公开(公告)号：JP2019077619A

公开(公告)日：2019-05-23

申请号：JP2017203366

申请日：2017-10-20

申请人： JNC株式会社

发明人： 川島 正敏

IPC分类号： C07C11/21 ,  C07C33/02 ,  C07C29/40 ,  C07C309/67 ,  C07C303/28 ,  C07C1/32

摘要： 【課題】 入手性が良く、取扱いも容易な原料から、短い工程で、工業的に、共役ジエンまたは共役トリエンが製造できる方法を提供する。 【解決手段】 3−アルケナールから、第一工程、第二工程、および第三工程の順に、反応を経て、共役ジエンを製造する。 第一工程:3−アルケナールに、グリニャール試薬を反応させ、ホモアリル型アルコールを得る工程。 第二工程:ホモアリル型アルコールに、エステル化剤またはハロゲン化剤を反応させ、スルホン酸エステルまたはハロゲン化物を得る工程。 第三工程:スルホン酸エステルまたはハロゲン化物に、塩基を作用させ、脱離反応を起こさせる工程。 【選択図】 なし

公开(公告)号：JP6284511B2

公开(公告)日：2018-02-28

申请号：JP2015165602

申请日：2015-08-25

申请人： ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア ,  BASF SE

发明人： 國本 和彦 ,  鮫島 かおり ,  松岡 由記 ,  倉 久稔

IPC分类号： C07C309/66 ,  C07C309/67 ,  C07C309/73 ,  C07C309/71 ,  C07C309/75 ,  C07C309/77 ,  C07C303/30 ,  C07C323/47 ,  C07D265/10 ,  C07D327/06 ,  C07D213/83 ,  C07D277/70 ,  C07D277/50 ,  C07D277/16 ,  C07D279/12 ,  C07D309/08 ,  C07D307/10 ,  C07C309/65

CPC分类号： G03F7/0007 ,  C07C309/00 ,  C07C309/30 ,  C07C309/67 ,  C07C309/73 ,  C07C327/58 ,  C07C327/60 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/42 ,  C07D213/59 ,  C07D213/78 ,  C07D265/32 ,  C07D277/54 ,  C07D279/12 ,  C07D291/02 ,  C07D295/04 ,  C07D307/10 ,  C07D309/08 ,  C07D327/06 ,  C08F220/10 ,  G02B5/201 ,  G02B5/223 ,  G03F7/027 ,  G03F7/028 ,  G03F7/029 ,  G03F7/031 ,  G03F7/032 ,  G03F7/322

公开(公告)号：JP6233014B2

公开(公告)日：2017-11-22

申请号：JP2013269754

申请日：2013-12-26

申请人： 三菱ケミカル株式会社

发明人： 吉田 博明 ,  深水 浩二 ,  古田土 稔 ,  中村 健史 ,  青島 敬之

IPC分类号： H01M10/052 ,  C07C309/67 ,  H01M10/0567

公开(公告)号：JP2015179672A

公开(公告)日：2015-10-08

申请号：JP2015078463

申请日：2015-04-07

申请人： UBE INDUSTRIES

发明人： ABE KOJI ,  MIYOSHI KAZUHIRO ,  KONDO MASAHIDE

IPC分类号： H01M10/0567 ,  C07C69/36 ,  C07C69/606 ,  C07C309/67 ,  C07F9/113 ,  C07F9/32 ,  H01M6/16 ,  H01M10/052 ,  H01M10/0569

摘要： 【課題】低温及び高温サイクル特性及び高温充電保存後の負荷特性を向上できる優れた非水電解液、それを用いた電気化学素子、及びそれに用いられるアルキニル化合物を提供する。【解決手段】非水溶媒に電解質塩が溶解されている非水電解液において、下記一般式(I)で表されるアルキニル化合物の少なくとも1種が非水電解液中に0.01〜10質量%含有されていることを特徴とする非水電解液である。(式中、X1は、−C(=O)−基、−C(=O)−C(=O)−基、−S(=O)2−基、−P(=O)(−R3)−基、又は−X3−S(=O)2O−基を示す。R1は、アルケニル基、ホルミル基、アルキル基、アシル基、アリールカルボニル基、アルカンスルホニル基、アルキニルオキシスルホニル基、アリールスルホニル基、ジアルキルホスホリル基、アルキル(アルコキシ)ホスホリル基、ジアルコキシホスホリル基を示し、R2は、アルキニル基又はアルキニルオキシ基を示し、R3は、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基又はアリールオキシ基を示す。nは0又は1を示す。)【選択図】なし

公开(公告)号：JPWO2012053485A1

公开(公告)日：2014-02-24

申请号：JP2012539723

申请日：2011-10-17

申请人： 三菱化学株式会社

发明人： 脩平 澤 ,  脩平 澤 ,  古田土　稔 ,  稔 古田土 ,  島　邦久 ,  邦久 島 ,  大貫　正道 ,  正道 大貫 ,  大橋　洋一 ,  洋一 大橋 ,  一貴 渡部 ,  一貴 渡部

IPC分类号： H01M10/0567 ,  C07C309/67 ,  H01M10/052 ,  H01M10/0569

CPC分类号： H01M10/056 ,  C07C309/67 ,  H01M10/0525 ,  H01M10/0567 ,  H01M10/0569 ,  Y02E60/122

摘要： 本発明は高温保存時における容量劣化の抑制とガス発生を抑制する非水系電解液と、この非水系電解液を用いた非水系電解液電池を提供することを目的とする。本発明はリチウム塩と非水系有機溶媒を含む非水系電解液であって、該非水系電解液が、式(1)で示されるスルホン酸エステルを含有する非水系電解液に関する。(式中、Lは置換基を有してもよいZ価の有機基を表し、Rは置換基を有してもよい不飽和結合を有する鎖状炭化水素基を表す。Zは1以上の整数であり、Zが2以上の場合は、Rは互いに同一であっても異なっていてもよい。ただし、Rがビニル基でありLがアルキル基である場合、並びに、R及びLがアリル基である場合を除く。尚、RとLは互いに結合して環を形成しない。)【化1】

公开(公告)号：JP2013007035A

公开(公告)日：2013-01-10

申请号：JP2012117178

申请日：2012-05-23

申请人： Sumitomo Chemical Co Ltd ,  住友化学株式会社

发明人： ICHIKAWA KOJI ,  SHIMADA MASAHIKO

IPC分类号： C08F228/02 ,  C07C309/67 ,  C08F20/24 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resist composition that can produce a resist pattern that has an excellent mask error factor (MEF).SOLUTION: A compound is shown by formula (I), a resin has a structural unit that originates in the compound, and a resist composition includes the resin. In the formula (I), Rdenotes a hydrogen atom or a methyl group; r denotes an integer 1 or 2; Adenotes a group shown by formula (a-g1); s is an integer of 0-2; Adenotes an aliphatic hydrocarbon group; Adenotes a single bond or an aliphatic hydrocarbon group; and Xdenotes an oxygen atom, a carbonyl group, a carbonyloxy group, an oxycarbonyl group or oxycarbonyloxy group, wherein Ais a single bond, s=1 and Xis an oxygen atom; and Rdenotes a group that is unstable to an acid.

摘要翻译： 要解决的问题：提供能够产生具有优异的掩模误差因子（MEF）的抗蚀剂图案的抗蚀剂组合物。 解决方案：化合物由式（I）表示，树脂具有起源于化合物的结构单元，抗蚀剂组合物包括树脂。 在式（I）中，R 1表示氢原子或甲基; r表示整数1或2; A 1 表示式（a-g1）所示的组。 s是0-2的整数; A 10 表示脂族烃基; 表示单键或脂族烃基; 并且X 10表示氧原子，羰基，羰氧基，氧羰基或氧羰基氧基，其中A 10 是单键，s = 1，X 10 是氧原子; 并且R 2 表示对酸不稳定的基团。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP4908414B2

公开(公告)日：2012-04-04

申请号：JP2007528211

申请日：2006-04-25

申请人： 日本化薬株式会社

发明人： 高明 倉田

IPC分类号： C07C251/30 ,  B41M5/26 ,  C07C309/67 ,  C09B57/10 ,  C09K3/00 ,  G02B5/22 ,  G11B7/244

CPC分类号： G11B7/246 ,  B41M5/465 ,  C07C251/30 ,  C09B53/02 ,  C09B69/06 ,  G02B5/208 ,  G02B5/223

公开(公告)号：JP2011178670A

公开(公告)日：2011-09-15

申请号：JP2010041595

申请日：2010-02-26

申请人： Jsr Corp ,  Jsr株式会社

发明人： MARUYAMA KEN ,  SHIMIZU MAKOTO

IPC分类号： C07C309/65 ,  C07C309/67 ,  C07C309/73 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation-sensitive composition which is highly sensitive, has high resolution, and can form resist coating films formable of resist patterns excellent in nano-edge roughness.
SOLUTION: The radiation-sensitive composition comprises a compound represented by general formula (1) (wherein, A is a single bond or the like; R
1 is H or the like; R
2 is 11 to 25C alkyl or the like; R
3 is alkyl), a solvent, and a radiation-sensitive acid-generating agent.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

摘要翻译： 要解决的问题：提供高灵敏度，高分辨率的辐射敏感性组合物，并且可以形成可形成纳米边缘粗糙度优异的抗蚀剂图案的抗蚀剂涂膜。 解决方案：辐射敏感性组合物包含由通式（1）表示的化合物（其中，A为单键等; R 1为H等; R SP > 2 为11至25C烷基等; R 3为烷基），溶剂和辐射敏感性产酸剂。 版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP4771659B2

公开(公告)日：2011-09-14

申请号：JP2003547348

申请日：2002-11-26

申请人： ニコックス・ソシエテ・アノニム

发明人： アルド・ベッリ ,  アンドレーアス・ヴェステルマルク ,  ヴィンチェンツォ・カンナータ ,  テリ・フォンデュカ ,  マルコ・ヴィーラ ,  マルティン・ヘドベルイ

IPC分类号： C07C201/02 ,  A61K31/21 ,  A61K31/216 ,  A61P29/00 ,  C07B61/00 ,  C07C67/08 ,  C07C67/58 ,  C07C203/04 ,  C07C301/00 ,  C07C303/28 ,  C07C309/66 ,  C07C309/67 ,  C07C309/73

CPC分类号： C07C309/73 ,  A61K31/21 ,  C07C67/08 ,  C07C67/58 ,  C07C201/02 ,  C07C303/28 ,  C07C309/66 ,  C07C309/67 ,  C07C69/734 ,  C07C203/04

摘要： At the present invention relates to a new process for the preparation of the (S)-naproxen 4-nitrooxybutyl ester and to new intermediates obtained and used therein. The invention further relates to the use of the new intermediates for the manufacturing of pharmaceutically active compounds such as (S)-naproxen 4-nitrooxybutyl ester. The invention also relates to the use of (S)-naproxen 4-nitrooxybutyl ester prepared according to the process of the present invention for the manufacturing of a medicament for the treatment of pain.

公开(公告)号：JP4240202B2

公开(公告)日：2009-03-18

申请号：JP2003032584

申请日：2003-02-10

申请人： セントラル硝子株式会社 ,  パナソニック株式会社 ,  信越化学工業株式会社

发明人： 一彦 前田 ,  裕次 原田 ,  覚 宮澤 ,  治彦 小森谷 ,  眞治 岸村 ,  義夫 河合 ,  畠山　　潤 ,  勝 笹子 ,  政孝 遠藤

IPC分类号： C08F28/02 ,  C07C309/67 ,  C08F212/14 ,  C08F220/12 ,  C08F232/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC分类号： C07C309/67 ,  C07C2601/08 ,  C07C2601/14 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： A sulfonate compound having formula (1) is novel wherein R 1 to R 3 are H, F or C 1-20 alkyl or fluoroalkyl, at least one of R 1 to R 3 contains F. A polymer comprising units derived from the sulfonate compound is used as a base resin to formulate a resist composition which is sensitive to high-energy radiation, maintains high transparency at a wavelength of up to 200 nm, and has improved alkali dissolution contrast and plasma etching resistance