公开(公告)号：KR20210028079A

公开(公告)日：2021-03-11

申请号：KR1020200084493A

申请日：2020-07-09

Applicant: 주식회사 히타치하이테크

Inventor： 게이이치로 호소부치 ,  마사키 미즈오치 ,  슈이치 나카가와 ,  도모타카 시바자키 ,  다카아키 기구치

IPC: H01J37/16 ,  H01J37/147 ,  H01J37/18 ,  H01J37/20 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/22 ,  H01J37/16 ,  H01J37/147 ,  H01J37/1472 ,  H01J37/18 ,  H01J37/20 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/166 ,  H01J2237/1825 ,  H01J2237/20292 ,  H01J2237/24578

Abstract: (과제) 본 개시는, 예비 배기에 수반하여 발생하는 장치에의 영향을 억제하는 것이 가능한 하전 입자선 장치의 제공을 목적으로 한다.
(해결 수단) 상기 목적을 달성하기 위해, 하전 입자선의 조사 대상인 시료 주위의 분위기를 진공 상태로 유지하는 진공 시료실(200)과, 진공 시료실에 도입되는 시료 분위기를 진공으로 하기 위한 진공 펌프가 접속된 예비 배기실(100)을 구비한 하전 입자선 장치로서, 상기 진공 시료실은, 천판(203)을 포함하는 상자 형상체이며, 당해 천판과 당해 천판의 아래쪽에 위치하는 상자 형상체의 측벽(210) 사이에는, 당해 천판과 측벽이 비접촉으로 되는 부분(209)이 포함되어 있는 하전 입자선 장치를 제안한다.

公开(公告)号：JP5878162B2

公开(公告)日：2016-03-08

申请号：JP2013503056

申请日：2011-03-22

Applicant: アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド ,  APPLIED MATERIALS,INCORPORATED

Inventor： ウエンク, カール−ハインリヒ ,  ハッカー, フォルカー

IPC: C23C14/56

CPC classification number: C23C14/568 ,  B29C37/0089 ,  F16K7/10 ,  H01J2237/166 ,  Y10T29/49826

公开(公告)号：JP2012519947A

公开(公告)日：2012-08-30

申请号：JP2011553330

申请日：2010-03-05

Applicant: テトラ ラバル ホールデイングス エ フイナンス ソシエテ アノニム

Inventor： ベネデッティ、パオロ ,  ポッピ、ルカ

IPC: H01J33/04 ,  G21K5/00 ,  G21K5/04 ,  H01J5/18

CPC classification number: H01J9/263 ,  B23K20/02 ,  H01J5/18 ,  H01J9/24 ,  H01J33/04 ,  H01J37/16 ,  H01J2237/04 ,  H01J2237/164 ,  H01J2237/166 ,  Y10T156/10 ,  Y10T428/13

Abstract: 本発明は電子ビーム発生装置の電子出口窓組立体を組立てる方法に関するものであって、この方法は、電子ビーム発生装置のハウジングに箔支持プレート（２０８）を配置する段階と、窓箔（２０６）を少なくとも１本の連続した接着線（２１８）に沿ってフレーム（２１４）に接着して、出口窓副組立体（２１６）を作り上げる段階と、出口窓副組立体（２１６）をハウジングに取付ける段階とを含んで成る。 本発明はまた、電子出口窓組立体にも関するものである。

公开(公告)号：JP4456290B2

公开(公告)日：2010-04-28

申请号：JP2001072451

申请日：2001-03-14

Applicant: アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated

Inventor： ライディング ジオフレイ ,  エイチ． スミック セオドア ,  サカセ タカオ ,  ファーレイ マーヴィン

IPC: F04B37/16 ,  F16C32/06 ,  C23C14/48 ,  C23C14/50 ,  F16C29/02 ,  F16C32/00 ,  H01J37/18 ,  H01J37/317

CPC classification number: F16C29/025 ,  F16C32/0603 ,  F16C32/0618 ,  F16C33/748 ,  F16C2300/62 ,  H01J37/18 ,  H01J2237/166 ,  H01J2237/2006 ,  H01J2237/31701

公开(公告)号：JP2009515322A

公开(公告)日：2009-04-09

申请号：JP2008535507

申请日：2006-04-07

Applicant: インターモレキュラー, インコーポレイテッド

Inventor： トニー ピー． チャン， ,  トーマス アール． ブーシー， ,  トーマス エイチ． マクワイド， ,  デイビッド イー． ラゾフスキ，

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67011 ,  C23C14/54 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/45544 ,  C23C16/4557 ,  C23C16/45578 ,  C23C16/4583 ,  C23C16/46 ,  C23C16/52 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32513 ,  H01J37/32724 ,  H01J2237/166 ,  H01J2237/20228 ,  H01J2237/20235 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/76849 ,  H01L22/20 ,  H01L2924/0002 ,  Y10S438/907 ,  Y10S438/913 ,  Y10T137/8593 ,  H01L2924/00

Abstract: The present invention provides methods and systems for discretized, combinatorial processing of regions of a substrate such as for the discovery, implementation, optimization, and qualification of new materials, processes, and process sequence integration schemes used in integrated circuit fabrication. A substrate having an array of differentially processed regions thereon is processed by delivering materials to or modifying regions of the substrate.

公开(公告)号：JP2008545850A

公开(公告)日：2008-12-18

申请号：JP2008514749

申请日：2006-05-31

Applicant: デュポン パフォーマンス エラストマーズ エルエルシー

Inventor： ジェイムズ ヘラー マーク ,  エル．フィーニー レスリー

IPC: C09K3/10 ,  C23C16/44 ,  H01L21/205 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01J37/32495 ,  H01J2237/166 ,  H01J2237/2005 ,  H01J2237/2006

Abstract: 本発明のシール集成体は、第１および第２の溝と、前記第１の溝内に取り付けられたゴムシールと、前記第２の溝内に除去可能に取り付けられた交換可能なバリアストランドとを有するクロージャ集成体を含み、前記バリアが前記ゴムシールとプラズマ源との間に配置され、それによって前記バリアが前記ゴムシールをプラズマの浸蝕作用から遮蔽する。

公开(公告)号：JP2017520015A

公开(公告)日：2017-07-20

申请号：JP2016566976

申请日：2015-05-01

Applicant: マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ.

Inventor： ビイベルベルク、ヨエプ・ゲラルド ,  プランドゾエン、ローレンス・ビンセント ,  バン・ゲルダー、バス ,  デ・ボア、ギード ,  ダンスベルク、ミヒェル・ピーター

IPC: G03F7/20 ,  H01J37/20 ,  H01J37/305 ,  H01L21/02 ,  H01L21/027

CPC classification number: B25J11/00 ,  G03F7/7075 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70841 ,  G03F9/7096 ,  H01J37/16 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/024 ,  H01J2237/166 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67225 ,  H01L21/67775

Abstract: 本発明は、ターゲット処理マシンを収容するためのアセンブリ(1)に関する。アセンブリは、囲い(2)と搬送ユニット(3)とを有する。囲いは、その上にターゲット処理マシンを配置するためのベースプレート(21)と、ベースプレートに固定された側壁パネル(22)と、側壁パネルに固定された上壁パネル(23)とを有する。さらに、囲いは、囲いの側壁にアクセス開口(24)を含む。搬送ユニットは、ベースプレートに対して搬送ユニットを移動させるための1以上の搬送要素(31)を含む。搬送ユニットは、さらに、アクセス開口を閉じるように配置されたドアパネル(32)を有し、ドアパネルは、少なくとも囲いに向かう、又は囲いから離れる方向への搬送ユニットに対するドアパネルの移動を可能にするたわみ継手(33)によって搬送ユニットに移動可能に装着されている。

公开(公告)号：JP5607153B2

公开(公告)日：2014-10-15

申请号：JP2012517612

申请日：2010-06-18

Applicant: トゥイン・クリークス・テクノロジーズ・インコーポレイテッドTwin Creeks Technologies, Inc.

Inventor： ライディング，ジェフリー ,  スミック，セオドア・エイチ ,  パーサー，ケネス ,  ジレスピー，ジョセフ・ディー ,  グラビッシュ，ヒルトン

IPC: H01J37/317 ,  H01L21/265

CPC classification number: H01J37/3171 ,  H01J37/05 ,  H01J37/08 ,  H01J37/20 ,  H01J2237/057 ,  H01J2237/061 ,  H01J2237/082 ,  H01J2237/166 ,  H01J2237/2001 ,  H01J2237/2006 ,  H01J2237/201 ,  H01J2237/202

公开(公告)号：JP2014053073A

公开(公告)日：2014-03-20

申请号：JP2012194664

申请日：2012-09-05

Applicant: Hitachi High-Technologies Corp ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： SAKUMA NORIYUKI ,  OMINAMI YUSUKE

IPC: H01J37/18 ,  H01J37/16 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/20 ,  H01J37/16 ,  H01J37/18 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/0203 ,  H01J2237/063 ,  H01J2237/164 ,  H01J2237/166 ,  H01J2237/18 ,  H01J2237/1825 ,  H01J2237/2006 ,  H01J2237/202 ,  H01J2237/2605 ,  H01J2237/2608 ,  H01J2237/2801

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a charged particle beam device which can perform observation of a sample in a non-vacuum state and stably capture an observation image with high resolution.SOLUTION: A member 56 for a charged particle beam device used for a charged particle beam device 1c includes a housing 55 which is attached to a housing 3c, and a barrier membrane element 18a which is provided in the housing 55. In the barrier membrane element 18a, a barrier membrane 19 which airtightly separates the inside and the outside of a vacuum chamber 4a in a state where the pressure of the inside of the vacuum chamber 4a partitioned by the housing 3c and the housing 55 is decompressed to the level lower than the pressure of the outside, and allows a charged particle beam to be transmitted therethrough is formed. In the barrier membrane element 18a, a buffer film 33 which prevents contact between a sample 12 and the barrier membrane 19 is formed on a position closer to a sample stage 22 side than the barrier membrane 19.

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够以非真空状态观察样品并且以高分辨率稳定地捕获观察图像的带电粒子束装置。解决方案：用于带电粒子束装置的构件56 粒子束装置1c包括附接到壳体3c的壳体55和设置在壳体55中的阻挡膜元件18a。在隔离膜元件18a中，阻挡膜19将气密地分离内侧和外侧 在由壳体3c和壳体55分隔的真空室4a的内部的压力被减压到低于外部压力的水平的状态下的真空室4a，并且允许带电粒子束穿过其中 形成了。 在隔离膜元件18a中，在比隔离膜19更靠近样品台22侧的位置处形成防止样品12与阻挡膜19接触的缓冲膜33。

公开(公告)号：JP2013532354A

公开(公告)日：2013-08-15

申请号：JP2013512609

申请日：2011-05-26

Applicant: アクセリス テクノロジーズ, インコーポレイテッド

Inventor： リー，ウィリアム ,  ディヴァージリオ，ウィリアム ,  ドラモンド，スティーヴ

IPC: H01J37/317 ,  H01L21/265

CPC classification number: H01J37/20 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/166 ,  H01J2237/2001 ,  H01J2237/20214

Abstract: ワークピース走査システムは、第１の軸周りに回転する走査アームと、ワークピースを選択的に固定するための、第２の軸周りに上記走査アームに回転自在に連結された冷却されるエンドエフェクタと、を備えて提供される。 冷却されるエンドエフェクタは、クランピングプレートとこのクランピングプレートを冷却する１つ以上の冷却機構とを有する。 軸受けは、第２の軸に沿って配置され、エンドエフェクタを走査アームに回転自在に連結させ、シールは、上第２の軸に沿って配置され、外部環境と内部環境との間に圧力障壁を提供する。 軸受けとシールとのうちの１つ以上は、それに連帯する磁性流体を有していてもよい。 ヒータアッセンブリは、軸受けとシールとに近接して配置され、ここで、ヒータアッセンブリは、軸受けおよびシールへの所定量の熱を選択的に提供し、その結果、第２の軸周りを回転するようにエンドエフェクタの傾きを増加させる。