公开(公告)号：KR1020170093701A

公开(公告)日：2017-08-16

申请号：KR1020167034716

申请日：2015-12-03

申请人： 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤

发明人： 니시무라,다까시 ,  나까무라,시게루 ,  마에나까,히로시 ,  아오야마,다꾸지 ,  고바야시,유우스께

IPC分类号： C08G59/20 ,  C08K3/22 ,  C08K5/16 ,  C08L63/00 ,  H01L23/29 ,  H01L23/31 ,  C08K7/18 ,  C08G59/62

CPC分类号： C08G59/20 ,  C08K3/22 ,  C08K5/16 ,  C08L63/00 ,  H01L23/29 ,  H01L23/31 ,  H01L2924/0002 ,  C08G59/621 ,  C08K7/18 ,  C08K2003/2227 ,  C08K2201/005 ,  H01L2924/00

摘要： 도포성이우수하고, 방열성, 유연성및 내습성이우수한경화물을얻을수 있는경화성조성물을제공한다. 본발명에따른경화성조성물은, 가요성에폭시화합물과, 가요성에폭시화합물과는다른에폭시화합물과, 경화제와, 구상알루미나와, 분산제를포함하고, 상기분산제의아민가가 5KOHmg/g 이상이고, 또한상기분산제의산가가 5KOHmg/g 이상이다.

摘要翻译： 本发明提供涂布性优异，并且可以得到耐热，柔软且耐湿的固化物的固化性组合物。 根据本发明，柔性环氧化合物，和柔性的环氧树脂化合物和其它的环氧化合物，固化剂和球状氧化铝和含有分散剂和分散剂的胺值的可固化的组合物是除了5KOHmg更多/ g时，也 分散剂的酸值为5KOHmg / g或更高。

公开(公告)号：KR1020150043514A

公开(公告)日：2015-04-22

申请号：KR1020157007852

申请日：2011-09-20

申请人： 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤

发明人： 우에다,미찌히사 ,  와따나베,다까시 ,  나까무라,시게루 ,  가게,슈우지 ,  다까하시,도시오 ,  이노우에,다까노리

IPC分类号： C09D11/30 ,  C09D11/101 ,  B41M5/00 ,  B41M7/00 ,  H05K3/12 ,  H05K3/34

CPC分类号： C09D163/00 ,  B41M5/0023 ,  B41M7/0072 ,  B41M7/009 ,  C08G59/4021 ,  C09D11/101 ,  C09D11/30 ,  H05K3/125 ,  H05K3/3452 ,  H05K2203/013

摘要： 본발명은경화물막의균일성을높일수 있으며경화물의내열성을높일수 있는잉크젯용경화성조성물을제공한다. 본발명에따른잉크젯용경화성조성물은 (메트)아크릴로일기와환상에테르기를갖는화합물과, 광반응성화합물과, 환상에테르기를갖는화합물과, 광중합개시제와, 잠재성경화제를포함한다. 상기광 반응성화합물및 상기환상에테르기를갖는화합물은각각 (메트)아크릴로일기와환상에테르기를갖는화합물이외의화합물이다. 상기 (메트)아크릴로일기와환상에테르기를갖는화합물은 (메트)아크릴로일기를 1개또는 2개갖는다. 본발명에따른잉크젯용경화성조성물의 25℃에서의점도는 160 mPa·s 이상, 1200 mPa·s 이하이다.

公开(公告)号：KR1020170118261A

公开(公告)日：2017-10-24

申请号：KR1020177029699

申请日：2015-07-15

申请人： 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤

发明人： 니시무라,다까시 ,  마에나까,히로시 ,  고바야시,유우스께 ,  나까무라,시게루 ,  아오야마,다꾸지 ,  김,치즈루

IPC分类号： C08L63/00 ,  C08G59/62 ,  C08K3/22 ,  C08K3/28 ,  C08K3/34 ,  C08G59/20 ,  H01L23/00 ,  H01L23/29 ,  H01L23/31

CPC分类号： C08G59/20 ,  C08G59/62 ,  C08K3/22 ,  C08K3/28 ,  C08K3/34 ,  C08L63/00 ,  H01L23/00 ,  H01L23/29 ,  H01L23/31 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： 도포성이우수하고, 방열성및 유연성이우수한경화물을얻을수 있고, 반도체소자를양호하게보호할수 있는반도체소자보호용재료를제공한다. 본발명에따른반도체소자보호용재료는반도체소자를보호하기위해서, 상기반도체소자의표면위에도포하여, 상기반도체소자의표면위에경화물을형성하기위해사용되는반도체소자보호용재료이며, 반도체소자와다른접속대상부재사이에배치되어, 상기반도체소자와상기다른접속대상부재를박리하지않도록접착및 고정하는경화물을형성하는것과는다르며, 가요성에폭시화합물과, 가요성에폭시화합물과는다른에폭시화합물과, 23℃에서액상인경화제와, 경화촉진제와, 열전도율이 10W/m·K 이상이고또한구상인무기필러를포함한다.

摘要翻译： Yiwoosu涂布性，并且它可以得到散热性和灵活性yiwoosu Hankyong存储，并提供一种半导体器件的保护材料，其可以满意地保护半导体元件。 根据本发明的半导体元件的保护材料是为了保护半导体元件，通过将半导体元件的表面上，所使用的半导体元件的保护材料，以形成固化物的半导体元件，所述半导体元件与其他的连接表面上 布置在对象部件之间，这是不同于形成接合和固定所述固化产物的不剥离，半导体器件，其中所述其他连接对象构件，和柔性的环氧树脂化合物，并且该柔性环氧树脂化合物和其它环氧化合物，23 和固化剂是液体在℃，固化促进剂，为10W / M·K以上的热导率，并且还包括一个球状无机填充材料。

公开(公告)号：KR1020170098686A

公开(公告)日：2017-08-30

申请号：KR1020167034693

申请日：2015-12-16

申请人： 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤

发明人： 김,치즈루 ,  니시무라,다까시 ,  다카하시,토시오 ,  마에나까,히로시 ,  나까무라,시게루

IPC分类号： C08F290/06 ,  C08G75/04 ,  H05K3/28

CPC分类号： C08F290/06 ,  C08G75/04 ,  C08G75/045 ,  H05K3/28

摘要： 고온하에노출되어도, 발포, 박리및 변색이발생하기어려운경화물막을얻을수 있고, 또한백색안료가사용되어있음으로써, 광의반사율이높은경화물막을얻을수 있는광경화성조성물을제공한다. 본발명에관한광경화성조성물은카르복실기를갖지않고, 에틸렌성불포화결합을 2개이상갖고, 또한 2000 이상의중량평균분자량을갖는광경화성화합물과, 에틸렌성불포화결합을 1개이상갖는반응성희석제와, 티올기를 1개이상갖는티올기함유화합물과, 백색안료와, 광중합개시제를포함하고, 열경화성화합물을포함하지않거나, 또는열경화성화합물을 5중량% 이하로포함한다.

摘要翻译： 本发明提供一种光固化性组合物，其能够得到即使在高温下也不易发泡，剥离，变色的固化膜，并且可以通过使用白色颜料来获得具有高反射率的固化膜。 本发明的光固化性组合物是不具有羧基且具有2个以上烯属不饱和键且重均分子量为2000以上的光固化性组合物，具有至少一个烯属不饱和键的反应性稀释剂， 白色颜料和光聚合引发剂，不含热固性化合物，或含有不超过5重量％的热固性化合物。

公开(公告)号：KR101653936B1

公开(公告)日：2016-09-02

申请号：KR1020157019454

申请日：2014-11-18

申请人： 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤

发明人： 다니까와,미쯔루 ,  와따나베,다까시 ,  우에다,미찌히사 ,  나까무라,시게루 ,  마에나까,히로시 ,  다까하시,료스께 ,  이노우에,다까노리 ,  후지따,요시또

IPC分类号： H01L21/52 ,  H01L23/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/324 ,  C09J5/00 ,  C09J4/00

CPC分类号： H01L21/02288 ,  C08F220/10 ,  C09J4/00 ,  C09J5/00 ,  C09J2205/31 ,  H01L21/52 ,  H01L21/78 ,  H01L24/27 ,  H01L24/29 ,  H01L24/32 ,  H01L24/48 ,  H01L24/73 ,  H01L24/743 ,  H01L24/83 ,  H01L2224/27318 ,  H01L2224/29101 ,  H01L2224/2919 ,  H01L2224/32145 ,  H01L2224/32225 ,  H01L2224/48091 ,  H01L2224/48227 ,  H01L2224/73265 ,  H01L2224/8385 ,  H01L2224/83862 ,  H01L2224/83874 ,  H01L2224/83885 ,  H01L2224/8592 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2224/45099 ,  H01L2224/05599 ,  H01L2924/00012 ,  H01L2224/45015 ,  H01L2924/207

摘要： 본발명은경화한접착제층을고정밀도로또한용이하게형성할수 있는전자부품의제조방법을제공한다. 본발명에따른경화성막전자부품(1)의제조방법은, 잉크젯장치(11)를사용하여, 제1 전자부품본체(2) 위에접착제를도포하여, 접착제층(12)을형성하는도포공정과, 제1 광조사부(13)로부터접착제층(12A)에광을조사하는제1 광조사공정과, 광이조사된접착제층(12B) 위에제2 전자부품본체(4)를배치하여접합하는접합공정과, 가열에의해접착제층(12B)을경화시켜서전자부품(1)을얻는공정을구비하며, 잉크젯장치(11)가, 상기접착제가저류되는잉크탱크와토출부와순환유로부를갖고, 상기도포공정에있어서, 잉크젯장치(11) 내에서, 상기접착제를순환시키면서도포한다.

公开(公告)号：KR1020160014572A

公开(公告)日：2016-02-11

申请号：KR1020157019456

申请日：2014-11-05

申请人： 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤

发明人： 다니까와,미쯔루 ,  와따나베,다까시 ,  우에다,미찌히사 ,  나까무라,시게루 ,  마에나까,히로시 ,  다까하시,료스께 ,  이노우에,다까노리 ,  후지따,요시또 ,  이누이,오사무

IPC分类号： B41J11/00 ,  B41J3/407 ,  C08J3/28 ,  C09D11/101 ,  C09D11/30 ,  C09D11/52

CPC分类号： C09D4/00 ,  B41J3/407 ,  B41J11/002 ,  C09D11/101 ,  C09D11/30 ,  C09D11/52 ,  H05K3/287 ,  H05K2203/013 ,  H05K2203/0577

摘要： 본발명은미세한경화물막의형성정밀도를높일수 있고, 또한경화물막의밀착성을높일수 있는경화물막의제조방법을제공한다. 본발명에따른경화성막의제조방법은, 잉크젯장치(11)를사용하여, 광경화성및 열경화성을갖고또한액상인경화성조성물(12)을도포하는도포공정과, 제1 광조사부(13)로부터경화성조성물(12)에광을조사하는제1 광조사공정과, 광이조사된예비경화물막(12A)을가열하는가열공정을구비하며, 잉크젯장치(11)가, 경화성조성물(12)이저류되는잉크탱크와토출부와순환유로부를갖고, 상기도포공정에있어서, 잉크젯장치(11) 내에서, 경화성조성물(12)을순환시키면서도포한다.

摘要翻译： 本发明提供可以提高微细固化膜的形成精度，提高固化膜的密合性的固化膜的制造方法。 可固化的膜的制造方法根据本发明，通过使用喷墨设备11中，并且具有从涂覆工艺用于施加液体可固化组合物中的光固化和热固化可加成固化的组合物和第1发光部（13）（12） 如图12所示，墨水罐包括加热第一光照射工序，光照射的初步固化mulmak（12A）用于照射egwang，喷墨装置11，它是一种可固化的组合物12，激光器电流的加热工序 有WATO chulbu和循环流路部，其中，在所述施加步骤中，在喷墨装置11，并同时循环该固化性组合物（12）的涂层。

公开(公告)号：KR1020130050361A

公开(公告)日：2013-05-15

申请号：KR1020137007132

申请日：2011-09-20

申请人： 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤

发明人： 우에다,미찌히사 ,  와따나베,다까시 ,  나까무라,시게루 ,  가게,슈우지 ,  다까하시,도시오 ,  이노우에,다까노리

IPC分类号： C09D11/30 ,  B41J2/01 ,  B41M5/00 ,  H05K3/06

CPC分类号： C09D163/00 ,  B41M5/0023 ,  B41M7/0072 ,  B41M7/009 ,  C08G59/4021 ,  C09D11/101 ,  C09D11/30 ,  H05K3/125 ,  H05K3/3452 ,  H05K2203/013 ,  B41J2/01 ,  B41M5/00 ,  H05K3/06

摘要： Provided is a curable composition for inkjet capable of improving uniformity of a cured product film and heat resistance of a cured product. The curable composition for inkjet according to the present invention contains a compound having a (meth) acryloyl group and a cyclic ether group, a photoreactive compound, a compound having a cyclic ether group, a photopolymerization initiator, and a potential curing agent, the photoreactive compound and the compound having a cyclic ether group each are a compound other than the compound having a (meth)acryloyl group and a cyclic ether group, the compound having a (meth) acryloyl group and a cyclic ether group has one or two (meth) acryloyl groups, and the viscosity at 25°C of the curable composition for inkjet according to the present invention is 160 mPa€¢s or more and 1200 mPa€¢s or less.

公开(公告)号：KR102097004B1

公开(公告)日：2020-04-03

申请号：KR1020187014799

申请日：2016-08-16

申请人： 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤

发明人： 니시무라,다까시 ,  마에나까,히로시 ,  나까무라,시게루 ,  아오야마,다꾸지 ,  고바야시,유우스께

IPC分类号： H01L23/29 ,  H01L23/31 ,  C08G59/18 ,  C08K3/00 ,  C08L63/00

公开(公告)号：KR101808472B1

公开(公告)日：2017-12-12

申请号：KR1020167016198

申请日：2015-07-15

申请人： 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤

发明人： 니시무라,다까시 ,  마에나까,히로시 ,  고바야시,유우스께 ,  나까무라,시게루 ,  아오야마,다꾸지 ,  김,치즈루

IPC分类号： C08L63/00 ,  C08G59/62 ,  C08K3/22 ,  C08K3/28 ,  C08K3/34 ,  C08G59/20 ,  H01L23/00 ,  H01L23/29 ,  H01L23/31

CPC分类号： C08G59/20 ,  C08G59/62 ,  C08K3/22 ,  C08K3/28 ,  C08K3/34 ,  C08L63/00 ,  H01L23/00 ,  H01L23/29 ,  H01L23/31 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： 도포성이우수하고, 방열성및 유연성이우수한경화물을얻을수 있고, 반도체소자를양호하게보호할수 있는반도체소자보호용재료를제공한다. 본발명에따른반도체소자보호용재료는반도체소자를보호하기위해서, 상기반도체소자의표면위에도포하여, 상기반도체소자의표면위에경화물을형성하기위해사용되는반도체소자보호용재료이며, 반도체소자와다른접속대상부재사이에배치되어, 상기반도체소자와상기다른접속대상부재를박리하지않도록접착및 고정하는경화물을형성하는것과는다르며, 가요성에폭시화합물과, 가요성에폭시화합물과는다른에폭시화합물과, 23℃에서액상인경화제와, 경화촉진제와, 열전도율이 10W/m·K 이상이고또한구상인무기필러를포함한다.

公开(公告)号：KR1020120109513A

公开(公告)日：2012-10-08

申请号：KR1020127016064

申请日：2012-01-05

申请人： 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤

发明人： 나까무라,시게루 ,  우에다,미찌히사 ,  가게,슈우지 ,  다까하시,도시오 ,  와따나베,다까시

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/11 ,  H05K3/32

CPC分类号： H05K3/287 ,  C08K3/22 ,  C08L63/00 ,  G03F7/0047 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/027 ,  G03F7/038 ,  G03F7/16 ,  H01L33/62 ,  H01L2224/16 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/11

摘要： Provided are a first and second liquid that are two-liquid mixing type and that have superior miscibility of the first and second liquid. The two-liquid mixing first and second liquids are liquids for obtaining a photosensitive composition that is a mixture. The photosensitive composition contains at least two selected from the group consisting of dipropylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, and a naphtha having, in the distillation characteristics thereof, a first drop point of at least 150°C and a last point of no greater than 290°C. The first liquid contains a polymeric polymer. The second liquid contains a compound having a cyclic ether group. The first and second liquids contain at least one selected from the group consisting of dipropylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, and a naphtha having, in the distillation characteristics thereof, a first drop point of at least 150°C and a last point of no greater than 290°C.