パルス生成装置
    6.
    发明专利

    公开(公告)号:JPWO2016190255A1

    公开(公告)日:2018-04-12

    申请号:JP2017520688

    申请日:2016-05-20

    发明人: 廣畑 貴文

    IPC分类号: H01L29/82 H01L43/08 H03K3/59

    CPC分类号: H01L29/82 H01L43/08 H03K3/59

    摘要: パルス生成装置10は、基板24と、基板24上に設けられ、強磁性体からなるスピン注入子14と、基板24上に設けられ、強磁性体からなり、第1軸の方向が磁化容易軸となる磁気異方性を有するスピン回転子18と、スピン注入子14及びスピン回転子18と直接又は絶縁層を介して接合された非磁性体からなるチャネル部12と、スピン回転子18の磁気モーメントMが第1軸L1の一方を向いた状態から第1軸L1の他方を向いた状態へ反転する際に、スピン回転子18の磁気モーメントMが第1軸L1と直交する第2軸L2に沿って向いた状態を検出することによって、パルスを生成する生成部30とを備える。