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公开(公告)号：TWI529841B
公开(公告)日：2016-04-11
申请号：TW101119349
申请日：2012-05-30
发明人： 平河修 , HIRAKAWA, OSAMU , 吉高直人 , YOSHITAKA, NAOTO , 松永正隆 , MATSUNAGA, MASATAKA , 岡本典彥 , OKAMOTO, NORIHIKO
IPC分类号： H01L21/677
CPC分类号： H01L21/677 , H01L21/67092 , H01L21/67103
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公开(公告)号：TWI501332B
公开(公告)日：2015-09-21
申请号：TW101100048
申请日：2012-01-02
发明人： 吉高直人 , YOSHITAKA, NAOTO , 岩下泰治 , IWASHITA, YASUHARU , 松永正隆 , MATSUNAGA, MASATAKA
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/67 , H01L21/677 , B08B3/04
CPC分类号： H01L21/02002 , B32B38/10 , B32B43/006 , H01L21/67051 , H01L21/67092 , H01L21/67103 , H01L21/68728 , Y10T156/1132 , Y10T156/19 , Y10T156/1944
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公开(公告)号：TWI500102B
公开(公告)日：2015-09-11
申请号：TW100128881
申请日：2011-08-12
发明人： 平河修 , HIRAKAWA, OSAMU , 吉高直人 , YOSHITAKA, NAOTO , 松永正隆 , MATSUNAGA, MASATAKA , 岡本典彥 , OKAMOTO, NORIHIKO
CPC分类号： H01L21/673 , H01L21/67092 , H01L21/6715 , H01L21/67748 , H01L21/68707 , Y10T156/10 , Y10T156/15 , Y10T156/1744
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公开(公告)号：TW201438127A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：TW103102144
申请日：2014-01-21
发明人： 杉原紳太郎 , SUGIHARA, SHINTARO , 吉高直人 , YOSHITAKA, NAOTO , 北原重德 , KITAHARA, SHIGENORI , 廣瀨圭藏 , HIROSE, KEIZO
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/683
CPC分类号： H01L21/67092 , H01L21/681 , H01L21/6838 , Y10T29/53961
摘要： 本發明之目的為：在將基板彼此接合時，適當地保持基板，並防止所接合之基板產生垂直方向的偏差。為了達成上述目的，本發明之接合裝置包含：上夾頭，其在底面吸附保持上晶圓；下夾頭，其設置在上夾頭的下方，並在頂面吸附保持下晶圓；以及下夾頭保持部235，其設置在下夾頭的下方，並吸附保持下夾頭。在下夾頭保持部235的第1本體部290a上設置了比周圍更突出，且與下夾頭接觸的中心突出部291。在下夾頭保持部235的第2本體部290b與第3本體部290c上，真空吸引下夾頭用的吸引溝292以同心圓狀且環狀的方式設置二圈。在下夾頭保持部235的第4本體部290d上設置了比周圍更突出，且與下夾頭接觸的複數個外周突出部293。
简体摘要： 本发明之目的为：在将基板彼此接合时，适当地保持基板，并防止所接合之基板产生垂直方向的偏差。为了达成上述目的，本发明之接合设备包含：上夹头，其在底面吸附保持上晶圆；下夹头，其设置在上夹头的下方，并在顶面吸附保持下晶圆；以及下夹头保持部235，其设置在下夹头的下方，并吸附保持下夹头。在下夹头保持部235的第1本体部290a上设置了比周围更突出，且与下夹头接触的中心突出部291。在下夹头保持部235的第2本体部290b与第3本体部290c上，真空吸引下夹头用的吸引沟292以同心圆状且环状的方式设置二圈。在下夹头保持部235的第4本体部290d上设置了比周围更突出，且与下夹头接触的复数个外周突出部293。
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公开(公告)号：TWI390654B
公开(公告)日：2013-03-21
申请号：TW098120438
申请日：2009-06-18
发明人： 錦戶修一 , NISHIKIDO, SHUICHI , 吉高直人 , YOSHITAKA, NAOTO , 德永容一 , TOKUNAGA, YOICHI
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公开(公告)号：TWI390590B
公开(公告)日：2013-03-21
申请号：TW101116505
申请日：2007-12-19
发明人： 瀧口靖史 , TAKIGUCHI, YASUSHI , 山本太郎 , YAMAMOTO, TARO , 藤本昭浩 , FUJIMOTO, AKIHIRO , 錦戶修一 , NISHIKIDO, SHUUICHI , 熊谷大 , KUMAGAI, DAI , 吉高直人 , YOSHITAKA, NAOTO , 北野高廣 , KITANO, TAKAHIRO , 德永容一 , TOKUNAGA, YOICHI
IPC分类号： H01L21/00
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公开(公告)号：TWI584362B
公开(公告)日：2017-05-21
申请号：TW100129955
申请日：2011-08-22
发明人： 平河修 , HIRAKAWA, OSAMU , 吉高直人 , YOSHITAKA, NAOTO , 松永正隆 , MATSUNAGA, MASATAKA , 岡本典彥 , OKAMOTO, NORIHIKO
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/67 , H01L21/66
CPC分类号： H01L21/02076 , B32B38/10 , B32B43/006 , H01L21/02057 , H01L21/67051 , H01L21/67092 , Y10T156/11 , Y10T156/1132 , Y10T156/1153 , Y10T156/1168 , Y10T156/19 , Y10T156/1911 , Y10T156/1944
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公开(公告)号：TWI567849B
公开(公告)日：2017-01-21
申请号：TW101133313
申请日：2012-09-12
发明人： 岡田慎二 , OKADA, SHINJI , 白石雅敏 , SHIRAISHI, MASATOSHI , 出口雅敏 , DEGUCHI, MASATOSHI , 吉高直人 , YOSHITAKA, NAOTO , 杉原紳太郎 , SUGIHARA, SHINTARO , 松永正隆 , MATSUNAGA, MASATAKA
CPC分类号： H01L21/67092 , H01L21/67109 , H01L21/67742 , H01L21/6838 , H01L21/68707
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公开(公告)号：TWI474420B
公开(公告)日：2015-02-21
申请号：TW100106282
申请日：2011-02-24
发明人： 西林孝浩 , NISHIBAYASHI, TAKAHIRO , 北山殖也 , KITAYAMA, TATSUYA , 吉高直人 , YOSHITAKA, NAOTO
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67092 , H01L21/187
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公开(公告)号：TW201432838A
公开(公告)日：2014-08-16
申请号：TW103116514
申请日：2012-06-29
发明人： 相馬康孝 , SOMA, YASUTAKA , 吉高直人 , YOSHITAKA, NAOTO , 米田洋 , KOMEDA, HIROSHI , 真鍋英二 , MANABE, EIJI , 平河修 , HIRAKAWA, OSAMU , 出口雅敏 , DEGUCHI, MASATOSHI , 田村武 , TAMURA, TAKESHI
IPC分类号： H01L21/67 , B08B3/04 , H01L21/304
CPC分类号： B32B43/006 , B32B38/10 , H01L21/67051 , H01L21/67092 , H01L21/673 , H01L21/67346 , H01L2221/683 , H01L2221/68304 , H01L2221/68318 , Y10T156/1153 , Y10T156/1168 , Y10T156/1911 , Y10T156/1978 , Y10T156/1994
摘要： [課題]適當地洗淨被配置在環狀之框架之內側而藉由該框架和膠帶被保持之狀態之被處理基板的接合面。[解決手段]洗淨裝置具有保持被處理晶圓(W)之晶圓保持部(130)，和具備覆蓋被處理晶圓(W)之接合面(WJ)之供給面(141)的洗淨治具(140)。在洗淨治具(140)設置有對間隙(142)供給溶劑之溶劑供給部(150)，和對間隙(142)供給沖洗液之沖洗液供給部(151)，和對間隙(142)供給惰性氣體之惰性氣體供給部(152)。來自溶劑供給部(150)之溶劑係藉由表面張力和離心力，在接合面(WJ)上擴散，來自沖洗液供給部(151)之沖洗液邊與溶劑混合，邊藉由表面張力和離心力在接合面(WJ)上擴散，接合面(WJ)藉由來自惰性氣體供給部(152)之惰性氣體被乾燥，該接合面(WJ)被洗淨。
简体摘要： [课题]适当地洗净被配置在环状之框架之内侧而借由该框架和胶带被保持之状态之被处理基板的接合面。[解决手段]洗净设备具有保持被处理晶圆(W)之晶圆保持部(130)，和具备覆盖被处理晶圆(W)之接合面(WJ)之供给面(141)的洗净治具(140)。在洗净治具(140)设置有对间隙(142)供给溶剂之溶剂供给部(150)，和对间隙(142)供给冲洗液之冲洗液供给部(151)，和对间隙(142)供给惰性气体之惰性气体供给部(152)。来自溶剂供给部(150)之溶剂系借由表面张力和离心力，在接合面(WJ)上扩散，来自冲洗液供给部(151)之冲洗液边与溶剂混合，边借由表面张力和离心力在接合面(WJ)上扩散，接合面(WJ)借由来自惰性气体供给部(152)之惰性气体被干燥，该接合面(WJ)被洗净。
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