半導體裝置及其製造方法
    2.
    发明专利
    半導體裝置及其製造方法 审中-公开
    半导体设备及其制造方法

    公开(公告)号:TW201724366A

    公开(公告)日:2017-07-01

    申请号:TW105138987

    申请日:2016-11-25

    IPC分类号: H01L21/82

    摘要: 本發明實施例提供一種積體電路(IC)結構。該IC結構包括一深n型井(DNW)、一第一電路、一第二電路、一第一電力線及一第二電力線。該第一電路位於該DNW中。該第二電路位於該DNW外部且與該第一電路電連接。該第一電力線經組態以提供電力給該第一電路。該第二電力線經組態以提供電力給該第二電路。該第二電力線與該第一電力線電連接。該第一電力線與該第二電力線位於不同導電層中。

    简体摘要: 本发明实施例提供一种集成电路(IC)结构。该IC结构包括一深n型井(DNW)、一第一电路、一第二电路、一第一电力线及一第二电力线。该第一电路位于该DNW中。该第二电路位于该DNW外部且与该第一电路电连接。该第一电力线经组态以提供电力给该第一电路。该第二电力线经组态以提供电力给该第二电路。该第二电力线与该第一电力线电连接。该第一电力线与该第二电力线位于不同导电层中。