公开(公告)号：US07468795B2

公开(公告)日：2008-12-23

申请号：US11484849

申请日：2006-07-12

申请人： Hubertus Johannes Gertrudus Simons ,  Henricus Johannes Lambertus Megens ,  Everhardus Cornelis Mos ,  Leonardus Henricus Marie Verstappen ,  Roy Werkman ,  Henricus Jacobus Maria Verhoeven

发明人： Hubertus Johannes Gertrudus Simons ,  Henricus Johannes Lambertus Megens ,  Everhardus Cornelis Mos ,  Leonardus Henricus Marie Verstappen ,  Roy Werkman ,  Henricus Jacobus Maria Verhoeven

IPC分类号： G01B11/00

CPC分类号： G03F9/7003 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70616 ,  G03F7/70633 ,  G03F9/7011 ,  G03F9/7019

摘要： A method of selecting a grid model for correcting a process recipe for grid deformations in a lithographic apparatus is disclosed. First a set of grid models is provided. Subsequently, alignment data are obtained by performing an alignment measurement on a plurality of alignment marks on a number of substrates. For each grid model it is checked whether the alignment data is suitable to solve the grid model. If so, the grid model is added to a subset of grid models. The grid model with lowest residuals is selected. In addition to alignment data, metrology data may be obtained by performing an overlay measurement on a plurality of overlay marks on the number of substrates. For each grid model of the subset simulated metrology data may then be determined that is used to determine overlay performance indicators. The grid model is then selected using the overlay performance indicators.

摘要翻译： 公开了一种选择用于校正光刻设备中的网格变形的处理配方的网格模型的方法。 首先提供一组网格模型。 随后，通过对多个基板上的多个对准标记进行取向测量来获得对准数据。 对于每个网格模型，检查对齐数据是否适合解决网格模型。 如果是，则将网格模型添加到网格模型的子集中。 选择具有最低残差的网格模型。 除了对准数据之外，可以通过对基板数量上的多个覆盖标记执行覆盖测量来获得度量数据。 对于子集的每个网格模型，可以确定用于确定覆盖性能指标的模拟计量数据。 然后使用覆盖性能指标选择网格模型。