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    顯示裝置之製造方法及顯示裝置
    2.
    发明专利
    顯示裝置之製造方法及顯示裝置 审中-公开
    显示设备之制造方法及显示设备

    公开(公告)号：TW201448201A

    公开(公告)日：2014-12-16

    申请号：TW103104065

    申请日：2014-02-07

    申请人： 東芝股份有限公司 ,  KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA

    发明人： 坂野竜則 ,  SAKANO, TATSUNORI ,  三浦健太郎 ,  MIURA, KENTARO ,  上田知正 ,  UEDA, TOMOMASA ,  藤信美 ,  SAITO, NOBUYOSHI ,  中野慎太郎 ,  NAKANO, SHINTARO ,  前田雄也 ,  MAEDA, YUYA ,  山口一 ,  YAMAGUCHI, HAJIME

    IPC分类号： H01L27/32 ,  H01L51/00 ,  H01L51/56

    CPC分类号： G02B5/20 ,  H01L27/3246 ,  H01L51/003 ,  H01L51/56

    摘要： 根據一個實施例，揭示顯示裝置之製造方法。該方法可包括將顯示本體接合到過濾器本體、照射光、及分離。該顯示本體包括第一支撐單元和顯示單元。該第一支撐單元包括第一基板、第一金屬層、及第一樹脂層。該顯示單元具有第一區和第二區。該過濾器本體包括第二支撐單元和過濾器單元。該第二支撐單元包括第二基板、第二金屬層、及第二樹脂層。在該接合時，該顯示單元和該過濾器單元係配置在該第一基板與該第二基板之間。該光係照射到該第一金屬層和該第二金屬層上。該第一基板係與該第一樹脂層分離，而該第二基板係與第該二樹脂層分離。

    简体摘要： 根据一个实施例，揭示显示设备之制造方法。该方法可包括将显示本体接合到过滤器本体、照射光、及分离。该显示本体包括第一支撑单元和显示单元。该第一支撑单元包括第一基板、第一金属层、及第一树脂层。该显示单元具有第一区和第二区。该过滤器本体包括第二支撑单元和过滤器单元。该第二支撑单元包括第二基板、第二金属层、及第二树脂层。在该接合时，该显示单元和该过滤器单元系配置在该第一基板与该第二基板之间。该光系照射到该第一金属层和该第二金属层上。该第一基板系与该第一树脂层分离，而该第二基板系与第该二树脂层分离。

    薄膜電晶體及顯示裝置
    6.
    发明专利
    薄膜電晶體及顯示裝置 失效
    薄膜晶体管及显示设备

    公开(公告)号：TW201413974A

    公开(公告)日：2014-04-01

    申请号：TW102109038

    申请日：2013-03-14

    申请人： 東芝股份有限公司 ,  KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA

    发明人： 中野慎太郎 ,  NAKANO, SHINTARO ,  三浦健太郎 ,  MIURA, KENTARO ,  斉藤信美 ,  SAITO, NOBUYOSHI ,  坂野竜則 ,  SAKANO, TATSUNORI ,  上田知正 ,  UEDA, TOMOMASA ,  山口一 ,  YAMAGUCHI, HAJIME

    IPC分类号： H01L29/786

    CPC分类号： H01L29/7869

    摘要： 根據一個實施例，顯示裝置包含薄膜電晶體。薄膜電晶體包含閘極絕緣膜、半導體層、閘極電極、第一及第二通道保護膜、第一及第二導電層、及鈍化膜。半導體層係設於閘極絕緣膜的主表面上。半導體層包含第一至第七部份。閘極絕緣膜係配置在半導體層與閘極電極之間。第一通道保護膜遮蓋第三部份。第二通道保護膜遮蓋第五及第四部份、及第一通道保護膜的上表面。第一導電層遮蓋第六部份。第二導電層遮蓋第七部份。鈍化膜遮蓋第一及第二部份、第一及第二導電層、及第二通道保護膜。

    简体摘要： 根据一个实施例，显示设备包含薄膜晶体管。薄膜晶体管包含闸极绝缘膜、半导体层、闸极电极、第一及第二信道保护膜、第一及第二导电层、及钝化膜。半导体层系设于闸极绝缘膜的主表面上。半导体层包含第一至第七部份。闸极绝缘膜系配置在半导体层与闸极电极之间。第一信道保护膜遮盖第三部份。第二信道保护膜遮盖第五及第四部份、及第一信道保护膜的上表面。第一导电层遮盖第六部份。第二导电层遮盖第七部份。钝化膜遮盖第一及第二部份、第一及第二导电层、及第二信道保护膜。

    顯示裝置之製造方法
    8.
    发明专利
    顯示裝置之製造方法 失效
    显示设备之制造方法

    公开(公告)号：TW201314740A

    公开(公告)日：2013-04-01

    申请号：TW101119538

    申请日：2012-05-31

    申请人： 東芝股份有限公司 ,  KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA

    发明人： 阪野龍則 ,  SAKANO, TATSUNORI ,  三浦健太郎 ,  MIURA, KENTARO ,  齊藤信美 ,  SAITO, NOBUYOSHI ,  中野慎太郎 ,  NAKANO, SHINTARO ,  上田知正 ,  UEDA, TOMOMASA ,  山口一 ,  YAMAGUCHI, HAJIME

    IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L27/12

    CPC分类号： H05K3/10 ,  G02F1/133305 ,  G02F1/1362 ,  H01L27/1266 ,  H01L2227/326

    摘要： 根據一實施例，揭示顯示裝置的製造方法。將膜材料層形成在支撐基材上。以第一溫度對該膜材料層實施第一加熱處理以形成膜層，並以高於該第一溫度之第二溫度對圍繞第一區域的第二區域實施第二加熱處理。該第一區域係設置在該膜層的中央部分中。將顯示層形成在該第一區域中並將周邊電路部形成在至少一部分的第二區域中。以高於該第二溫度的第三溫度對該膜層之至少一部分實施第三加熱處理。此外，將該膜層自該支撐基材剝除。

    简体摘要： 根据一实施例，揭示显示设备的制造方法。将膜材料层形成在支撑基材上。以第一温度对该膜材料层实施第一加热处理以形成膜层，并以高于该第一温度之第二温度对围绕第一区域的第二区域实施第二加热处理。该第一区域系设置在该膜层的中央部分中。将显示层形成在该第一区域中并将周边电路部形成在至少一部分的第二区域中。以高于该第二温度的第三温度对该膜层之至少一部分实施第三加热处理。此外，将该膜层自该支撑基材剥除。