、そのままでは分解能低下が生じてしまう。【解決手段】ステージに載置した試料上に集束させた電子ビームを照射して走査する電子光学系を備えて試料を撮像する走査型電子顕微鏡と、この走査型電子顕微鏡を制御すると共に走査型電子顕微鏡で撮像して得た画像を処理する画像処理・制御部とを備えた走査型電子顕微鏡を用いた処理装置において、走査型電子顕微鏡の電子光学系は、ステージを停止させた状態で集束させた電子ビームを試料上に照射する位置を移動させて試料の撮像領域をシフトさせる静電電極で構成されたイメージシフト電極を備えて構成した。【選択図】図4

Abstract translation: 要解决的问题：为了解决在SEM中的图像偏移功能中，当执行图像偏移时，在图像偏移的方向上产生像素以对应于图像偏移量，并且分辨率降低为 产生如果保持原样。解决方案：使用扫描型电子显微镜的处理装置包括：扫描型电子显微镜，具有用于照射和扫描放置在具有会聚电子束的台上的样品的电子光学系统，并对样品进行成像 ; 以及控制扫描型电子显微镜的图像处理和控制单元，并且用扫描型电子显微镜处理通过成像获得的图像。 在处理装置中，扫描型电子显微镜的电子光学系统被配置为具有由静电电极构成的图像移动电极，该静电电极通过将会聚的电子束照射在样本上的位置移动样品的成像区域 在舞台停止的状态。