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公开(公告)号:JP2021030352A
公开(公告)日:2021-03-01
申请号:JP2019152015
申请日:2019-08-22
申请人: パナソニックIPマネジメント株式会社
摘要: 【課題】放電加工中に断線が発生しにくく、かつ、放電加工に要する時間を短くすることができる放電加工用ワイヤを提供する。 【解決手段】放電加工用ワイヤは、セリウム酸化物を0.2wt%以上0.4wt%以下の含有率で含有するタングステン線を備え、タングステン線の表面粗さRzは、0.6μm以上2.0μm以下である。 【選択図】図1
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公开(公告)号:JP6829213B2
公开(公告)日:2021-02-10
申请号:JP2017564789
申请日:2016-12-02
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公开(公告)号:JP3222358U
公开(公告)日:2019-07-25
申请号:JP2019001740
申请日:2019-05-16
摘要: 【課題】無電解液の廃水排出の問題がなく、環境汚染を大幅に低下させられ、スプレーメッキ方式を採用するため、製造時間を大幅に低下させることができるワイヤー切断機に使用する金属線の構造を提供する。 【解決手段】金属線の構造は芯線10、披覆層20を備え、芯線は亜鉛含量が40%以下の真鍮線で、披覆層はスプレーメッキにより芯線表層に付着し、披覆層は2種或いは2種以上の亜鉛含量がそれぞれ75%以上のメッキ層基材顆粒21a、21bがスタッキングして構成され、披覆層上に裂痕或いは凹洞の構造Cを形成する。 【選択図】図6
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公开(公告)号:JPWO2016110963A1
公开(公告)日:2017-10-12
申请号:JP2016534745
申请日:2015-01-07
申请人: 日立金属株式会社
发明人: 辻 隆之 , 隆之 辻 , 黒田 洋光 , 洋光 黒田 , 哲哉 徳光 , 哲哉 徳光 , 木村 孝光 , 孝光 木村 , 洋輔 芝 , 洋輔 芝 , 寛 松崎 , 寛 松崎 , 裕一 小室 , 裕一 小室 , 慎悟 雨宮 , 慎悟 雨宮
IPC分类号: B23H7/08
CPC分类号: B23H7/08 , B23K35/0227 , B23K35/0244 , B23K35/302 , B23K35/404 , C22C9/04 , C22C18/00 , C22F1/165
摘要: 芯材の外周に亜鉛被覆を有する放電加工用電極線において放電加工の際の摩耗粉の発生が抑制され、かつ折れ脆さが改善された放電加工用電極線及びその製造方法を提供する。放電加工用電極線(10)は、銅又は銅合金からなる芯材(1)の外周が亜鉛を含む被覆層(2)により被覆されており、被覆層(2)は、銅−亜鉛系合金であるε相のみからなる最外層(2B)を有し、最外層(2B)は、ビッカース硬度が200〜300Hvである。
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公开(公告)号:JP6089129B2
公开(公告)日:2017-03-01
申请号:JP2016035869
申请日:2016-02-26
IPC分类号: B23H7/08
CPC分类号: B23H1/06 , B21C1/003 , B21C37/042 , B23H1/04 , B23H7/08 , C23C2/06 , C23C2/08 , C23C2/12 , C23C2/26 , C23C2/28 , C23C2/38 , Y10T29/49213 , Y10T29/49224 , Y10T428/14 , Y10T428/1438 , Y10T428/1443 , Y10T428/249953 , Y10T428/28
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公开(公告)号:JP6029778B1
公开(公告)日:2016-11-24
申请号:JP2015563189
申请日:2015-04-21
IPC分类号: B23H7/08
CPC分类号: B23H7/24 , B21C1/02 , B21C23/08 , B22D21/005 , B22D25/02 , B23H7/08 , C22C1/02 , C22C18/02 , C22C9/04 , C22F1/08 , C22F1/165 , C23G1/103 , C23G1/24 , C25D3/22 , C25D5/34 , C25D5/50 , C25D7/0607
摘要: 本発明は、高精度亜鉛基合金電極線に関し、そのシェル層中の各成分の構成は、質量パーセントで、Znが70.5〜95%、Cuが2.5〜27%、Xが0.02〜4.0%、Yが0.002〜0.4%で、その他は原材料に付随する不可避の不純物である。そのうち、Xは、Ni、Ag、Cr、Si、Zrのうちの任意の2種類の金属で、当該2種類の金属の含量範囲はいずれも0.01〜2.0%である。Yは、Ti、Al、Co、B、Pのうちの任意の2種類の元素で、当該2種類の元素の含量範囲はいずれも0.001〜0.2%である。シェル層の構造のうちε相の含量は80wt%以上で、その残量はγ相又はη相である。本発明は、当該電極線の製造方法についても開示しており、先行技術と比べて、本発明の電極線でカット処理をした金属ワークは、表面平滑度が高く、表面の品質もよいため、カット精度が高くなっている。また、本発明の電極線は、製造プロセスが簡単で、実施可能性が高く、製造ステップも少なく、生産の大規模化、自動化を実現しやすい。 【選択図】図3
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