公开(公告)号：KR1020170012189A

公开(公告)日：2017-02-02

申请号：KR1020167021448

申请日：2015-05-11

Applicant: 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤

Inventor： 카라사와,료 ,  소메야,야스노부 ,  엔도,타카후미 ,  니시타,토키오 ,  사카모토,리키마루

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027 ,  C08F220/18 ,  C08F220/52

CPC classification number: G03F7/11 ,  C08F220/14 ,  C08F220/58 ,  C09D133/26 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/26 ,  G03F7/40 ,  H01L21/0271 ,  H01L21/0332 ,  H01L21/3081 ,  H01L21/3086

Abstract: [과제] 상층으로부터의패턴전사나기판의가공시에드라이에칭이가능하고, 기판가공후에는알칼리수용액으로제거가가능한레지스트하층막을형성하기위한레지스트하층막형성조성물을제공한다. [해결수단] 하기식(1)로표시되는단위구조와하기식(2)로표시되는단위구조를포함하는폴리머(A), 블록이소시아네이트기, 메틸올기또는탄소원자수 1 내지 5의알콕시메틸기로부터선택되는적어도 2개의기를갖는가교성화합물(B), 및용제(C)를포함하는레지스트하층막형성조성물로서, 이폴리머(A)는이 식(1)로표시되는단위구조와이 식(2)로표시되는단위구조가몰%로식(1)로표시되는단위구조:식(2)로표시되는단위구조=25 내지 60:75 내지 40의비율로공중합하고있는폴리머인것을특징으로하는이 조성물.

Abstract translation: [问题]提供一种用于形成抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物，可以从上层转印图案，其可以在基板的加工过程中进行干蚀刻，并且可以使用 碱处理后的碱性水溶液。 [溶液]一种抗蚀剂下层膜成膜组合物，其含有：具有式（1）所示的单元结构的聚合物（A）和式（2）所示的单元结构; 具有选自封端异氰酸酯基，羟甲基和具有1-5个碳原子的烷氧基甲基中的至少两个基团的交联性化合物（B）; 和溶剂（C）。 该组合物的特征在于，聚合物（A）是其中由式（1）表示的单元结构和由式（2）表示的单元结构以（式（1）表示的单元结构）共聚的聚合物:( 以式（2）表示的单元结构）的摩尔比为25-60：75-40。

公开(公告)号：KR101626472B1

公开(公告)日：2016-06-01

申请号：KR1020147006221

申请日：2012-08-27

Applicant: 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤

Inventor： 소다,히로유키 ,  사카구치,타카히로

IPC: C08F220/36 ,  C08F220/52 ,  C08F220/26 ,  C08F222/40 ,  C08L33/04 ,  G02B1/04

CPC classification number: C09D139/04 ,  C08F220/36 ,  C08F222/40 ,  C08L2203/16 ,  C09D135/02 ,  G02B1/04 ,  G02B1/041 ,  C08F2220/346 ,  C08F220/20 ,  C08F212/08 ,  C08L33/10 ,  C08L33/08 ,  C08L33/24

Abstract: [과제] 수지조성물을제공하는것이다. [해결수단] 하기식(1), 식(2) 및식(3)으로표시되는구조단위를갖는공중합체및 용제를함유하는수지조성물.(식중, X는탄소원자수 1 내지 5의알킬기, 탄소원자수 5 또는 6의시클로알킬기, 페닐기또는벤질기를나타내고, 상기알킬기, 상기시클로알킬기, 상기페닐기및 상기벤질기는, 수소원자의일부또는전부가할로겐원자, 카르복실기, 하이드록시기, 아미노기또는니트로기로치환되어있을수도있고, R은각각독립적으로수소원자또는메틸기를나타내고, R는단결합또는탄소원자수 1 내지 5의알킬렌기를나타내고, R은블록이소시아네이트기를나타내고, Y는 -O-기또는 -NH-기를나타내고, R는단결합또는탄소원자수 1 내지 5의알킬렌기를나타내고, R는치환기로서하이드록시기를갖는탄소원자수 1 내지 20의탄화수소기또는페닐기를나타낸다.)

Abstract translation: [问题]提供一种树脂组合物。 [解决问题的手段]下述式（1）和（2）含有所述共聚物和具有由mitsik表示的结构单元的溶剂中的树脂组合物（3）（式中，X表示碳原子数1〜5个碳原子的烷基 环烷基，环烷基，环烷基，环烷基，环烷基，环烷基，环烷基，环烷基，环烷基，氰基， 并且还，R各自独立地表示氢原子或甲基，R neundan键或表示的亚烷基中的一至五个碳原子，R表示多异氰酸酯块，Y表示基团-O-或-NH-， řneundan键或表示一个亚烷基中五个碳原子，R是一个取代基表示碳原子数为1〜20或具有羟基的苯基的烃基。）

公开(公告)号：KR101517267B1

公开(公告)日：2015-05-11

申请号：KR1020120055049

申请日：2012-05-23

Applicant: 주식회사 엘지화학

Inventor： 강병일 ,  한창훈

IPC: C08F220/10 ,  C08F220/52 ,  C08L33/04 ,  G02B5/30

Abstract: 본 발명은 수지 조성물 및 이를 이용하여 형성된 광학 필름에 관한 것으로, 보다 상게하게는 알킬(메트)아크릴레이트계 단위, C6-10 바이시클로알킬기를 함유한 아크릴계 단위 및 이미드계 단위를 포함하는 아크릴계 공중합체 수지 및 이를 이용하여 형성된 광학 필름에 관한 것이다.
본 발명에 따른 아크릴계 공중합체 수지는 광학적 특성이 뛰어난 동시에 광학적 투명도가 우수하며, 헤이즈가 적고, 기계적 강도 및 내열성이 우수한 편광판용 보호필름을 제공할 수 있으며, 따라서 본 발명의 아크릴계 공중합체 수지를 이용하여 형성된 광학필름은 다양한 용도로 디스플레이 장치 등 정보전자 장치에 사용될 수 있다.

公开(公告)号：KR1020130117824A

公开(公告)日：2013-10-28

申请号：KR1020137016222

申请日：2011-11-23

Applicant: 스미토모 베이클리트 컴퍼니 리미티드

Inventor： 오니시,오사무 ,  이케다,하루오 ,  로데스,래리,에프. ,  칸다나랏치,프라모드

IPC: C08F222/06 ,  C08F220/52 ,  C08F210/14 ,  G03F7/038

CPC classification number: G03F7/0382 ,  C08F222/06 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0395 ,  C08F210/14 ,  C08F220/52 ,  G03F7/038

Abstract: 자체-화상형성성 필름용 중합체 및 이러한 중합체를 포함하는 조성물에 관한 것으로, 이러한 중합체는 적어도 하나의 페놀 관능성을 갖는 노보넨-타입 반복 유니트 및 적어도 하나의 말레산 무수물-타입 반복 유니트를 포함하는 중합체를 포함하며, 이는 포지티브 톤 화상 또는 네거티브 톤 화상이 되도록 배합될 수 있다. 이에 따라 형성된 필름은 마이크로전자 장치, 예를 들어, 반도체 및 광전자 장치의 제조에 자체-화상형성성 층으로 유용하다.

Abstract translation: 用于形成包含包含具有至少一个酚官能度的降冰片烯型重复单元和马来酸酐型重复单元的聚合物的聚合物和组合物，其可被配制为正色调成像或负色调成像。 由此形成的膜可用作微电子制造中的自可成像层，例如半导体和光电器件。

公开(公告)号：KR1020120002415A

公开(公告)日：2012-01-05

申请号：KR1020110044382

申请日：2011-05-12

Applicant: 주식회사 엘지화학

Inventor： 강병일 ,  한창훈 ,  이대우 ,  최은정

IPC: C08F220/18 ,  C08F220/52 ,  G02B5/02 ,  G02F1/1335

CPC classification number: G02F1/133634 ,  C08F220/14 ,  C08F220/18 ,  C08F222/40 ,  G02B1/105 ,  G02B1/14 ,  G02B5/3083

Abstract: PURPOSE: An acrylic copolymer is provided to have excellent heat resistance and miscibility with maintaining transparency. CONSTITUTION: An acrylic copolymer comprises 50-98.9 parts by weight alkyl (meth)acrylate-based monomer, 0.1-50 parts by weight (meth)acrylate-based monomer including an aromatic ring, and 0.1-10 parts by weight maleimide-based monomer, on the basis of the 100 parts by weight acrylic copolymer. The maleimide-based monomer is a maleimide-based monomer substituted by C1-10 alkyl group or C6-12 aryl group. A compounding resin comprises the acrylic copolymer, and a resin in which backbone comprises one or two kinds selected from an aromatic ring and aliphatic ring.

Abstract translation: 目的：提供丙烯酸共聚物以具有优异的耐热性和混溶性，同时保持透明度。 构成：丙烯酸共聚物包含50-98.9重量份（甲基）丙烯酸烷基酯基单体，0.1-50重量份包含芳环的（甲基）丙烯酸酯单体，和0.1-10重量份马来酰亚胺基单体 ，基于100份重量的丙烯酸共聚物。 马来酰亚胺类单体是被C 1-10烷基或C 6-12芳基取代的马来酰亚胺类单体。 复合树脂包括丙烯酸共聚物和其中主链包含选自芳族环和脂族环中的一种或两种的树脂。

公开(公告)号：KR1020080104794A

公开(公告)日：2008-12-03

申请号：KR1020070052110

申请日：2007-05-29

Applicant: 주식회사 엘지화학

Inventor： 이상철 ,  고민진 ,  김민균 ,  노정임

IPC: C08F220/52 ,  C08F4/44 ,  C08J5/24 ,  G03F7/00

CPC classification number: C08F220/06 ,  C08F2/44 ,  C08F2/48 ,  C08F4/44 ,  C08F220/26 ,  C08F220/52 ,  C08F2220/325 ,  H05K1/0218 ,  H05K3/105

Abstract: A catalyst precursor resin composition for electromagnetic interference shielding, and a method for preparing a metal pattern for electromagnetic interference shielding by using the composition are provided to allow micropattern to be formed, to reduce the loss of a catalyst in case of wet process such as electroless plating and to improve the adhesion and deposition of a metal pattern. A catalyst precursor resin composition for electromagnetic interference shielding comprises a copolymer resin comprising a monomer containing a carboxyl group and a maleimide monomer having the nitrogen substituted with oil-soluble functional group; a catalyst which is one selected from a palladium (Pd) particle, a silver (Ag) particle and a silver ion fluoride organic complex; a multifunctional monomer containing an ethylenically unsaturated bond; a photoinitiator; and an organic solvent.

Abstract translation: 提供了用于电磁干扰屏蔽的催化剂前体树脂组合物，以及通过使用该组合物制备用于电磁干扰屏蔽的金属图案的方法，以形成微图案，以减少在诸如无电镀的湿法处理的催化剂的损失 电镀并改善金属图案的粘合和沉积。 用于电磁干扰屏蔽的催化剂前体树脂组合物包括包含含有羧基的单体和具有被油溶性官能团取代的氮的马来酰亚胺单体的共聚物树脂; 选自钯（Pd）颗粒，银（Ag）颗粒和银离子氟化物有机络合物的催化剂; 含有烯属不饱和键的多官能单体; 光引发剂; 和有机溶剂。

公开(公告)号：KR1020060090350A

公开(公告)日：2006-08-10

申请号：KR1020050011134

申请日：2005-02-07

Applicant: 주식회사 엘지화학

Inventor： 김태훈 ,  노재일 ,  전문균

IPC: C08F220/52 ,  C08F220/06

CPC classification number: C08F220/18 ,  C08F2/38 ,  C08F2/44 ,  C08F8/32 ,  C08F220/08 ,  C08F220/14

Abstract: 본 발명은 투명성과 내열성이 우수한 이미드 치환 공중합 수지의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명은 불포화 디카르복실산 무수물 단량체와 용매의 혼합물, 메타크릴산 에스테르 단량체, 개시제 및 사슬전달제를 회분식 반응기에 분리 투입하여 공중합 시키는 단계; 및 상기 공중합 단계를 거친 회분식 반응기에 제1급 아민과 이미드 치환 반응 활성촉매의 혼합물을 연속적으로 공급하여 이미드 치환 반응을 시키는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 이미드 치환 공중합 수지의 제조방법을 제공한다.
본 발명에 의한 이미드 치환 공중합 수지의 제조방법을 사용하여 제조된 이미드 치환 공중합 수지는 우수한 투명성과 내열성을 가지게 되어 전반적인 물성 밸런스가 고르게 유지되고 용융지수가 높아 가공성이 우수하다.
메타크릴산 에스테르, 불포화 디카르복실산 무수물, 불포화 디카르복실산 이미드, 이미드 치환

Abstract translation: 本发明涉及一种用于具有优异的透明性和耐热性的酰亚胺基取代的共聚物树脂的制备方法，本发明是一种不饱和二羧酸酐单体和溶剂的混合物中，甲基丙烯酸酯单体，引发剂和链转移剂间歇式反应器 在分离该共聚物的步骤; 和用于制造包括所述伯胺的步骤的酰亚胺基取代的共聚物树脂和已经连续地供给到进行了共聚步骤去复分解活性的催化剂酰亚胺取代反应在分批反应器的混合物中的方法 它提供。

公开(公告)号：KR1019990037992A

公开(公告)日：1999-06-05

申请号：KR1019970057572

申请日：1997-11-01

Applicant: 에스케이하이닉스 주식회사

Inventor： 정재창

IPC: C08F220/52 ,  C08F232/00

Abstract: 본 발명은 고집적 반도체 소자의 미세회로 제작시, 1G 및 4G 에의 적용이 예상되는 ArF (193㎚) 또는 KrF (249㎚) 등의 원자외선 광원을 사용한 광리소그래피 공정에서의 공중합체 수지와 포토레지스트 및 그 제조방법에 관한 것으로, 포토레지스트용 공중합체 수지의 구조에서 말레이미드를 사용하면 지방족환형 올레핀과의 공중합을 용이하게 할 수 있고, 테트라메틸 암모늄 하이드록사이드(TMAH) 현상액에 현상 가능하며, 상기 말레이미드에 접착성을 증가시키는 작용기를 도입하여 포토레지스트의 접착성을 크게 증가시킴으로써 반도체소자의 고집적화를 가능하게 하는 기술이다.

公开(公告)号：KR1019980081201A

公开(公告)日：1998-11-25

申请号：KR1019980012445

申请日：1998-04-08

Applicant: 3브이 시그마 에스.피.아.

Inventor： 자노띠-루쏘마테오

IPC: C08F220/18 ,  C08F220/38 ,  C08F220/52

CPC classification number: A61K8/8158 ,  A61K8/8152 ,  A61K8/8182 ,  A61K8/86 ,  A61Q5/06 ,  A61Q19/00 ,  C08F220/04 ,  C08F220/28 ,  C09D11/03 ,  Y10S524/916 ,  Y10S526/932

Abstract: 본 발명은 a) 일종 이상의 불포화 카르복실산, 약 10 내지 약 97 중량%; b) 일종 이상의 불포화산의 알킬 에스테르, 0 내지 약 80 중량%; c) 결합성 모노머, 약 0.5 내지 약 80 중량%; d) 불포화 아미드, 0 내지 약 20 중량%; e) 적합한 가교제, 약 0.2 내지 약 20 중량%; f) 불포화 술폰산, 0 내지 약 20중량%를 포함하는 모노머 시스템을 중합시켜 얻을 수 있으며, 증점성 및 현탁성이 우수한 가교 공중합체에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 침전, 현탁, 용액 또는 유화 중합을 포함하는 중합법에 의해 이들을 제조하는 방법; 상기 공중합체를 50%이상 포함하는 라텍스; 상기 중합방법으로 제조한 상기 가교 공중합체 및 상기 라텍스; 이들을 수성 또는 실질적인 수성시스템의 증점제로 사용하는 방법; 및 신규한 가교제에 관한 것이다.

公开(公告)号：KR100067281B1

公开(公告)日：1993-11-04

申请号：KR1019870011845

申请日：1987-10-24

Applicant: 로디아 쉬미

Inventor： 르네알펭

IPC: C08F220/52 ,  C08F220/40