炭素ナノ構造体成長用装置及び炭素ナノ構造体の製造方法

    公开(公告)号:JP2020076113A

    公开(公告)日:2020-05-21

    申请号:JP2018207961

    申请日:2018-11-05

    发明人: 中野 美尚

    摘要: 【課題】前処理室への原料ガスの流入を確実に抑え、良質な炭素ナノ構造体を確実に処理対象物上に形成する。 【解決手段】炭素ナノ構造体成長用装置では、昇温室は、第1不活性ガスが導入され、処理対象物を昇温する。成長室は、炭素を含む原料ガスが導入され、処理対象物及び原料ガスを加熱する加熱機構を有する。排気室は、昇温室と成長室との間に配置され、昇温室と第1スリットを通じて連通し、成長室と第2スリットを通じて連通し、昇温室から第1スリットを介して漏出するガスと、成長室から第2スリットを介して漏出するガスとを排気する。ガス導入機構は、昇温室に第2不活性ガスを導入し、第1スリット内に向けて第2不活性ガスを噴射する。搬送機構は、昇温室、第1スリット、排気室、第2スリット、及び成長室の順に処理対象物が通過するように処理対象物を搬送する。 【選択図】図1

    カーボンナノチューブ含有スラリーの製造方法

    公开(公告)号:JP2019127414A

    公开(公告)日:2019-08-01

    申请号:JP2018009771

    申请日:2018-01-24

    发明人: 田中 泰法

    IPC分类号: C01B32/168 C01B32/164

    摘要: 【課題】気相流動CVD法によるカーボンナノチューブ(CNT)含有組成物の製造において、湿式粉砕を行うことによりCNT含有スラリーを得る方法を提供する。 【解決手段】気相流動CVD法によりカーボンナノチューブ含有組成物を製造し、生成したカーボンナノチューブ含有組成物に液体を噴射し、連続的にスラリー化することを特徴とするカーボンナノチューブ含有スラリーの製造方法。気相流動CVD法により生成するCNT含有組成物に対して水や水溶液などの液体を噴射し、粉砕することによりCNT含有スラリーを得る。 【選択図】図1

    カーボンナノチューブ(CNT)連続製造装置

    公开(公告)号:JP6737940B1

    公开(公告)日:2020-08-12

    申请号:JP2019151005

    申请日:2019-08-21

    摘要: 【課題】装置の構成が簡単で、かつトレイの搬送機構が反応炉を貫通することのない小型化されたCNTの製造に好適なCNT連続製造装置を提供する 【解決手段】昇温域200、反応域100、冷却域300を備えたカーボンナノチューブ(CNT)成長用の反応炉500の反応域内に始端及び終端を有し、互いに平行に設置され、CNTを成長させる基板を保持するトレイ110を第1位置に載置する固定ガイド部材102と;昇温域内に始端を有し、冷却域内に終端を有し、固定ガイド部材に沿って平行に設置され、固定ガイド部材上に載置されたトレイを所定のタイミングでピックアップして移動させる移動ガイド部材104と;移動ガイド部材の始端と終端とをそれぞれ回動可能に把持し、同期して同一方向に回動することにより、固定ガイド部材上に載置されているトレイを第1位置から第2位置に移動させる移動ガイド駆動機構106a,106bと;を備える。 【選択図】図1