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公开(公告)号：TWI610388B
公开(公告)日：2018-01-01
申请号：TW104131062
申请日：2012-01-19
发明人： 伯格拉夫 喬根 , 伯格斯泰勒 丹尼爾 , BURGSTALLER, DANIEL
CPC分类号： B32B43/006 , B32B38/10 , H01L21/67092 , H01L21/6835 , H01L21/6838 , H01L21/68707 , H01L21/68721 , H01L21/68785 , H01L2221/68381 , Y10T156/1168 , Y10T156/1978
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公开(公告)号：TWI595694B
公开(公告)日：2017-08-11
申请号：TW102124563
申请日：2013-07-09
发明人： 安耿顯 , AHN, KYUNG-HYUN , 朴鎮翰 , PARK, JIN-HAN , 金東述 , KIM, DONG-SUL , 李炳哲 , LEE, BYUNG-CHUL
CPC分类号： B29C69/006 , B32B38/10 , B32B43/006 , B32B2457/20 , Y10T156/1132 , Y10T156/1137 , Y10T156/1174 , Y10T156/1939 , Y10T156/195 , Y10T156/1956 , Y10T156/1978
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公开(公告)号：TW201606394A
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：TW104121235
申请日：2015-07-01
申请人： LG 化學股份有限公司 , LG CHEM, LTD.
发明人： 朴山 , PARK, SAN , 鄭奉洙 , JEUNG, BONG SU , 柳在漢 , RYOO, JEA HAN , 朴天湖 , PARK, CHEON HO , 李石宰 , LEE, SUK JAE , 金景植 , KIM, KYOUNG SIK
IPC分类号： G02F1/1335 , B32B38/10
CPC分类号： B32B43/006 , B32B37/003 , B32B37/06 , B32B38/10 , B32B2307/42 , B32B2457/20 , B65H29/54 , B65H41/00 , B65H2301/51122 , B65H2801/61 , Y10S156/93 , Y10S156/941 , Y10T156/1168 , Y10T156/1174 , Y10T156/195 , Y10T156/1978
摘要： 本發明是有關於一種用於從面板剝離偏光膜之剝離條、剝離裝置與剝離方法。本發明可使剝離條與偏光膜之間的摩擦最小化，乃因被剝離的偏光膜接觸剝離條的前部的尖端。所述前部的尖端處的彎曲表面的半徑及所述前部的傾斜上表面被設計成使施加至偏光膜的剪力的Z-軸分量最小化。此外，為使在剝離過程中施加至偏光膜的張力均等化，本發明使所述偏光膜的兩端緊密附著至剝離條。 根據本發明，能夠阻止偏光膜破裂，並因此使偏光膜可在不發生破裂的情況下穩定地從所述面板剝離。
简体摘要： 本发明是有关于一种用于从皮肤剥离偏光膜之剥离条、剥离设备与剥离方法。本发明可使剥离条与偏光膜之间的摩擦最小化，乃因被剥离的偏光膜接触剥离条的前部的尖端。所述前部的尖端处的弯曲表面的半径及所述前部的倾斜上表面被设计成使施加至偏光膜的剪力的Z-轴分量最小化。此外，为使在剥离过程中施加至偏光膜的张力均等化，本发明使所述偏光膜的两端紧密附着至剥离条。 根据本发明，能够阻止偏光膜破裂，并因此使偏光膜可在不发生破裂的情况下稳定地从所述皮肤剥离。
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公开(公告)号：TW201604927A
公开(公告)日：2016-02-01
申请号：TW104113384
申请日：2015-04-27
发明人： 大野正勝 , OHNO, MASAKATSU , 井戶尻悟 , IDOJIRI, SATORU , 菊地寛平 , KIKUCHI, KANPEI , 平形吉晴 , HIRAKATA, YOSHIHARU , 横山浩平 , YOKOYAMA, KOHEI
CPC分类号： H01L21/463 , B32B38/10 , B32B43/006 , H01L21/67092 , H01L21/6838 , Y10T156/1132 , Y10T156/1168 , Y10T156/1184 , Y10T156/1928 , Y10T156/1944 , Y10T156/1961 , Y10T156/1967 , Y10T156/1978
摘要： 在第二基板(22)的角落(221)將楔形治具(6)插入第一基板(21)與第二基板(22)之間的間隙，附接的第一基板(21)及第二基板(22)的分離開始進行；然後，將離角落(221)最近的第二吸附部(51)的第二吸附盤(53)向上移動。然後，將第一吸附部(41a)、(41b)以及(41c)的第一吸附盤(43)依次向上移動，以使第二基板(22)的一側從疊層體分離。雖然在第二基板(22)的分離進行時第二基板(22)捲曲，複數個第一吸附盤(43)的每一個彈性變形。因此，能防止第一吸附盤(43)從第二基板(22)卸除，且能從疊層體可靠地分離第二基板(22)。
简体摘要： 在第二基板(22)的角落(221)将楔形治具(6)插入第一基板(21)与第二基板(22)之间的间隙，附接的第一基板(21)及第二基板(22)的分离开始进行；然后，将离角落(221)最近的第二吸附部(51)的第二吸附盘(53)向上移动。然后，将第一吸附部(41a)、(41b)以及(41c)的第一吸附盘(43)依次向上移动，以使第二基板(22)的一侧从叠层体分离。虽然在第二基板(22)的分离进行时第二基板(22)卷曲，复数个第一吸附盘(43)的每一个弹性变形。因此，能防止第一吸附盘(43)从第二基板(22)卸除，且能从叠层体可靠地分离第二基板(22)。
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公开(公告)号：TWI505937B
公开(公告)日：2015-11-01
申请号：TW100114116
申请日：2011-04-22
发明人： 千田昌男 , CHIDA, MASAO , 森昭二 , MORI, SYOUJI
IPC分类号： B32B37/26
CPC分类号： B29C65/7805 , B29C63/02 , B29L2031/3475 , B32B37/003 , B32B38/10 , B32B38/1858 , B32B38/1866 , B32B39/00 , B32B2457/20 , Y10T156/195 , Y10T156/1978 , Y10T156/1994
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公开(公告)号：TW201448107A
公开(公告)日：2014-12-16
申请号：TW103108148
申请日：2014-03-10
发明人： 高瀬真治 , TAKASE, SHINJI , 稲尾吉浩 , INAO, YOSHIHIRO , 中村彰彥 , NAKAMURA, AKIHIKO
IPC分类号： H01L21/683
CPC分类号： B32B43/006 , B32B2457/14 , H01L21/67092 , H01L2221/68386 , Y10T156/1132 , Y10T156/1168 , Y10T156/1195 , Y10T156/1944 , Y10T156/1978 , Y10T156/1994
摘要： 支承體分離裝置(100)，係為從將基板(1)和接著層(2)和藉由吸收光而變質之分離層(3)以及支承板(4)依此順序而層積所成之層積體，而將支承板(4)分離，並具備有：將層積體之其中一面作保持之保持部(11)；和使保持部(11)升降之升降部(12)；和用以將施加於保持部(11)處的力保持為一定之調整部(13)。
简体摘要： 支承体分离设备(100)，系为从将基板(1)和接着层(2)和借由吸收光而变质之分离层(3)以及支承板(4)依此顺序而层积所成之层积体，而将支承板(4)分离，并具备有：将层积体之其中一面作保持之保持部(11)；和使保持部(11)升降之升降部(12)；和用以将施加于保持部(11)处的力保持为一定之调整部(13)。
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公开(公告)号：TW201432838A
公开(公告)日：2014-08-16
申请号：TW103116514
申请日：2012-06-29
发明人： 相馬康孝 , SOMA, YASUTAKA , 吉高直人 , YOSHITAKA, NAOTO , 米田洋 , KOMEDA, HIROSHI , 真鍋英二 , MANABE, EIJI , 平河修 , HIRAKAWA, OSAMU , 出口雅敏 , DEGUCHI, MASATOSHI , 田村武 , TAMURA, TAKESHI
IPC分类号： H01L21/67 , B08B3/04 , H01L21/304
CPC分类号： B32B43/006 , B32B38/10 , H01L21/67051 , H01L21/67092 , H01L21/673 , H01L21/67346 , H01L2221/683 , H01L2221/68304 , H01L2221/68318 , Y10T156/1153 , Y10T156/1168 , Y10T156/1911 , Y10T156/1978 , Y10T156/1994
摘要： [課題]適當地洗淨被配置在環狀之框架之內側而藉由該框架和膠帶被保持之狀態之被處理基板的接合面。[解決手段]洗淨裝置具有保持被處理晶圓(W)之晶圓保持部(130)，和具備覆蓋被處理晶圓(W)之接合面(WJ)之供給面(141)的洗淨治具(140)。在洗淨治具(140)設置有對間隙(142)供給溶劑之溶劑供給部(150)，和對間隙(142)供給沖洗液之沖洗液供給部(151)，和對間隙(142)供給惰性氣體之惰性氣體供給部(152)。來自溶劑供給部(150)之溶劑係藉由表面張力和離心力，在接合面(WJ)上擴散，來自沖洗液供給部(151)之沖洗液邊與溶劑混合，邊藉由表面張力和離心力在接合面(WJ)上擴散，接合面(WJ)藉由來自惰性氣體供給部(152)之惰性氣體被乾燥，該接合面(WJ)被洗淨。
简体摘要： [课题]适当地洗净被配置在环状之框架之内侧而借由该框架和胶带被保持之状态之被处理基板的接合面。[解决手段]洗净设备具有保持被处理晶圆(W)之晶圆保持部(130)，和具备覆盖被处理晶圆(W)之接合面(WJ)之供给面(141)的洗净治具(140)。在洗净治具(140)设置有对间隙(142)供给溶剂之溶剂供给部(150)，和对间隙(142)供给冲洗液之冲洗液供给部(151)，和对间隙(142)供给惰性气体之惰性气体供给部(152)。来自溶剂供给部(150)之溶剂系借由表面张力和离心力，在接合面(WJ)上扩散，来自冲洗液供给部(151)之冲洗液边与溶剂混合，边借由表面张力和离心力在接合面(WJ)上扩散，接合面(WJ)借由来自惰性气体供给部(152)之惰性气体被干燥，该接合面(WJ)被洗净。
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公开(公告)号：TW201431768A
公开(公告)日：2014-08-16
申请号：TW102145975
申请日：2013-12-12
发明人： 川越理史 , KAWAGOE, MASAFUMI , 正司和大 , SHOJI, KAZUHIRO , 芝藤彌生 , SHIBAFUJI, YAYOI , 增市幹雄 , MASUICHI, MIKIO , 上野博之 , UENO, HIROYUKI , 上野美佳 , UENO, MIYOSHI , 谷口和隆 , TANIGUCHI, KAZUTAKA
IPC分类号： B65H41/00
CPC分类号： B32B43/006 , Y10T156/11 , Y10T156/1978
摘要： 本發明之剝離裝置包括：第1保持設備310，其保持第1板狀體BL；剝離開始設備321，其藉由使第1板狀體BL之一端部向與第2板狀體SB相反之方向彎曲成柱面狀，而使第2板狀體SB中之密接於第1板狀體BL之密接區域之一部分轉換成第1板狀體BL已剝離之剝離區域，於密接區域與剝離區域之邊界形成單一且直線狀之邊界線；第2保持設備122，其保持形成有剝離區域之第2板狀體SB；及隔開設備，其使第1保持設備310與第2保持設備122之間隔增大，從而使第1板狀體BL與第2板狀體SB隔開。
简体摘要： 本发明之剥离设备包括：第1保持设备310，其保持第1板状体BL；剥离开始设备321，其借由使第1板状体BL之一端部向与第2板状体SB相反之方向弯曲成柱面状，而使第2板状体SB中之密接于第1板状体BL之密接区域之一部分转换成第1板状体BL已剥离之剥离区域，于密接区域与剥离区域之边界形成单一且直线状之边界线；第2保持设备122，其保持形成有剥离区域之第2板状体SB；及隔开设备，其使第1保持设备310与第2保持设备122之间隔增大，从而使第1板状体BL与第2板状体SB隔开。
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公开(公告)号：TW201423832A
公开(公告)日：2014-06-16
申请号：TW102133848
申请日：2013-09-18
发明人： 本田勝 , HONDA, MASARU , 伊藤正則 , ITOU, MASANORI
CPC分类号： B32B43/006 , B32B38/10 , B32B2457/14 , H01L21/67092 , H01L21/6838 , Y10T156/1168 , Y10T156/19 , Y10T156/1978
摘要： 本發明旨在提供一種剝離裝置、剝離系統及剝離方法，實現剝離處理之高效率化。依實施形態之剝離裝置包含第1固持部、第2固持部與移動機構。第1固持部自上方固持附DF重合基板中之支持基板。第2固持部隔著切割膠帶自下方固持附DF重合基板中之被處理基板。移動機構令第1固持部朝向遠離第2固持部之方向移動。
简体摘要： 本发明旨在提供一种剥离设备、剥离系统及剥离方法，实现剥离处理之高效率化。依实施形态之剥离设备包含第1固持部、第2固持部与移动机构。第1固持部自上方固持附DF重合基板中之支持基板。第2固持部隔着切割胶带自下方固持附DF重合基板中之被处理基板。移动机构令第1固持部朝向远离第2固持部之方向移动。
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公开(公告)号：TW201407856A
公开(公告)日：2014-02-16
申请号：TW102124563
申请日：2013-07-09
发明人： 安耿顯 , AHN, KYUNG-HYUN , 朴鎮翰 , PARK, JIN-HAN , 金東述 , KIM, DONG-SUL , 李炳哲 , LEE, BYUNG-CHUL
IPC分类号： H01L51/56
CPC分类号： B29C69/006 , B32B38/10 , B32B43/006 , B32B2457/20 , Y10T156/1132 , Y10T156/1137 , Y10T156/1174 , Y10T156/1939 , Y10T156/195 , Y10T156/1956 , Y10T156/1978
摘要： 一種剝離設備，包含安裝有下支撐部、設置於下支撐部之受體基板以及受體基板插設於其間，沿著受體基板之邊緣層疊於下支撐部之供體膜之階台。剝離設備進一步包含藉由夾持供體膜尾端以移動供體膜尾端朝遠離受體基板之方向移動之設置於階台末端之第一夾具；以及設置於供體膜上以支撐設置於受體基板與第一夾具之間之供體膜之第一剝離滾筒，並轉動自身朝向第一夾具之方向。
简体摘要： 一种剥离设备，包含安装有下支撑部、设置于下支撑部之受体基板以及受体基板插设于其间，沿着受体基板之边缘层叠于下支撑部之供体膜之阶台。剥离设备进一步包含借由夹持供体膜尾端以移动供体膜尾端朝远离受体基板之方向移动之设置于阶台末端之第一夹具；以及设置于供体膜上以支撑设置于受体基板与第一夹具之间之供体膜之第一剥离滚筒，并转动自身朝向第一夹具之方向。
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