무반사 나노코팅 구조 및 그 제조방법
    3.
    发明授权
    무반사 나노코팅 구조 및 그 제조방법 有权
    抗反射纳米涂层结构及其制造方法

    公开(公告)号:KR101586073B1

    公开(公告)日:2016-01-19

    申请号:KR1020140108454

    申请日:2014-08-20

    IPC分类号: G02B1/11

    摘要: 무반사나노코팅구조및 그제조방법이제공된다. 상기무반사나노코팅구조는평면또는곡면기판; 상기기판상에배치되고, 상기기판에비해저굴절률을갖는제1 산화물나노입자를포함하는제1 코팅층; 상기제1 코팅층상에수직배열된, 이산화티탄나노입자로이루어진테이퍼드나노필러(tapered nano-pillar)를포함하는제2 코팅층; 및상기나노필러의단부에배치된, 상기기판에비해저굴절률을갖는제2 산화물나노입자를포함하는제3 코팅층;을포함한다. 상기무반사나노코팅구조는입사광의각도의존성이매우낮은무반사특성을갖는다. 상기무반사나노코팅구조는스퍼터링방법을반응성기체의비율을조절함으로써기판의곡률에관계없이기판의모든면에서수직배열되는나노구조를형성할수 있다.

    摘要翻译: 提供一种抗反射纳米涂层结构及其制造方法。 抗反射纳米涂层结构包括:平坦或曲线基板; 布置在所述基板上的第一涂层,包括具有比所述基板的折射率低的折射率的第一氧化物纳米颗粒; 垂直设置在第一涂层上的第二涂层,包括由二氧化钛纳米颗粒构成的锥形纳米柱; 以及布置在所述纳米柱的端部上的第三涂层,包括具有比所述基底的反射指数低的反射指数的第二氧化物纳米颗粒。 抗反射纳米涂层结构具有入射光的角度依赖性低的抗反射性。 防反射纳米涂层结构控制溅射法中反应气体的比例,并且形成垂直布置在基板的所有表面上的纳米结构,而不涉及基板的曲率。

    은 도전막 및 그 제조법
    5.
    发明授权
    은 도전막 및 그 제조법 有权
    银导电膜及其制备方法

    公开(公告)号:KR101320909B1

    公开(公告)日:2013-10-21

    申请号:KR1020087016039

    申请日:2007-01-09

    IPC分类号: H01B5/14 H01B13/00 H01L31/04

    摘要: 본 발명은 박막형 태양전지의 표면 전극측 도전층에 적합한 은 도전막 및 그 제조법에 관한 것이다.
    박막형 태양전지는 벌크형 태양전지에 비해 입사광의 이용 효율이 높지만 박막형 태양전지에서는 광전변환층이 얇기 때문에 입사광의 유효 이용을 위한 텍스처 구조를 입사면에 직접 형성하는 것이 곤란하여, 광전변환층에서 다 흡수할 수 없었던 광을 상기 도전층에서 반사시켜, 광전변환층으로 되돌리는 등 하였다. 하지만 저저항이고, 고반사율이며, 텍스처 구조를 갖고, 기판과의 밀착성이 뛰어나는 등의 상기 도전층에 적합한 도전막은 존재하지 않았다는 문제가 있었다.
    본 발명은 상기 은 도전막을 기판상에 은 입자를 소결한 막 단면의 보이드(空孔) 밀도가 3개/㎛
    2 이하이고, 표면 거칠기 Ra가 10 내지 100nm의 텍스처 구조를 갖는 막으로 하는 등에 의해서 상기 문제의 해결을 도모한 것이다.
    태양전지, 광전변환층, 텍스처, 은, 도전막, 보이드,

    α-알루미나 층을 포함하는 절삭 공구 인서트 및 α-알루미나 층의 제조 방법
    6.
    发明授权
    α-알루미나 층을 포함하는 절삭 공구 인서트 및 α-알루미나 층의 제조 방법 有权
    包含α-氧化铝层的切割工具插件和制造α-铝氧化物层的方法

    公开(公告)号:KR101314504B1

    公开(公告)日:2013-10-07

    申请号:KR1020060094189

    申请日:2006-09-27

    发明人: 루피사카리

    IPC分类号: B23B27/14 B23B27/00

    摘要: 본 발명은 금속 가공에 사용되도록 설계된 코팅된 절삭 공구 인서트에 관한 것이다. 상기 코팅은 절삭 공구의 기능부 전체를 코팅하면서 기재부에 대하여 우수한 접착력을 가지고 있다. 상기 코팅은 적어도 한 층은 방향으로 강하게 배열된 α-Al
    2 O
    3 층인 하나 이상의 내화층을 포함한다. 상기 α-Al
    2 O
    3 층은 두께가 1-20㎛ 이고 폭에 대한 길이의 비가 2-15 인 원주형 입자를 포함한다. 상기 층은 XRD 로 측정시 강한 (006) 회절 피크 (peak) 를 가지며, (012), (104), (113), (024) 및 (116) 회절 피크에서 낮은 강도를 갖는데 특징이 있다. 방향으로 조직된 α-Al
    2 O
    3 층은 750-1000℃ 온도로 증착된다. 상기 조직은 황 및 불소를 함유하는 불순물과 결합하는 특정한 핵생성 과정에 의해 제어된다.
    코팅, 인서트

    고 명암비를 나타내는 눈부심 방지 필름 및 이의 제조 방법
    8.
    发明公开
    고 명암비를 나타내는 눈부심 방지 필름 및 이의 제조 방법 有权
    具有改进对比度的防透膜及其制备方法

    公开(公告)号:KR1020130010445A

    公开(公告)日:2013-01-28

    申请号:KR1020120078336

    申请日:2012-07-18

    摘要: PURPOSE: An anti-glare film having an improved contrast ratio is provided to control the thickness of an anti-glare prevention layer and a volume average diameter of a microparticle. CONSTITUTION: An anti-glare film comprises an anti-glare prevention layer on a transparent substrate layer and a transparent substrate layer. The anti-glare prevention layer comprises a photocurable resin and an organic or inorganic particle with a volume average particle diameter of 5-10 μm. The reflectivity difference of the organic or inorganic particle and the photocurable resin is 0.005-0.05. The volume average particle diameter of the organic or inorganic particle and the thickness of the anti-glare film satisfies the formula, 2X10^-2Δ (d-T)/T Δ 2X10^-1. Each particle diameter of the organic or inorganic particle is 5-10 μm.

    摘要翻译: 目的:提供对比度提高的防眩光膜,以控制防眩光层的厚度和微粒的体积平均直径。 构成:防眩膜在透明基材层和透明基材层上包含防眩光层。 防眩光层包含光固化树脂和体积平均粒径为5-10μm的有机或无机颗粒。 有机或无机颗粒和光固化树脂的反射率差为0.005-0.05。 有机或无机颗粒的体积平均粒径和防眩膜的厚度满足公式2X10 ^-2Δ(d-T)/ TΔ2X10 ^ -1。 有机或无机颗粒的每个粒径为5-10μm。