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    열가교촉진제, 이것을 함유하는 폴리실록산 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물 및 이것을 이용한 패턴 형성 방법
    7.
    发明授权
    열가교촉진제, 이것을 함유하는 폴리실록산 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물 및 이것을 이용한 패턴 형성 방법 有权
    热交联促进剂，含有聚硅氧烷抗蚀剂的下层膜形成用组合物及使用其的图案形成方法

    公开(公告)号：KR101825254B1

    公开(公告)日：2018-03-14

    申请号：KR1020140005927

    申请日：2014-01-17

    申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤

    发明人： 오기하라츠토무 ,  비야지마유스케 ,  우라노히로유키

    IPC分类号： C08K5/55 ,  C08L83/04 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  C08K5/00

    CPC分类号： G03F7/094 ,  C09D183/04 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/325 ,  H01L21/3081 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/31138 ,  H01L21/31144 ,  C08K5/55

    摘要： [과제] 본발명은, 상층레지스트와의에칭선택성을개선하여, 종래의규소함유레지스트하층막을사용한경우보다도보다미세한패턴에있어서도에칭후의패턴형상을개선하는열가교촉진제를제공한다. [해결수단] 폴리실록산화합물의열가교촉진제로서, 하기일반식(A-1)으로나타내어지는것임을특징으로하는폴리실록산화합물의열가교촉진제.(R, R, R, R는각각수소원자, 할로겐원자, 탄소수 1∼20의직쇄상, 분기상또는환상의알킬기등, 탄소수 6∼20의치환혹은비치환의아릴기, 또는탄소수 7∼20의아랄킬기등을나타내고, 이들기의수소원자의일부또는전부가알콕시기등으로치환되더라도좋다. a, b, c, d는 0∼5의정수. a, b, c, d가 2 이상인경우는, R, R, R, R가환상구조를형성하더라도좋다. L은리튬등이다)

    摘要翻译： [问题]本发明中，为了提高抗蚀剂上层之间的蚀刻选择性，以及使用该下抗蚀含有常规硅膜提供的热交联促进剂，以提高也是在更微细的图案蚀刻后的图案轮廓的情况相比。 （R 1，R 2，R 3和R 4各自表示氢原子，卤素原子，卤素原子，烷基，链烯基，炔基， 碳原子数为链，支链或环状的烷基或类似物1〜20 uijik，具有至20个环义齿或未取代的芳基或具有7至20个碳原子数，例如，部分或全部这些基团的氢原子的烷氧基的芳烷基的碳原子数6 可以与gideung被甚至取代。A，b，C，d可以是0至5协议。如果A，b，C，d为不大于2，R，R，R，可以是R形成环状结构少：L 锂或类似物）

    열가교촉진제, 이것을 함유하는 폴리실록산 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물 및 이것을 이용한 패턴 형성 방법
    8.
    发明公开
    열가교촉진제, 이것을 함유하는 폴리실록산 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물 및 이것을 이용한 패턴 형성 방법 审中-实审
    热交换加速器，含有多异氰酸酯的耐下电体膜形成组合物及其使用方法

    公开(公告)号：KR1020140095431A

    公开(公告)日：2014-08-01

    申请号：KR1020140005927

    申请日：2014-01-17

    申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤

    发明人： 오기하라츠토무 ,  비야지마유스케 ,  우라노히로유키

    IPC分类号： C08K5/55 ,  C08L83/04 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  C08K5/00

    CPC分类号： G03F7/094 ,  C09D183/04 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/325 ,  H01L21/3081 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/31138 ,  H01L21/31144 ,  C08K5/55

    摘要： The present invention provides a thermal crosslinking accelerator by which etching selectivity with a toplayer resist is improved so that even minutes pattern forms after etching is improved compared to when existing silicon-containing resist underlayer is used. Provided is a thermal crosslinking accelerator of a polysiloxane compound represented by Formula (A-1). R^11, R^12, R^13, and R^14 respectively represent hydrogen atoms, halogen atoms, C1-20 straight-chain, branched, or cyclic alkyl groups and the like, C6-20 substituted or non-substituted aryl groups, or C7-20 aralkyl groups and the like. Partial or overall hydrogen atoms of the groups may be substituted by alkoxy groups and the like. a, b, c, and d are integers of 0-5. When a, b, c, and d are 2 or more, R^11, R^12, R^13, and R^14 may form a cyclic structure. L is lithium and the like.

    摘要翻译： 本发明提供了一种热交联促进剂，通过该热交联促进剂，与使用现有的含硅抗蚀剂底层的情况相比，改善了对抗抗蚀剂的蚀刻选择性，使得在刻蚀之后形成均匀的分钟图案得到改善。 提供由式（A-1）表示的聚硅氧烷化合物的热交联促进剂。 R 11，R 12，R 13和R 14分别表示氢原子，卤素原子，C 1-20直链，支链或环状烷基等，C6-20取代或未取代的芳基 基团或C7-20芳烷基等。 基团的部分或全部氢原子可以被烷氧基等取代。 a，b，c和d为0-5的整数。 当a，b，c和d为2以上时，R 11，R 12，R 13和R 14可以形成环状结构。 L是锂等。

    실리콘 골격 함유 고분자 화합물, 수지 조성물, 광경화성 드라이 필름
    9.
    发明公开
    실리콘 골격 함유 고분자 화합물, 수지 조성물, 광경화성 드라이 필름 审中-实审
    硅胶结构轴承聚合物，树脂组合物和光固化干膜

    公开(公告)号：KR1020130087430A

    公开(公告)日：2013-08-06

    申请号：KR1020130008536

    申请日：2013-01-25

    申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤

    发明人： 우라노히로유키 ,  다케무라가쓰야 ,  미야자키다카시

    IPC分类号： C08G77/04 ,  C08G77/06 ,  C08L83/04 ,  C08J5/18

    摘要： PURPOSE: A silicon skeleton-containing polymer compound is provided to alleviate a separation problem on a metal wire such as Cu and Al, an electrode, a substrate, or SiN substrate and to form micropatterns in a wide wavelength region. CONSTITUTION: A silicon skeleton-containing polymer compound is a resin including a silicone skeleton having a crosslinkable group or a reaction point deriving a crosslinking reaction, is formed by coupling an isocyanuric acid skeleton with a terminal of the molecule, and has a weight average molecular weight of 3,000-500,000. A resin composition comprises the silicon skeleton-containing polymer compound; a crosslinking agent; a photoacid generator generating acids by being decomposed by a light with a wavelength of 190-500 nm; and a solvent.

    摘要翻译： 目的：提供含硅骨架的高分子化合物以减轻诸如Cu和Al的金属线，电极，衬底或SiN衬底之间的分离问题，并在宽波长区域形成微图案。 构成：含有硅骨架的高分子化合物是包含具有可交联基团的硅氧烷骨架或引发交联反应的反应点的树脂，是通过将异氰脲酸骨架与分子的末端偶联而形成的，并且具有重均分子量 重量3000-500,000。 树脂组合物包含含硅骨架的聚合物化合物; 交联剂; 通过用波长为190-500nm的光分解产生酸的光酸发生剂; 和溶剂。