液晶介質及含彼之液晶顯示器
    8.
    发明专利
    液晶介質及含彼之液晶顯示器 审中-公开
    液晶介质及含彼之液晶显示器

    公开(公告)号:TW201708506A

    公开(公告)日:2017-03-01

    申请号:TW105111398

    申请日:2016-04-12

    Abstract: 本發明係關於一種液晶介質,其較佳具有向列相及0.5或更高之介電各向異性,該液晶介質具有特定介電特性,因為其具有- 在2或更高至低於8或更低之範圍內的垂直於指向矢之介電常數(ε⊥)且同時具有1.0或更高的該垂直於指向矢之介電常數(ε⊥)與該介電各向異性(△ε)之比率,亦即(ε⊥/△ε),或- 或8或更高的垂直於指向矢之介電常數(ε⊥)及26或更低的介電各向異性(△ε),且較佳包含具有較高的垂直於指向矢之介電常數(ε⊥)及較高平均介電常數(εav.)之一或多種化合物,其於電光顯示器中之用途,特定言之,係用於基於IPS或FFS效應之主動矩陣式顯示器中;含有此類液晶介質的此類型之顯示器;及式I化合物之用途,其係用於改善包含一或多種另外的液晶原基化合物之液晶介質的透射率及/或反應時間。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种液晶介质,其较佳具有向列相及0.5或更高之介电各向异性,该液晶介质具有特定介电特性,因为其具有- 在2或更高至低于8或更低之范围内的垂直于指向矢之介电常数(ε⊥)且同时具有1.0或更高的该垂直于指向矢之介电常数(ε⊥)与该介电各向异性(△ε)之比率,亦即(ε⊥/△ε),或- 或8或更高的垂直于指向矢之介电常数(ε⊥)及26或更低的介电各向异性(△ε),且较佳包含具有较高的垂直于指向矢之介电常数(ε⊥)及较高平均介电常数(εav.)之一或多种化合物,其于电光显示器中之用途,特定言之,系用于基于IPS或FFS效应之主动矩阵式显示器中;含有此类液晶介质的此类型之显示器;及式I化合物之用途,其系用于改善包含一或多种另外的液晶原基化合物之液晶介质的透射率及/或反应时间。

    電泳顯示裝置、電泳顯示裝置之製造方法及電子機器
    10.
    发明专利
    電泳顯示裝置、電泳顯示裝置之製造方法及電子機器 审中-公开
    电泳显示设备、电泳显示设备之制造方法及电子机器

    公开(公告)号:TW201629609A

    公开(公告)日:2016-08-16

    申请号:TW105104153

    申请日:2016-02-05

    Abstract: 本發明之目的係提供一種光不易於隔板部反射因而對比度較高之電泳顯示裝置。 本發明之電泳顯示裝置1包含:第1基材8,其設置有半導體元件9c;第2基材16,其與第1基材8對向;隔板5,其位於第1基材8與第2基材16之間且區劃像素區域6;且該電泳顯示裝置1具有反射減少膜7,其係於自第2基材16側觀察而與隔板5對向之部位減少光之反射。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明之目的系提供一种光不易于隔板部反射因而对比度较高之电泳显示设备。 本发明之电泳显示设备1包含:第1基材8,其设置有半导体组件9c;第2基材16,其与第1基材8对向;隔板5,其位于第1基材8与第2基材16之间且区划像素区域6;且该电泳显示设备1具有反射减少膜7,其系于自第2基材16侧观察而与隔板5对向之部位减少光之反射。

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