公开(公告)号：TWI680881B

公开(公告)日：2020-01-01

申请号：TW105112832

申请日：2016-04-25

Applicant: 日商東京應化工業股份有限公司 ,  TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

Inventor： 吉岡孝広 ,  YOSHIOKA, TAKAHIRO ,  田村弘毅 ,  TAMURA, KOKI ,  今井洋文 ,  IMAI, HIROFUMI ,  久保安通史 ,  KUBO, ATSUSHI

IPC: B32B7/06 ,  B32B7/12 ,  C09J183/04

公开(公告)号：TWI505940B

公开(公告)日：2015-11-01

申请号：TW100135751

申请日：2011-10-03

Applicant: 東京應化工業股份有限公司 ,  TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

Inventor： 稻尾吉浩 ,  INAO, YOSHIHIRO ,  藤井恭 ,  FUJII, YASUSHI ,  松下淳 ,  MATSUSHITA, ATSUSHI ,  田村弘毅 ,  TAMURA, KOKI ,  久保安通史 ,  KUBO, ATSUSHI

IPC: B32B7/06 ,  C23C16/32 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/7813 ,  B32B7/06 ,  C03C17/3452 ,  H01L21/6835 ,  H01L23/562 ,  H01L2221/68318 ,  H01L2221/68327 ,  H01L2221/6834 ,  H01L2221/68381 ,  H01L2924/0002 ,  Y10T156/1158 ,  H01L2924/00

公开(公告)号：TWI454545B

公开(公告)日：2014-10-01

申请号：TW099117932

申请日：2010-06-03

Applicant: 東京應化工業股份有限公司 ,  TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. ,  播磨化成股份有限公司 ,  HARIMA CHEMICALS, INC.

Inventor： 淺井隆宏 ,  ASAI, TAKAHIRO ,  今井洋文 ,  IMAI, HIROFUMI ,  田村弘毅 ,  TAMURA, KOKI ,  吉岡孝廣 ,  YOSHIOKA, TAKAHIRO ,  松岡伸行 ,  MATSUOKA, NOBUYUKI ,  渡邊真理子 ,  WATANABE, MARIKO ,  佃孝彥 ,  TSUKUDA, TAKAHIKO

IPC: C09J145/00 ,  C09J11/06 ,  C09J193/00 ,  H01L21/304

CPC classification number: C09J145/00 ,  C08L91/00 ,  C08L91/06 ,  C08L93/04

公开(公告)号：TW201410832A

公开(公告)日：2014-03-16

申请号：TW102118643

申请日：2013-05-27

Applicant: 東京應化工業股份有限公司 ,  TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

Inventor： 田村弘毅 ,  TAMURA, KOKI ,  今井洋文 ,  IMAI, HIROFUMI ,  野口拓也 ,  NOGUCHI, TAKUYA ,  久保安通史 ,  KUBO, ATSUSHI ,  吉岡孝広 ,  YOSHIOKA, TAKAHIRO ,  宮成淳 ,  MIYANARI, ATSUSHI

IPC: C09J7/02

Abstract: 本發明之課題在於對層合體進行所欲處理時，為抑制晶圓剝離，而保護分離層。其解決手段為本發明之層合體係依基板(11)、接著層(13)、因吸收光而變質之分離層(14)、支承板(12)之順序層合而成，在分離層(14)之表面且未與支承板(12)接著之面之中，更具備至少覆蓋未與接著層(13)重疊之面之保護層(15)。

Abstract in simplified Chinese: 本发明之课题在于对层合体进行所欲处理时，为抑制晶圆剥离，而保护分离层。其解决手段为本发明之层合体系依基板(11)、接着层(13)、因吸收光而变质之分离层(14)、支承板(12)之顺序层合而成，在分离层(14)之表面且未与支承板(12)接着之面之中，更具备至少覆盖未与接着层(13)重叠之面之保护层(15)。

公开(公告)号：TW201333143A

公开(公告)日：2013-08-16

申请号：TW101135299

申请日：2012-09-26

Applicant: 東京應化工業股份有限公司 ,  TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

Inventor： 今井洋文 ,  IMAI, HIROFUMI ,  田村弘毅 ,  TAMURA, KOKI ,  久保安通史 ,  KUBO, ATSUSHI ,  吉岡孝廣 ,  YOSHIOKA, TAKAHIRO

IPC: C09J7/02 ,  C09J11/08 ,  C09J145/00

CPC classification number: C09J7/0221 ,  C09J7/20 ,  C09J7/387 ,  C09J153/02 ,  C09J153/025 ,  Y10T428/2852

Abstract: 本發明係提供一種接著劑組成物，其係含有：烴樹脂、鍵結有至少1個含官能基之原子團之改質彈性體、以及溶劑。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系提供一种接着剂组成物，其系含有：烃树脂、键结有至少1个含官能基之原子团之改质弹性体、以及溶剂。

公开(公告)号：TW201311839A

公开(公告)日：2013-03-16

申请号：TW101118179

申请日：2012-05-22

Applicant: 東京應化工業股份有限公司 ,  TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

Inventor： 今井洋文 ,  IMAI, HIROFUMI ,  田村弘毅 ,  TAMURA, KOKI ,  久保安通史 ,  KUBO, ATSUSHI ,  吉岡孝廣 ,  YOSHIOKA, TAKAHIRO

IPC: C09D9/00 ,  C11D7/24 ,  C11D7/26 ,  H01L21/302

Abstract: 本發明係提供一種用以剝離接著劑之剝離用組成物，其係用以將接著劑剝離之剝離用組成物，其含有具下述化學式(I) 所示之骨架之化合物，該化合物之純度為92%以上，並且，含有較該化合物之順式異構物多之該化合物之反式異構物所成。藉此，可保持較安定之溶解性，可迅速地溶解接著劑。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系提供一种用以剥离接着剂之剥离用组成物，其系用以将接着剂剥离之剥离用组成物，其含有具下述化学式(I) 所示之骨架之化合物，该化合物之纯度为92%以上，并且，含有较该化合物之顺式异构物多之该化合物之反式异构物所成。借此，可保持较安定之溶解性，可迅速地溶解接着剂。

公开(公告)号：TW201304047A

公开(公告)日：2013-01-16

申请号：TW101105633

申请日：2012-02-21

Applicant: 東京應化工業股份有限公司 ,  TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

Inventor： 久保安通史 ,  KUBO, ATSUSHI ,  今井洋文 ,  IMAI, HIROFUMI ,  田村弘毅 ,  TAMURA, KOKI ,  吉岡孝廣 ,  YOSHIOKA, TAKAHIRO

IPC: H01L21/683

CPC classification number: H01L21/67309 ,  H01L21/6875

Abstract: 本發明是防止晶圓的翹曲。支撐黏貼著晶圓(11)的支撐體(13)的支撐方法，以和支撐體(13)的黏貼有晶圓(11)的面相反側的被支撐面(13a)的內周圍部的至少三點作為支撐點(14)來抵抗重力加以支撐。

Abstract in simplified Chinese: 本发明是防止晶圆的翘曲。支撑黏贴着晶圆(11)的支撑体(13)的支撑方法，以和支撑体(13)的黏贴有晶圆(11)的面相反侧的被支撑面(13a)的内周围部的至少三点作为支撑点(14)来抵抗重力加以支撑。

公开(公告)号：TW201821447A

公开(公告)日：2018-06-16

申请号：TW106129109

申请日：2017-08-28

Applicant: 日商東京應化工業股份有限公司 ,  TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

Inventor： 武內弘明 ,  TAKEUCHI, HIROAKI ,  田村弘毅 ,  TAMURA, KOKI

IPC: C08F2/40 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/031 ,  G02B1/04 ,  G02B1/10

Abstract: [課題]提供在範圍廣泛的曝光量下，容易形成具有期望尺寸的良好形狀的圖型且無殘渣產生的圖型形成用感光性樹脂組成物、將該圖型形成用感光性樹脂組物硬化而形成的硬化膜及低折射率膜、具備該硬化膜或該低折射率的光學裝置、與使用前述圖型形成用感光性樹脂組成物的硬化膜或低折射率膜之製造方法。 　　[解決手段]在含有樹脂(A)、光聚合性化合物(B)、與聚合起始劑(C)的圖型形成用感光性樹脂組成物，摻混分子量230～1500的受阻酚系化合物作為聚合抑制劑(D)。

Abstract in simplified Chinese: [课题]提供在范围广泛的曝光量下，容易形成具有期望尺寸的良好形状的图型且无残渣产生的图型形成用感光性树脂组成物、将该图型形成用感光性树脂组物硬化而形成的硬化膜及低折射率膜、具备该硬化膜或该低折射率的光学设备、与使用前述图型形成用感光性树脂组成物的硬化膜或低折射率膜之制造方法。 　　[解决手段]在含有树脂(A)、光聚合性化合物(B)、与聚合起始剂(C)的图型形成用感光性树脂组成物，掺混分子量230～1500的受阻酚系化合物作为聚合抑制剂(D)。

公开(公告)号：TWI611931B

公开(公告)日：2018-01-21

申请号：TW104137015

申请日：2015-11-10

Applicant: 東京應化工業股份有限公司 ,  TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

Inventor： 吉岡孝広 ,  YOSHIOKA, TAKAHIRO ,  田村弘毅 ,  TAMURA, KOKI ,  今井洋文 ,  IMAI, HIROFUMI ,  久保安通史 ,  KUBO, ATSUSHI

IPC: B32B7/06 ,  C09D183/04 ,  C09D5/20 ,  C09J181/06 ,  H01L21/683

CPC classification number: B32B27/283 ,  B32B7/12 ,  B32B27/00 ,  B32B27/286 ,  B32B37/12 ,  B32B43/006 ,  B32B2037/243 ,  B32B2037/268 ,  B32B2307/412 ,  B32B2309/02 ,  B32B2310/0843 ,  B32B2457/14 ,  C09J181/06 ,  C09J2203/326 ,  C09J2400/10 ,  C09J2481/00 ,  C09J2483/005 ,  H01L21/02008 ,  H01L21/02381 ,  H01L21/6835

公开(公告)号：TWI605953B

公开(公告)日：2017-11-21

申请号：TW100138887

申请日：2011-10-26

Applicant: 東京應化工業股份有限公司 ,  TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

Inventor： 稻尾吉浩 ,  INAO, YOSHIHIRO ,  藤井恭 ,  FUJII, YASUSHI ,  松下淳 ,  MATSUSHITA, ATSUSHI ,  田村弘毅 ,  TAMURA, KOKI ,  久保安通史 ,  KUBO, ATSUSHI

IPC: B32B7/06 ,  B32B7/12 ,  H01L21/304 ,  H01L21/683

CPC classification number: B32B7/06 ,  B32B7/12 ,  B32B9/04 ,  B32B15/04 ,  B32B17/06 ,  B32B17/061 ,  B32B43/006 ,  H01L21/6835 ,  H01L2221/68327 ,  H01L2221/6834 ,  Y10T156/1158 ,  Y10T428/30 ,  Y10T428/31678