公开(公告)号：JP2016075574A

公开(公告)日：2016-05-12

申请号：JP2014206015

申请日：2014-10-06

Applicant: キヤノン株式会社

Inventor： 教學 正文

IPC: H01J49/26 ,  H01J49/40 ,  G01N27/62

CPC classification number: H01J37/261 ,  H01J37/256 ,  H01J49/0004 ,  H01J2237/248 ,  H01J2237/2527

Abstract: 【課題】 観察領域を移動させながら観察するときに、観察領域の移動に追随して迅速に解析結果を表示することが可能となる質量顕微鏡装置を提供する。 【解決手段】 質量顕微鏡装置100は、観察領域32に含まれる試料31からイオン33を発生させるイオン化部1と、イオン化部1によって発生させたイオン33の質量分析を行う質量分析部2と、観察領域32を移動させる移動手段4と、移動手段4とイオン化部1または質量分析部2とを連動可能に制御する制御部6と、を有する。制御部6は、移動手段4により観察領域32を移動させて順次計測する観察領域32の移動時と、観察領域32を静止させて計測する観察領域32の静止時とで、異なる計測条件に切り替えるように、イオン化部1または質量分析部2または移動手段4を制御する。 【選択図】 図1

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种质量显微镜装置，其能够在观察观察时观察区域的移动后快速显示分析结果。解调：质量显微镜装置100具有：产生离子的离子化单元1 33包括在观察区域32中的样本31; 实现由电离单元1产生的离子33的质量分析的质量分析单元2; 使观察区域32移动的移动单元4; 以及以能够互锁的方式控制移动装置4和电离单元1或质量分析单元2的控制单元6。 控制单元6被配置为控制电离单元1，质量分析单元2或移动装置4，以便在观察区域32的运动时间之间切换到不同的测量条件，以通过使运动装置 4以通过固定观察区域32移动观察区域32和待测量的观察区域32的固定时间。图1

公开(公告)号：JP2016054152A

公开(公告)日：2016-04-14

申请号：JP2015211726

申请日：2015-10-28

Applicant: サントル・ナショナル・ドゥ・ラ・ルシェルシュ・シャンティフィク ,  CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE ,  ユニヴェルシテ パリ−シュッド 11 ,  UNIVERSITE PARIS−SUD 11

Inventor： コチアック,マシュー ,  ザゴネル,ルイス,フェルナンド ,  テンス,マーセル ,  マズッコ,ステファノ

IPC: H01J37/252 ,  H01J37/26 ,  H01J37/28 ,  H01J37/18 ,  H01J37/20 ,  G01N21/62 ,  H01J37/244

CPC classification number: H01J37/244 ,  H01J37/023 ,  H01J37/228 ,  H01J37/256 ,  H01J37/26 ,  H01J2237/024 ,  H01J2237/2482

Abstract: 【課題】簡単且つ安価にメンテナンスできるカソードルミネッセンス検出システムを提供する。 【解決手段】真空チャンバ内に配置されて、荷電粒子ビーム104によって照射されるサンプル106から出る光放射線108を集光して分析手段118へ送る集光光学系112と、集光光学系112のダウンストリームに配置されて、分析手段118の入力部における光放射線108を調整する光放射線調整手段とを有しているカソードルミネッセンス検出システム110において、光放射線調整手段の全部又は一部が、真空チャンバ内の圧力よりも高い圧力の環境内に配置される。 【選択図】図1

Abstract translation: 要解决的问题：提供阴极发光检测系统，其维护可以简单且廉价地进行。解决方案：阴极发光检测系统110包括：集中光学元件112，布置在真空室中并收集来自样品106的光辐射108 由带电粒子束104辐射并将辐射发射到分析装置118上; 以及放置在收集光学元件112下游并被设计成在分析装置118的输入单元处调节光辐射108的光辐射调节装置。在阴极发光检测系统中，将全部或部分光辐射调节装置放置在环境中 其中压力高于真空室中的压力。选择图：图1

公开(公告)号：JP2012008145A

公开(公告)日：2012-01-12

申请号：JP2011210846

申请日：2011-09-27

Applicant: Fei Co ,  エフ イー アイ カンパニFei Company

Inventor： ROBERT L JARAK ,  CHRISTMAN ROCK ,  MARK UTLAUT

IPC: G01N27/62 ,  G01N23/225 ,  G01Q60/00 ,  H01J27/26 ,  H01J37/08 ,  H01J37/252 ,  H01J37/256 ,  H01J49/14

CPC classification number: G01N23/225 ,  H01J37/256 ,  H01J2237/2527 ,  H01J2237/31744 ,  Y10S977/843 ,  Y10S977/881 ,  Y10S977/891 ,  Y10S977/895 ,  Y10S977/949

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To increase sensitivity of an SMIS system.SOLUTION: The sensitivity of a secondary ion mass spectrometer (SIMS) is increased by using steam in order to raise yield of a positive secondary ion to be sputtered by a primary convergence ion beam. The steam is positioned near a sample and injected through a needle to be electrically biased in order to reduce interference with a collection field of the secondary ion. The sensitivity is raised especially to metal in a tendency to be sputtered as the positive ion.

Abstract translation: 要解决的问题：提高SMIS系统的灵敏度。

解决方案：通过使用蒸汽来提高二次离子质谱仪（SIMS）的灵敏度，以提高由主会聚离子束溅射的正二次离子的产率。 蒸汽位于样品附近并通过针注射以被电偏置，以减少对二次离子的收集场的干扰。 敏感性特别提高到金属，作为正离子溅射的倾向。 版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2011520126A

公开(公告)日：2011-07-14

申请号：JP2011508679

申请日：2009-05-07

Applicant: ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation

Inventor： チャオ・グオヘン ,  ナサー・ゴシ・メヘラーン ,  バエズ−イラバニ・メヘディ

IPC: G01N23/227

CPC classification number: H01J37/244 ,  G01N2223/079 ,  G01N2223/086 ,  G01N2223/33 ,  H01J37/256 ,  H01J2237/24495 ,  H01J2237/2511 ,  H01J2237/2807

Abstract: A spectrometer having an electron beam generator for generating an electron beam that is directed at a sample. An electron beam positioner directs the electron beam onto a position of the sample, and thereby produces a secondary emitted stream from the sample, where the secondary emitted stream includes at least one of electrons and x-rays. An secondary emitted stream positioner positions the secondary emitted stream onto a detector array, which receives the secondary emitted stream and detects both the amounts and the received positions of the secondary emitted stream. A modulator modulates the electron beam that is directed onto the sample, and thereby sweeps the electron beam between a first position and a second position on the sample. An extractor is in signal communication with both the modulator and the detector array, and extracts a differential signal that represents a difference between the signals that are received from the first position and the signals that are received from the second position.

公开(公告)号：JP2011040384A

公开(公告)日：2011-02-24

申请号：JP2010178163

申请日：2010-08-06

Applicant: Carl Zeiss Nts Gmbh ,  カール・ツァイス・エヌティーエス・ゲーエムベーハーCarl Zeiss NTS GmbH

Inventor： MANTZ HUBERT ,  ARNOLD RAINER ,  ALBIEZ MICHAEL

IPC: H01J37/244 ,  G01N23/225 ,  H01J37/22 ,  H01J37/252 ,  H01J37/28 ,  H01J37/317

CPC classification number: G01N23/2252 ,  H01J37/222 ,  H01J37/244 ,  H01J37/256 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/226 ,  H01J2237/2442 ,  H01J2237/24465 ,  H01J2237/2448

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inspection method for obtaining information on the structure of a sample by using a particle beam, the inspection method obtaining information on the sample from electrons and X-rays emitted from the sample; and to provide an inspection device thereof.
SOLUTION: The inspection method includes the steps of: focusing a particle beam onto a sample; operating at least one detector disposed adjacent to the sample; assigning detection signals generated by the at least one detector to different intensity intervals; determining, based on the detection signals assigned to the intensity intervals, at least one first signal component related to electrons incident on the detector; and determining, based on the detection signals assigned to the intensity intervals, at least one second signal component related to X-rays incident on the detector.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种通过使用粒子束获得样品的结构的信息的检查方法，该检查方法从电子获取样品的信息和从样品发射的X射线; 并提供其检查装置。 解决方案：检查方法包括以下步骤：将粒子束聚焦到样品上; 操作邻近样品设置的至少一个检测器; 将由所述至少一个检测器产生的检测信号分配给不同的强度间隔; 基于分配给所述强度间隔的检测信号，确定与入射到所述检测器上的电子有关的至少一个第一信号分量; 以及基于分配给所述强度间隔的检测信号，确定与入射在所述检测器上的X射线有关的至少一个第二信号分量。 版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2010530533A

公开(公告)日：2010-09-09

申请号：JP2010512769

申请日：2008-06-20

Applicant: オックスフォード インストルメンツ アナリティカル リミテッド

Inventor： ピーター ジョン ステイサム ,  イアン リチャード バークシャー

IPC: G01N23/225

CPC classification number: G01N23/2252 ,  H01J37/244 ,  H01J37/256 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/24495 ,  H01J2237/2804 ,  H01J2237/2807

Abstract: 【課題】材料の定量分析の方法。
【解決手段】材料上に電子ビームを衝突させる材料の定量分析の方法及び装置を説明する。 この方法は、電子ビームとの相互作用による、材料の第一の領域から受け取った低損失電子（ＬＬＥ）を検出し、対応するＬＬＥデータを生成するステップを含む。 この方法はさらに、電子ビームとの相互作用による、材料の第一の領域と重なる第二の領域から受け取ったＸ線を検出し、対応するＸ線データを生成し、ＬＬＥデータをＸ線データと一緒に分析して第一の領域の組成を表す組成データを生成するステップを含む。
【選択図】図９

公开(公告)号：JP2008300354A

公开(公告)日：2008-12-11

申请号：JP2008140671

申请日：2008-05-29

Applicant: Fei Co ,  エフ イー アイ カンパニFei Company

Inventor： BANCARZ DARELL ,  FABER JACOB S

IPC: H01J37/20

CPC classification number: G02B21/0016 ,  H01J37/026 ,  H01J37/20 ,  H01J37/228 ,  H01J37/256 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/2482

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To solve a problem being unsuitable for use in an electron microscope, since conventional microscope slides are charged due to incidence of charged particle beams when it is observed in the electron microscope, in about a relation to the use of the optical microscope slide (10) in a charged particle device such as an electron microscope or a focused ion beam device.
SOLUTION: However, a microscope slide coated with a conductive layer such as Indium Tin Oxide (ITO) exists. The microscope slide is normally used for heating an object mounted on it by flowing a current through the conductive layer. Experiments show that these microscope slides can be used advantageously in a charged particle device by connecting the conductive layer to ground potential, thereby forming a return path for the incident charged particles, thus preventing charging. Furthermore, the invention also relates to a charged particle device equipped with an optical microscope (130).
COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：为了解决不适合用于电子显微镜的问题，由于在电子显微镜中观察时由于带电粒子束的入射而导致常规的显微镜载片带电，所以与使用有关 的光学显微镜载玻片（10）在电子显微镜或聚焦离子束装置等带电粒子装置中。 但是，存在涂覆有诸如氧化铟锡（ITO）的导电层的显微镜载玻片。 显微镜幻灯片通常用于通过使电流流过导电层来加热安装在其上的物体。 实验表明，这些显微镜载玻片可以通过将导电层连接到接地电位而有利地用于带电粒子装置，从而形成用于入射的带电粒子的返回路径，从而防止充电。 此外，本发明还涉及装备有光学显微镜（130）的带电粒子装置。 版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP4022512B2

公开(公告)日：2007-12-19

申请号：JP2003385678

申请日：2003-11-14

Applicant: Tdk株式会社

Inventor： 和香子 大川 ,  克昭 柳内

IPC: G01N23/225 ,  H01J37/20 ,  H01J37/22 ,  H01J37/244 ,  H01J37/252 ,  H01J37/256

CPC classification number: H01J37/256 ,  G01N23/225 ,  H01J2237/2527

Abstract: The method of measuring crystallographic orientations, crystal systems or the like of the surface of a specimen has steps of: irradiating the specimen with an ion beam; measuring the secondary electrons generated by the irradiation of the ion beam; repeating the irradiation of the ion beam and the measurement of the secondary electrons with each variation in an angle of incidence of the ion beam with respect to the specimen; and determining the crystalline state based on the variation in the amount of the secondary electrons corresponding to the variation of the angle of incidence.

公开(公告)号：JP3888980B2

公开(公告)日：2007-03-07

申请号：JP2003073932

申请日：2003-03-18

Applicant: 株式会社日立ハイテクサイエンスシステムズ ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 武夫 上野 ,  紀恵 矢口 ,  佳史 谷口

IPC: G01N23/225 ,  G01N23/20 ,  H01J37/252 ,  H01J37/256 ,  H01J37/26 ,  H01J37/295

CPC classification number: G01N23/2252 ,  G01N23/20 ,  H01J37/244 ,  H01J37/256 ,  H01J37/28

Abstract: An electron beam device is provided with an electron beam diffraction image analysis section (3) for calculation of the lattice distance from the diffraction image taken by a TV camera (10) for observation of the electron beam diffraction image, an EDX analysis section (9) for acquiring a composition of the material, a data base for retrieval of material characterization, and a material characterization section (4) having the data base retrieval function. The material characterization section characterizes the material by retrieving the retrieval data base, based upon the lattice distance data transferred from the electron beam diffraction image analysis section and the element data transferred from the EDX analysis section.

公开(公告)号：JP2004340652A

公开(公告)日：2004-12-02

申请号：JP2003135265

申请日：2003-05-14

Applicant: Hitachi High-Technologies Corp ,  Hitachi Ltd ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ ,  株式会社日立製作所

Inventor： TAKAGUCHI MASANARI ,  TOKIDA RURIKO

IPC: G01N23/22 ,  G01N23/225 ,  G01T1/161 ,  G01T1/172 ,  G21K1/00 ,  G21K5/00 ,  G21K5/04 ,  H01J37/147 ,  H01J37/256 ,  H01J37/26 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/256 ,  G01N23/2252 ,  H01J37/26 ,  H01J2237/2807

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To inspect the position, number, size and the like of the microflaw in a solid material of every kind inclusive of a semiconductor device or a metal material at a high speed with special resolving power with a nanometer order. SOLUTION: A converged electron beam device is loaded with a positive electron irradiating function, and flaw position data, converged electron beam position data and the number of flaws or the size of a flaw are obtained from the detection data of γ rays generated by the pair extinction of electrons and positive electrons, and these two-dimensional distribution data are displayed on a monitor. COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI