公开(公告)号：KR102234464B1

公开(公告)日：2021-03-30

申请号：KR1020187024379A

申请日：2014-08-11

Applicant: 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드

Inventor： 수산트 에스. 코쉬티 ,  딘 씨. 루제크 ,  아이안 마줌다르 ,  존 씨. 멘크 ,  헬더 티. 리 ,  상그람 파틸 ,  산제이 라자람 ,  더글라스 바움가르텐 ,  니르 메리

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/66 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67772 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67253 ,  H01L22/30

Abstract: 팩토리 인터페이스의 환경 제어를 포함하는 전자 디바이스 프로세싱 시스템들이 설명된다. 하나의 전자 디바이스 프로세싱 시스템은, 팩토리 인터페이스 챔버를 갖는 팩토리 인터페이스, 팩토리 인터페이스에 커플링된 로드 락 장치, 팩토리 인터페이스에 커플링된 하나 또는 그 초과의 기판 캐리어들, 및 팩토리 인터페이스에 커플링된 환경 제어 시스템을 가지며, 환경 제어 시스템은, 팩토리 인터페이스 챔버 내의, 상대 습도, 온도, 산소의 양, 또는 비활성 가스의 양 중 하나를 모니터링하거나 또는 제어하도록 동작한다. 다른 양상에서, 팩토리 인터페이스 챔버 내의 캐리어 퍼지 챔버의 퍼징이 제공된다. 기판들을 프로세싱하기 위한 방법들이 설명되고, 다수의 다른 양상들이 설명된다.

公开(公告)号：KR102227862B1

公开(公告)日：2021-03-15

申请号：KR1020197022699A

申请日：2018-01-11

Applicant: 무라다기카이가부시끼가이샤

Inventor： 유우 쿠사마 ,  후미키 고토

IPC: H01L21/673 ,  B65G1/00

CPC classification number: H01L21/67017 ,  B65G1/04 ,  B65G1/00 ,  H01L21/673 ,  H01L21/67366 ,  H01L21/67393 ,  H01L21/67396 ,  H01L21/67772 ,  H01L21/67775 ,  F24F3/167 ,  H01L21/67379 ,  H01L21/67389 ,  H01L21/67769

Abstract: 보관 영역에 효율적으로 에어 플로우를 형성하여 보관 영역의 청정도를 확보한다. 스토커(100)는, 스토커 내외를 구획하는 벽부(11)와, 벽부(11)의 내측에 배치되어, 물품(M)이 보관되는 보관 영역(12)과, 보관 영역(12)의 벽부(11)측에 배치되어, 상하 방향으로 연장되는 덕트(13)와, 덕트(13)의 상단에 마련되어, 하방을 향해 흐르는 공기를 덕트(13)에 도입하는 도입구(13a)와, 덕트(13)의 상측과 하측 사이의 공기의 유통을 규제하는 유통 규제부(13b)와, 덕트(13)의 보관 영역(12)측에 마련되어, 보관 영역(12)로 공기를 분출하는 분출구(13c, 13d)와, 덕트(13) 중 유통 규제부(13b)의 하측에 마련되어, 외부의 공기를 흡인하여 덕트(13) 내에 도입하는 팬(14)을 구비한다.

公开(公告)号：KR20210025232A

公开(公告)日：2021-03-09

申请号：KR1020190104947A

申请日：2019-08-27

Applicant: 주식회사 테크엑스

Inventor： 엄태환

IPC: H01L21/677 ,  F16K3/30 ,  F16K31/04 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67772 ,  F16K3/30 ,  F16K31/046 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/67742

Abstract: 본 발명은 반도체 제조장치를 제공한다. 상기 반도체 제조장치는 기판 이송 경로를 이루는 게이트를 갖는 이송 챔버; 및, 상기 게이트에 탈착 가능하게 배치되며, 상기 기판 이송 경로를 따라 이송되는 기판의 존재 유무를 감지하는 기판 감지 센서들을 갖는 센서부;를 포함한다. 이를 통해 본 발명은 기판을 감지하는 센서 모듈을 이송 챔버의 게이트에서 탈착 방식으로 교체 가능하도록 하여 센서의 유지 보수를 용이하게 이룰 수 있다.

公开(公告)号：JPWO2017134853A1

公开(公告)日：2018-12-06

申请号：JP2016077843

申请日：2016-09-21

Applicant: 株式会社国際電気セミコンダクターサービス ,  株式会社KOKUSAI ELECTRIC

Inventor： 三好 秀幸 ,  藤井 悟史

IPC: H01L21/22 ,  H01L21/677 ,  C23C16/44 ,  H01L21/31

CPC classification number: H01L21/67769 ,  C23C16/44 ,  H01L21/02 ,  H01L21/22 ,  H01L21/31 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67265 ,  H01L21/677 ,  H01L21/67754 ,  H01L21/67772 ,  H01L21/67781

Abstract: 基板保持具に保持された基板を処理する処理室と、処理室内に基板保持具を搬送する搬送機構と搬送機構に基板保持具を移送する移送機構とが内部に配置され、処理室と連通可能に構成された準備室と、を有し、移送機構は、基板保持具を脱着する準備室の外部の脱着位置と、搬送機構に基板保持具を移載する準備室の内部の受け渡し位置と、の間で、基板を保持した一又は複数の基板保持具を移送するよう構成される。

公开(公告)号：JP2018522398A

公开(公告)日：2018-08-09

申请号：JP2017559108

申请日：2016-05-10

Applicant: ベシ ネーデルランズ ビー.ヴイ. ,  BESI NETHERLANDS B.V.

Inventor： ベンローイ,ヨハネス ランベルトゥス ヘラルダス マリア ,  クレイビュルフ,イェルーン

IPC: B21D53/00 ,  H01L21/56

CPC classification number: H01L21/6719 ,  B29C43/18 ,  B29C43/34 ,  B29C43/50 ,  B29C43/58 ,  B29C45/0084 ,  B29C45/03 ,  B29C45/14655 ,  B29C2043/182 ,  B29K2063/00 ,  B29L2031/3406 ,  H01L21/67126 ,  H01L21/67772 ,  H01L21/67778

Abstract: 本発明は、少なくとも3つの個別のシステムモジュールを有する電子部品を成形するためのモジュールシステムであって、このシステムモジュールが、電子部品を成形するためのプレスモジュール、成形すべき電子部品をカセットからプレスモジュールに装入するためのローダーモジュールと、他のシステムモジュールの各々を少なくとも部分的に制御するように構成されたサービスモジュールを含む、モジュールシステムに関する。また、このようなモジュールシステムを組み立てるためのパーツキットに関する。 【選択図】 図4

公开(公告)号：JP6326330B2

公开(公告)日：2018-05-16

申请号：JP2014181104

申请日：2014-09-05

Applicant: 株式会社SCREENホールディングス

Inventor： 本庄 一大 ,  高橋 光和 ,  波多野 章人 ,  橋本 光治

IPC: B65D85/86 ,  H01L21/673

CPC classification number: H01L21/67309 ,  B65D43/0202 ,  B65D85/30 ,  H01L21/67369 ,  H01L21/67373 ,  H01L21/67383 ,  H01L21/67393 ,  H01L21/67772

公开(公告)号：JP2018046236A

公开(公告)日：2018-03-22

申请号：JP2016181762

申请日：2016-09-16

Applicant: 東京エレクトロン株式会社

Inventor： 佐々木 勇治

IPC: H01L21/673

CPC classification number: H01L21/67389 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67393 ,  H01L21/67754 ,  H01L21/67757 ,  H01L21/67769 ,  H01L21/67772

Abstract: 【課題】基板保管器内の酸素濃度を適切に管理できる基板処理装置及び基板移送方法を提供する。 【解決手段】基板を収納した基板保管器を、基板保管器保管棚に一時的に保管する工程S100と、基板保管器保管棚に保管された基板保管器の内部にパージガスを供給する工程S120と、基板保管器の内部に供給された該パージガスの積算流量を算出する工程と、基板を移送載置部に載置する工程S140と、移送載置部に載置された基板保管器の内部の酸素濃度を、パージガスの積算流量に基づいて算出し、酸素濃度が所定の閾値以下の場合には、基板保管器を隔壁に密着させた状態で開放させて基板を基板搬送領域内に移送し、酸素濃度が前記所定の閾値を超える場合には、基板保管器の内部にパージガスを供給し、基板保管器の内部の酸素濃度が所定の閾値以下となってから基板を基板搬送領域に移送する工程S170と、を有する 【選択図】図8

公开(公告)号：JP2018037559A

公开(公告)日：2018-03-08

申请号：JP2016170312

申请日：2016-08-31

Applicant: 東京エレクトロン株式会社

Inventor： 西野 徹 ,  飯島 清仁 ,  石澤 繁

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67294 ,  B65G2201/0297 ,  G05B19/41865 ,  G05B19/4189 ,  G05B2219/31276 ,  G05B2219/32173 ,  G05B2219/32174 ,  G05B2219/45031 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67265 ,  H01L21/67276 ,  H01L21/67727 ,  H01L21/6773 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67745 ,  H01L21/67769 ,  H01L21/67772 ,  H01L21/67775 ,  Y02P90/28 ,  Y10S134/902 ,  Y10S414/14

Abstract: 【課題】種別毎の基板の処理及び搬送を適正化することを目的とする。 【解決手段】基板を収納した基板収納容器をロードポートに載置し、載置した前記基板収納容器に収納された基板の種別を自動判別し、種別毎に基板の搬送条件に関するパラメータデータを記憶する記憶部を参照して、自動判別した前記基板の種別に対応するパラメータデータに基づき前記基板収納容器に収納された基板の搬送を制御して基板を処理する、基板処理方法が提供される。 【選択図】図5

公开(公告)号：JP6275824B2

公开(公告)日：2018-02-07

申请号：JP2016508804

申请日：2015-03-19

Applicant: 株式会社日立国際電気

Inventor： 野上 孝志 ,  谷山 智志 ,  吉岡 一真

IPC: H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67265 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/67769 ,  H01L21/67772 ,  H01L21/67775

公开(公告)号：JP2018018882A

公开(公告)日：2018-02-01

申请号：JP2016146276

申请日：2016-07-26

Applicant: 株式会社日立国際電気

Inventor： 西堂 周平 ,  ▲うるし▼原 美香 ,  岡嶋 優作

IPC: C23C16/44 ,  H01L21/31

CPC classification number: H01L21/443 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67126 ,  H01L21/67772 ,  H01L21/823878

Abstract: 【課題】処理容器下方への副生成物の付着を抑制する。 【解決手段】断熱部24の上方に設置され、複数枚の基板を保持する基板保持具としてのボート26と、基板を処理する処理室を内部に有する処理容器13と、処理容器の下端開口を閉塞する蓋部22と、断熱部と蓋部との間隙を介して処理容器下方にパージガスを供給するパージガス供給部と、を有し、断熱部と蓋部との間隙には、処理容器下方の一部分に対するパージガスの供給流量を、他の部分に対するパージガスの供給流量よりも多くするようにパージガスの流れを規制する規制部62を設置する。 【選択図】図1