公开(公告)号：US20070055403A1

公开(公告)日：2007-03-08

申请号：US11179440

申请日：2005-07-11

申请人： Paul MacDonald ,  Michiel Kruger ,  Michael Welch ,  Mason Freed ,  Costas Spanos

发明人： Paul MacDonald ,  Michiel Kruger ,  Michael Welch ,  Mason Freed ,  Costas Spanos

IPC分类号： G06F19/00

CPC分类号： G05B23/0235 ,  G05B13/04 ,  G05B13/045

摘要： One aspect of the present invention is a method of monitoring processes, optimizing processes, and diagnosing problems in the performance of a process tool for processing a workpiece. Another aspect of the present invention is a system configured for monitoring processes, optimizing processes, and diagnosing problems in the performance of a process tool for processing a workpiece. One embodiment of the present invention includes a software program that can be implemented in a computer for optimizing the performance of a process tool for processing a workpiece.

摘要翻译： 本发明的一个方面是监视处理工艺，优化处理和诊断处理工具处理工具的执行中的问题的方法。 本发明的另一方面是被配置为用于监视处理，优化处理和诊断用于处理工件的处理工具的执行中的问题的系统。 本发明的一个实施例包括可以在计算机中实现的用于优化用于处理工件的处理工具的性能的软件程序。

公开(公告)号：US08353628B1

公开(公告)日：2013-01-15

申请号：US12631739

申请日：2009-12-04

申请人： Wenbing Yun ,  Ying Xu ,  Frederick W. Duewer ,  Mason Freed ,  Chao-chih Hsu

发明人： Wenbing Yun ,  Ying Xu ,  Frederick W. Duewer ,  Mason Freed ,  Chao-chih Hsu

IPC分类号： G01D18/00 ,  A61B6/00

CPC分类号： H01J37/252 ,  H01J37/244 ,  H01J2237/226 ,  H01J2237/24415 ,  H01J2237/2446

摘要： The position of the sample is measured and used to correct for any off-axis motion during tomography using x-ray projection microscope system with a rotation stage system. The position is sensed using a precision-machined, low-CTE gold-coated cylinder or disc and three to five capacitive distance sensors. The correction can then be performed purely as image processing in software, by applying an appropriate shift in X and Y of the captured x-ray projections. A calibration is often necessary for each system (gold disc plus sensors plus sample stage) to account for any machining errors of the gold disc or positioning errors of the capacitive sensors. This calibration should also be repeated whenever any maintenance is performed on the metrology setup.

摘要翻译： 使用具有旋转平台系统的X射线投影显微镜系统，测量样品的位置并用于校正层析成像期间的任何离轴运动。 使用精密加工的低CTE镀金圆柱或圆盘和三到五个电容式距离传感器感测位置。 然后，可以通过在捕获的X射线投影的X和Y中应用适当的偏移来纯化地作为软件中的图像处理执行校正。 每个系统（金盘加传感器加样品台）通常需要进行校准，以解决金盘的任何加工误差或电容式传感器的定位误差。 每当在计量设置上执行任何维护时，也应重复此校准。

公开(公告)号：US20060289763A1

公开(公告)日：2006-12-28

申请号：US11430315

申请日：2006-07-20

申请人： Randall Mundt ,  Andrew Beers ,  Paul MacDonald ,  Mason Freed ,  Dean Hunt

发明人： Randall Mundt ,  Andrew Beers ,  Paul MacDonald ,  Mason Freed ,  Dean Hunt

IPC分类号： G01J5/00

CPC分类号： G01J1/4228 ,  G01J1/02 ,  G01J1/0204

摘要： One or more problems related to processing workpieces using processes that involve optical radiation are presented along with solutions to one or more of the problems. One embodiment of the invention comprises a sensor apparatus for collecting optical radiation data representing one or more process conditions used for processing a workpiece. In a further embodiment, the sensor apparatus is also configured for measuring data other than optical radiation.

公开(公告)号：US20110193702A1

公开(公告)日：2011-08-11

申请号：US12843021

申请日：2010-07-24

申请人： William Mathews BROOKS ,  Mason Freed

发明人： William Mathews BROOKS ,  Mason Freed

IPC分类号： G08B13/14

CPC分类号： G08B25/10

摘要： Presented are wireless apparatuses, systems, and methods for locating items. According to one embodiment, the apparatus includes a sensor module and an indicator module capable of wireless communication.

摘要翻译： 提出了用于定位物品的无线装置，系统和方法。 根据一个实施例，该装置包括能够进行无线通信的传感器模块和指示器模块。

公开(公告)号：US20060181242A1

公开(公告)日：2006-08-17

申请号：US11366303

申请日：2006-03-01

申请人： Mason Freed ,  Randall Mundt ,  Costas Spanos

发明人： Mason Freed ,  Randall Mundt ,  Costas Spanos

IPC分类号： H02J7/00

CPC分类号： H02J7/025 ,  H02J50/12

摘要： Presented are methods, systems, and apparatuses for managing and maintaining an electronic device such as a sensor apparatus.

摘要翻译： 提出了用于管理和维护诸如传感器装置的电子设备的方法，系统和装置。

公开(公告)号：US20060249729A1

公开(公告)日：2006-11-09

申请号：US11281238

申请日：2005-11-16

申请人： Randall Mundt ,  Paul MacDonald ,  Andrew Beers ,  Mason Freed ,  Costas Spanos

发明人： Randall Mundt ,  Paul MacDonald ,  Andrew Beers ,  Mason Freed ,  Costas Spanos

IPC分类号： H01L21/66 ,  H01L23/58

CPC分类号： G01N27/60 ,  G01K7/25 ,  G01N33/0004 ,  G01R15/24 ,  G01R29/12 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67253 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： A sensor apparatus for measuring a plasma process parameter for processing a workpiece. The sensor apparatus includes a base, an information processor supported on or in the base, and at least one sensor supported on or in the base. The at least one sensor includes at least one sensing element configured for measuring an electrical property of a plasma and at least one transducer coupled to the at least one sensing element. The transducer is configured so as to receive a signal from the sensing element and converting the signal into a second signal for input to the information processor.

摘要翻译： 一种用于测量用于处理工件的等离子体工艺参数的传感器装置。 传感器装置包括基座，支撑在基座上或底座中的信息处理器以及支撑在基座上或基座中的至少一个传感器。 所述至少一个传感器包括被配置用于测量等离子体的电特性的至少一个感测元件和耦合到所述至少一个感测元件的至少一个换能器。 传感器被配置为接收来自感测元件的信号并将信号转换成第二信号以输入到信息处理器。

公开(公告)号：US20060052969A1

公开(公告)日：2006-03-09

申请号：US11177922

申请日：2005-07-08

申请人： Dean Hunt ,  Costas Spanos ,  Michael Welch ,  Kameshwar Poolla ,  Mason Freed

发明人： Dean Hunt ,  Costas Spanos ,  Michael Welch ,  Kameshwar Poolla ,  Mason Freed

IPC分类号： G01K1/00

CPC分类号： G01K1/18 ,  H05K1/147 ,  H05K1/148

摘要： This invention seeks to provide methods and apparatus that can improve the accuracy of measured parameter data used for processing workpieces. One aspect of the present invention includes methods of measuring process conditions with low distortion of the measurements caused by the measuring apparatus. The measurements include data for applications such as data for monitoring, controlling, and optimizing processes and process tools. Another aspect of the present invention includes apparatus for measuring substantially correct data for applications such as generating data for monitoring, controlling, and optimizing processes and process tools.

摘要翻译： 本发明寻求提供可以提高用于处理工件的测量参数数据的精度的方法和装置。 本发明的一个方面包括测量由测量装置引起的测量的低变形的工艺条件的方法。 这些测量包括应用程序的数据，例如用于监视，控制和优化流程和流程工具的数据。 本发明的另一方面包括用于测量用于诸如生成用于监控，控制和优化过程和处理工具的数据的应用的基本上正确的数据的装置。