公开(公告)号：KR101446541B1

公开(公告)日：2014-10-06

申请号：KR1020140023027

申请日：2014-02-27

Applicant: 주식회사 코렉스

Inventor： 이호경 ,  이인규 ,  박명준 ,  구기갑 ,  김재경

IPC: G03F7/42 ,  H01L21/027 ,  C02F1/00

CPC classification number: G03F7/42 ,  C02F1/00 ,  G03F7/3092 ,  G03F7/70916 ,  G03F9/7096 ,  H01L21/02032

Abstract: The present invention relates to an apparatus to improve a reproduction yield of a high boiling point waste photoresist stripper and, more specifically, to an apparatus to improve a reproduction yield of a high boiling point waste photoresist stripper, which can improve a secondary reproduction recovery yield of an expensive high boiling point stripping solvent from a high boiling point waste photoresist stripper. That is, the present invention is to provide an apparatus to improve a reproduction yield of a high boiling point waste photoresist stripper; the apparatus can optimally control a condensed recovery solution-containing HEP composition ratio to 82% which is a condition of ″a secondary viscosity rise HEP composition ratio″ of a condensed recovery solution or less in order to monitor an HEP composition ratio level contained in the condensed recovery solution containing HEP; and also to prevent a state of a condensed recovery solution from semi-gelling in the condensation and separation steps and recovery distilling the high boiling point photoresist stripper contained in the high boiling point residue to an upper distillation column, and extracting the high boiling point photoresist stripper through a condenser among four distillation processes of an existing secondary reproduction step.

Abstract translation: 本发明涉及一种提高高沸点废光致抗蚀剂剥离剂的再生产率的装置，更具体地说，涉及提高高沸点废光致抗蚀剂剥离剂的再生产率的装置，其可以提高二次再生回收率 来自高沸点废光致抗蚀剂剥离剂的昂贵的高沸点汽提溶剂。 也就是说，本发明提供一种提高高沸点废光致抗蚀剂剥离剂的再现产率的装置; 该设备可以将冷凝的回收溶液的HEP组成比优化为82％，这是缩合回收溶液的“二次粘度上升HEP组成比”或更低的条件，以便监测包含在 冷凝回收溶液含有HEP; 并且在冷凝和分离步骤中防止冷凝的回收溶液的状态为半凝胶状态，并且将包含在高沸点残余物中的高沸点光致抗蚀剂剥离剂回收到上层蒸馏塔中，并提取高沸点光致抗蚀剂 汽提塔通过现有二次再生步骤的四个蒸馏过程中的冷凝器。

公开(公告)号：KR101391075B1

公开(公告)日：2014-04-30

申请号：KR1020087003757

申请日：2006-08-07

Applicant: 램 리써치 코포레이션

Inventor： 보이드존엠 ,  레데커프리츠씨 ,  헴커데이비드제이

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/30 ,  B08B3/04 ,  G03F7/3092 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/67051 ,  Y10S134/902

Abstract: 제 1 근접 헤드는 기판상에서 포토레지스트 현상 용액의 메니스커스를 정의하도록 구성된다. 그 메니스커스는 제 1 근접 헤드의 저부와 기판 사이에 정의된다. 제 2 근접 헤드는 기판상에서 세정 메니스커스를 정의하고, 그 기판으로부터 그 세정 메니스커스를 제거하도록 구성된다. 제 2 근접 헤드는, 기판위에서의 제 1 및 제 2 근접 헤드의 횡단 방향에 관해 제 1 근접 헤드에 후속하도록 위치된다. 포토레지스트 현상 용액의 메니스커스에 대한 기판의 노출은 기판상에서 이전에 조사된 포토레지스트 재료가 현상되게 하여, 패터닝된 포토레지스트 층을 렌더링한다. 제 1 및 제 2 근접 헤드는, 현상 프로세스 동안 기판상에서 포토레지스트 현상 용액의 잔류 시간의 정확한 제어를 가능하게 한다.
포토레지스트 현상, 포토레지스트 현상 용액의 메니스커스, 근접 헤드

公开(公告)号：KR1020140006803A

公开(公告)日：2014-01-16

申请号：KR1020137014594

申请日：2011-11-07

Applicant: 후마일랴 – 코메르시우 인테르나시오날 에 세르비쿠스 엘리데아 & 코만디타

Inventor： 보네트,한스 ,  틸,클라우스-페터

IPC: G03F7/16 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/02104 ,  B05C11/08 ,  B05C11/1039 ,  B05C13/02 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  G03F7/3092 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  G03F7/16 ,  H01L21/0274

Abstract: 본 발명은 구조 기판 제조용 자치에 관한 것이다. 상기 장치는 회전 기판에
액체 물질(2), 특히 감광성수지 용액을 도포하기 위한 기기, 하우징(6), 코팅된 상기 기판을 위한 회전 홀더(3), 도포되는 액체 물질을 위한 피더(feeder)(13) 및 기판에 남아 있지 않은 액체 물질을 위한 다중 제거 장치들(5)을 함유하는 포집 기기(4)를 포함하는 층 시스템(1) 적용을 위한 기기를 포함한다. 액체 물질(2)을 도포하기 위한 상기 기기의 하우징(6)은 불활성 기체, 특히 건조된 분자 질소, 희가스 또는 이들의 혼합물로 충전된다. 상기 구조 기판 제조용 장치의 부가 저장소 및 도관(conduit)들은 기밀하며, 불활성 분자 질소 또는 희가스 분위기가 그것들의 액체 내용물보다 많이 만들어지도록 설계된다. 상기 포집 기기(4)는 여러 포집 영역(9)을 가지며, 상기 포집 영역(9)에서 상이한 액체 물질들은 선별적으로 포집되고, 관련 제거 장치(5)를 지나 선별적으로 제거된다. 상기 구조 기판 제조용 장치의 설계는 제조 공정의 질을 향상시키고, 제조 공정의 비용을 상당히 낮추도록 하는데, 이는 제조 공정을 위한 감광성수지 및 기타 요구되는 액체 물질의 양이 대폭 감소될 수 있기 때문이다.

公开(公告)号：KR1020110045698A

公开(公告)日：2011-05-04

申请号：KR1020090102377

申请日：2009-10-27

Applicant: 세메스 주식회사

Inventor： 박정선 ,  김대호

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/302 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/3092 ,  G03F7/162 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70925

Abstract: PURPOSE: A substrate processing device and method thereof are provided to have separate draining lines and determine whether to collect or drain used water in a point where the draining lines are separated, thereby increasing the rate of collecting a chemical solution. CONSTITUTION: A chemical solution is supplied to a substrate through a nozzle(230) to process a substrate. Collecting lines(242,244) collect a chemical solution used in a substrate processing unit. Draining lines(252,254,246) are branched from the collecting lines. A 3 way valve(V1, V2) is arranged in the branched point. The 3 way valve selectively opens either one of the collecting lines or the draining lines according to whether to recycle the used water.

Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置及其方法，以具有单独的排水管线，并且确定在排水管线分离的点处是否收集或排出用过的水，从而提高采集化学溶液的速率。 构成：通过喷嘴（230）将化学溶液提供给基底以处理基底。 收集线（242,244）收集在基板处理单元中使用的化学溶液。 排水线（252,254,246）从收集线分支。 三通阀（V1，V2）布置在分支点。 三通阀根据是否回收废水，选择性地打开收集管线或排水管路之一。

公开(公告)号：KR100928175B1

公开(公告)日：2009-11-25

申请号：KR1020077028041

申请日：2006-05-26

Applicant: 파나소닉 주식회사

Inventor： 사토다카아키

IPC: G03F7/30 ,  B01D63/16 ,  H01J11/20

CPC classification number: B01D61/14 ,  B01D63/084 ,  B01D63/16 ,  B01D2313/08 ,  B01D2315/04 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/3092

Abstract: 본 발명은 디스플레이 패턴을 구성하는 기판 상에 패턴 형성을 위한 습식 처리에서, 용액 및 패턴 물질을 재사용할 수 있고, 필터 대체의 빈도를 감소시킬 수 있고 사용된 패턴 물질의 특정 중력에도 불구하고 높은 수준의 회수를 현실화시킬 수 있는 습식 프로세싱 장치가 공급된다. 습식 프로세싱 장치는 습식 처리를 수행하는 습식 처리 탱크 (1), 습식 처리에서 사용된 프로세싱 용액에서 불순물을 분리하는 진동식 막 분리기 (3), 및 상기 진동식 막 분리기 (3) 에 의한 불순물의 분리 후에 상기 프로세싱 용액을 습식 처리 탱크 (1) 에 재공급하여, 그것에 의하여 프로세싱 용액 및 패턴 물질이 재사용될 수 있도록 하는, 재공급 경로 (13) 를 포함한다. 진동식 막 분리기 (3) 의 사용은 진동식 막 분리기 (3) 에서 공급된 필터의 대체의 빈도를 감소시킬 수 있고 사용된 패턴 물질의 특정 중력에도 불구하고 패턴 물질의 높은 수준의 회수를 현실화시킬 수 있다.
진동식 막 분리기, 용액, 습식 프로세싱 장치

Abstract translation: 湿式处理装置包括进行湿式步骤的湿式浴槽和用于从湿式步骤中使用的溶液中分离出杂质的振动式膜分离器。 湿式处理装置还包括重新供给路径，通过振动式膜分离器将其中除去了杂质的溶液重新供给到湿式步骤浴中。 因此，可以重新使用溶液和组成图案的材料。 由于使用了振动式膜分离装置，所以能够降低更换振动式膜分离装置所具备的过滤器的频率，并且能够确保回收构成图案的材料的高速率，而不管 材料的比重。

公开(公告)号：KR100869333B1

公开(公告)日：2008-11-18

申请号：KR20080014675

申请日：2008-02-19

Applicant: JAEWON IND CO LTD

Inventor： SHIM SUNG WON

IPC: G03F7/26

CPC classification number: G03F7/3092 ,  B01D3/14 ,  B01D11/04 ,  C07C67/62 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/425

Abstract: A reproducing method of waste propylene glycol monomethyl ether acetate is provided to effectively remove pigment, photoresist, metallic ion and minute particles contained in the waste organic solvent generated in manufacturing a color filter. A reproducing method of waste propylene glycol monomethyl ether acetate comprises a distillation process which is constituted in 3 steps in order to distill a low-boiling point material and a high-boiling point material from a waste organic solvent from which the solid component and metallic component are removed; and a filteration process which constitutes a membrane filter of the Teflon material with 0.05 ~ 0.5 micrometer air gap in 3 steps and removes the minute particles from the waste organic solvent. The unnecessary photoresist is removed in a step for using the photoresist for the pigment blow nozzle cleaning and the pigment dispersion photolithography used in the TFT-LCD color filter manufacture.

Abstract translation: 提供废丙二醇单甲醚乙酸酯的再生方法，以有效地除去在制造滤色器时产生的废有机溶剂中所含的颜料，光致抗蚀剂，金属离子和微粒。 废丙二醇单甲醚乙酸酯的再生方法包括蒸馏方法，其以三个步骤构成，以从废有机溶剂中蒸馏出低沸点物质和高沸点物质，固体成分和金属成分 被删除 以及过滤工艺，其以3步形成具有0.05〜0.5微米气隙的特氟隆材料的膜过滤器，并从废有机溶剂中除去微小颗粒。 在使用用于颜料吹嘴清洁的光致抗蚀剂和用于TFT-LCD滤色器制造中的颜料分散光刻的步骤中去除不需要的光致抗蚀剂。

公开(公告)号：KR1020080034935A

公开(公告)日：2008-04-22

申请号：KR1020087003757

申请日：2006-08-07

Applicant: 램 리써치 코포레이션

Inventor： 보이드존엠 ,  레데커프리츠씨 ,  헴커데이비드제이

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/30 ,  B08B3/04 ,  G03F7/3092 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/67051 ,  Y10S134/902 ,  G03F7/3071 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70925

Abstract: A first proximity head is configured to define a meniscus of a photoresist developer solution on a substrate. The meniscus is to be defined between a bottom of the first proximity head and the substrate. A second proximity head is configured to define a rinsing meniscus on the substrate and remove the rinsing meniscus from the substrate. The second proximity head is positioned to follow the first proximity head relative to a traversal direction of the first and second proximity heads over the substrate. Exposure of the substrate to the meniscus of photoresist developer solution causes previously irradiated photoresist material on the substrate to be developed to render a patterned photoresist layer. The first and second proximity heads enable precise control of a residence time of the photoresist developer solution on the substrate during the development process.

Abstract translation: 第一接近头被配置为在衬底上限定光致抗蚀剂显影剂溶液的弯液面。 弯液面应限定在第一邻近头部的底部和基底之间。 第二邻近头被配置为在衬底上限定冲洗弯液面并从衬底移除冲洗弯月面。 第二接近头被定位成相对于基板上的第一和第二接近头的遍历方向跟随第一邻近头。 将衬底暴露于光致抗蚀剂显影剂溶液的弯液面使得先前照射在衬底上的光致抗蚀剂材料被显影以形成图案化的光致抗蚀剂层。 第一和第二接近头允许在显影过程中精确地控制光致抗蚀剂显影剂溶液在基底上的停留时间。

公开(公告)号：KR1020030023607A

公开(公告)日：2003-03-19

申请号：KR1020027007507

申请日：2001-10-09

Applicant: 아사히 가세이 케미칼즈 가부시키가이샤

Inventor： 후지이,히로따쯔

IPC: G03F7/30

CPC classification number: G03F7/3092 ,  G03F7/30 ,  G03F7/3085

Abstract: 본 발명은 계면활성제를 함유하지 않은 수성 현상액을 사용하고, 또한 현상액을 순환 사용함으로써 폐액의 처분 비용을 저감시키는 감광성 수지 인쇄판의 현상 방법을 제공하는 것이다. 노광에 의해 소정의 패턴으로 경화된 감광성 수지 인쇄판에 대하여, 물 단일 또는 기체를 혼입한 기액 2상의 수성 현상액을 인쇄판 표면에 대하여 고압 (수압 1 내지 30 MPa, 기체압 0.1 MPa 이상)으로 분사시켜 현상하고, 사용 종료 현상액 내에 혼입된 소수성의 감광성 수지를 여과 등의 수법에 의해 분리 제거한 후, 여액을 현상액으로서 순환 재이용한다.

Abstract translation: 一种感光性树脂印刷版的显影方法，其能够通过使用不含有表面活性剂的水性显影液并且再利用显影液来降低处理废液的成本。 将通过曝光而以规定的图案硬化的感光性树脂印刷版通过在高压（水压1〜30MPa）下将含有水或者气液两相的水系显影液喷雾到印刷版的表面 ，气体压力不低于0.1MPa）中，混合在磨损的显影液中的吸湿性光敏树脂通过过滤器等被分离和除去，并且滤液被再循环并重新用作显影液。 ＆lt;图像＆GT;

公开(公告)号：KR100361799B1

公开(公告)日：2003-02-05

申请号：KR1019980063280

申请日：1998-12-31

Applicant: 오르가노 코포레이션

Inventor： 수가와라히로시 ,  헨미히로미

IPC: C02F1/04 ,  C02F1/44 ,  C02F1/42

CPC classification number: B01D61/025 ,  B01D15/361 ,  B01D61/02 ,  B01D61/022 ,  B01D61/027 ,  B01D61/04 ,  B01D61/422 ,  B01D61/58 ,  B01D2311/04 ,  B01J39/04 ,  B01J41/04 ,  C02F1/04 ,  C02F1/26 ,  C02F1/42 ,  C02F1/441 ,  C02F1/442 ,  C02F1/469 ,  C02F9/00 ,  G03F7/3092 ,  G03F7/322 ,  B01D2311/2623 ,  B01D2311/2626

Abstract: The disclosed process for rejuvenation treatment of a photoresist development waste mainly containing a photoresist and tetraalkylammonium (TAA) ions comprises at least a simple membrane separation step of treating the photoresist development waste or a treated solution derived from the photoresist development waste with a nanofiltration membrane (NF membrane) to obtain a concentrate (NF concentrate) mainly containing impurities such as the photoresist and a higher-purity permeate (NF permeate) mainly containing TAA ions. The NF concentrate and/or the NF permeate, preferably the NF permeate, is desirably subjected to a step of concentration and refining by electrodialysis or electrolysis and/or a step of refining by ion exchange treatment, for example, with an anion exchange resin and/or a cation exchange resin in one of the H form and the TAA form. The NF permeate may advantageously be passed through the concentrating cells of an electrodialysis unit while passing the NF concentrate through the desalting cells of the electrodialysis unit to further recover TAA ions remaining in the NF concentrate, whereby the amount of wastewater discharged as the desalted waste can be decreased. The NF membrane separation step is preferably effected in multiple stages.

Abstract translation: 所公开的用于主要包含光致抗蚀剂和四烷基铵（TAA）离子的光致抗蚀剂显影废物的嫩化处理方法至少包括简单的膜分离步骤，即用纳滤膜处理光致抗蚀剂显影废物或来自光致抗蚀剂显影废物的处理溶液 NF膜），得到主要含有光致抗蚀剂等杂质的浓缩物（NF浓缩物）和主要含有TAA离子的高纯度渗透物（NF渗透物​​）。 NF浓缩物和/或NF渗透物​​，优选NF渗透物​​优选进行通过电渗析或电解进行浓缩和精制的步骤和/或通过离子交换处理进行精炼的步骤，例如用阴离子交换树脂和 /或H形式和TAA形式之一的阳离子交换树脂。 NF渗透物​​可以有利地通过电渗析装置的浓缩室，同时使NF浓缩物通过电渗析装置的脱盐池以进一步回收NF浓缩物中残留的TAA离子，由此作为脱盐废物排出的废水量可以 减少。 NF膜分离步骤优选以多个阶段进行。

公开(公告)号：KR1020010033430A

公开(公告)日：2001-04-25

申请号：KR1020007006910

申请日：1998-12-22

Applicant: 아사히 가세이 가부시키가이샤

Inventor： 오가와,노부오 ,  고지마,쯔또무

IPC: G03F7/30

CPC classification number: G03F7/3092 ,  G03F7/30 ,  G03F7/3085

Abstract: 본발명은현상액의수명을대폭연장하여일정량의현상액으로현상할수 있는판수를증가시키기위해현상액조(1) 내에수용된계면활성제를포함하는현상액(2)을상기현상액조(1)의액면상방에배치된감광성수지판(5)의판면에순환공급하도록하고, 현상액조(1)의액면또는액면근방에소포제를함침시킨다공시트(6)를배설하여감광성수지판(5)의판면에서낙하한현상액(2)이상기다공시트(6)를통과하도록한 것을특징으로한다.