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    식각액 조성물
    1.
    发明授权
    식각액 조성물 有权
    蚀刻剂组成

    公开(公告)号：KR101804572B1

    公开(公告)日：2017-12-05

    申请号：KR1020100097748

    申请日：2010-10-07

    申请人： 동우 화인켐 주식회사 ,  삼성디스플레이 주식회사

    发明人： 신혜라 ,  유인호 ,  권오병 ,  이유진

    IPC分类号： C09K13/08 ,  C23F1/20 ,  C23F1/30 ,  H01L21/306

    摘要： 본발명은철 화합물 0.1 중량% 내지 10 중량%; 질산 0.1 중량% 내지 10 중량%; 함불소화합물 0.01 중량% 내지 5 중량%; 및잔량의물을포함하고, 인산염화합물 0.1 중량% 내지 5 중량%를추가로포함하는인듐계금속막, 알루미늄계금속막, 및티타늄계또는몰리브덴계금속막으로이루어진삼중막의식각액조성물에관한것이다.

    摘要翻译： 本发明涉及铁化合物0.1-10重量％ 0.1至10重量％的硝酸; 0.01重量％至5重量％的氟化合物; 并且还含有一定量的残留水，并且还包含0.1重量％至5重量％的磷酸盐化合物，铝基金属膜以及钛基或钼基金属膜。

    식각액 조성물 및 이를 이용한 표시 기판의 제조 방법
    3.
    发明公开
    식각액 조성물 및 이를 이용한 표시 기판의 제조 방법 审中-实审
    蚀刻组合物和使用其制造显示基板的方法

    公开(公告)号：KR1020130050613A

    公开(公告)日：2013-05-16

    申请号：KR1020110115783

    申请日：2011-11-08

    申请人： 삼성디스플레이 주식회사 ,  동우 화인켐 주식회사

    发明人： 박홍식 ,  이왕우 ,  김봉균 ,  권오병 ,  심경보 ,  장상훈

    IPC分类号： C09K13/04 ,  C09K13/06 ,  H01L21/306

    CPC分类号： C09K13/04 ,  C09K13/08 ,  C23F1/02 ,  C23F1/18 ,  C23F1/38 ,  C23F1/44 ,  H01L21/32134 ,  H01L27/124 ,  H01L27/1288

    摘要： PURPOSE: An etchant composition is provided to have high storage stability at room temperature, to increase treatment pages, and to minimize damages of patterns formed on a substrate. CONSTITUTION: An etchant composition comprises 40-70 wt% of phosphate, 5-15 wt% of nitrate, 5-20 wt% of acetate, and residual water. A manufacturing method of a display substrate comprises a step of forming a copper-containing first metal layer(122), on a substrate(110); a step of forming a first metal pattern(210) which includes the first signal wire and a firs electrode, by patterning the first metal layer with the etchant composition; a step of forming a second metal pattern which includes the second signal wire and second electrode; and a step of forming a pixel electrode which is connected to a thin film transistor including the first and second electrodes.

    摘要翻译： 目的：提供蚀刻剂组合物以在室温下具有高储存稳定性，以增加处理页面，并最小化在基材上形成的图案的损伤。 构成：蚀刻剂组合物包含40-70重量％的磷酸盐，5-15重量％的硝酸盐，5-20重量％的乙酸盐和残留的水。 显示基板的制造方法包括在基板（110）上形成含铜的第一金属层（122）的工序。 通过用蚀刻剂组合物图案化第一金属层，形成包括第一信号线和第一电极的第一金属图案（210）的步骤; 形成包括第二信号线和第二电极的第二金属图案的步骤; 以及形成连接到包括第一和第二电极的薄膜晶体管的像素电极的步骤。

    식각액 조성물 및 이를 이용한 식각 방법
    4.
    发明公开
    식각액 조성물 및 이를 이용한 식각 방법 无效
    蚀刻溶液组合物和使用其蚀刻的方法

    公开(公告)号：KR1020110087582A

    公开(公告)日：2011-08-03

    申请号：KR1020100007068

    申请日：2010-01-26

    申请人： 삼성디스플레이 주식회사 ,  동우 화인켐 주식회사

    发明人： 이병진 ,  박홍식 ,  김상태 ,  이준우 ,  박영철 ,  진영준 ,  이석준 ,  양승재 ,  권오병 ,  유인호 ,  장상훈 ,  임민기 ,  신혜라 ,  이유진

    IPC分类号： C09K13/04

    CPC分类号： H01L29/401 ,  C09K13/06 ,  H01L27/124 ,  H01L31/022475 ,  H01L31/022483 ,  H01L31/1884 ,  Y02E10/50

    摘要： PURPOSE: An etchant composition is provided to avoid the residue generation after an etching process while not damaging a photoresist in an etching process and to improve productivity in the manufacture of an electronic component substrate such as a flat panel display. CONSTITUTION: An etchant composition for a transparent electrode layer comprises inorganic acids, compound including ammonium(NH4+), cyclic amine compound, and remaining amount of water. The etchant composition further includes at least one selected from surfactants, metal ion scavenger and corrosion inhibitor. A method for etching the transparent electrode layer comprises the steps of: forming a transparent electrode layer on a substrate; forming a photoresist pattern on the transparent electrode layer; and etching the transparent electrode layer using the etchant.

    摘要翻译： 目的：提供蚀刻剂组合物以避免在蚀刻工艺之后残留物产生，同时在蚀刻工艺中不损坏光致抗蚀剂并提高电子元件基板如平板显示器的制造中的生产率。 构成：用于透明电极层的蚀刻剂组合物包括无机酸，包括铵（NH 4 +），环胺化合物和剩余量的水的化合物。 蚀刻剂组合物还包括选自表面活性剂，金属离子清除剂和缓蚀剂中的至少一种。 蚀刻透明电极层的方法包括以下步骤：在基板上形成透明电极层; 在所述透明电极层上形成光致抗蚀剂图案; 并使用蚀刻剂蚀刻透明电极层。

    인듐 산화막의 비할로겐성 식각액 및 이를 이용한 표시 기판의 제조 방법
    7.
    发明公开
    인듐 산화막의 비할로겐성 식각액 및 이를 이용한 표시 기판의 제조 방법 有权
    用于蚀刻氧化物层的非氢化蚀刻剂和使用非劣化的蚀刻剂制造显示基板的方法

    公开(公告)号：KR1020120093499A

    公开(公告)日：2012-08-23

    申请号：KR1020110013098

    申请日：2011-02-15

    申请人： 삼성디스플레이 주식회사 ,  동우 화인켐 주식회사

    发明人： 김선일 ,  최신일 ,  박지영 ,  김상갑 ,  권오병 ,  김동기 ,  김상태 ,  박영철 ,  유인호 ,  윤영진 ,  이석준 ,  이준우 ,  임민기 ,  장상훈 ,  진영준

    IPC分类号： C09K13/06 ,  H01L51/00 ,  H01L21/306

    CPC分类号： H01L51/0023 ,  H01L2251/308 ,  C09K13/06 ,  H01L21/306

    摘要： PURPOSE: A non-halogen etchant of an indium oxide layer is provided to minimize damages to a lower during process etching an indium oxide layer which is an upper layer even if a copper layer or an aluminum layer is formed in the lower layer of the indium oxide layer. CONSTITUTION: A non-halogen etchant of an indium oxide layer comprises nitric acid, sulfuric acid, corrosion inhibitor comprising ammonium(NH4^+), a cyclic amine compound, and water. A manufacturing method of a display substrate comprises: a step of forming a switching element(SW) comprising a gate electrode(GE), a source electrode(SE), and a drain electrode(DE) on a substrate(110); a step of forming an indium oxide layer(INL1) on a substrate on which the switching element is formed; a step of forming a first pixel electrode(PE1), which contacts to the drain electrode by patterning the indium oxide layer by using the non-halogen etchant.

    摘要翻译： 目的：提供氧化铟层的非卤素蚀刻剂，以便即使在铟的下层中形成铜层或铝层，也可以在蚀刻作为上层的氧化铟层的工艺中蚀刻较低的损伤 氧化层。 构成：氧化铟层的非卤素蚀刻剂包括硝酸，硫酸，包含铵（NH 4+），环胺化合物和水的腐蚀抑制剂。 显示基板的制造方法包括：在基板（110）上形成包括栅极（GE），源电极（SE）和漏电极（DE）的开关元件（SW）的步骤; 在形成有开关元件的基板上形成氧化铟层（INL1）的工序; 形成第一像素电极（PE1）的步骤，其通过使用非卤素蚀刻剂图案化氧化铟层而与漏电极接触。