公开(公告)号：US08895209B2

公开(公告)日：2014-11-25

申请号：US13565659

申请日：2012-08-02

申请人： Min Kang ,  Jong Kwang Lee ,  Jin Ho Ju ,  Bong-Yeon Kim ,  Hyang-Shik Kong ,  Kyoung Sik Kim ,  Seung Hwa Baek

发明人： Min Kang ,  Jong Kwang Lee ,  Jin Ho Ju ,  Bong-Yeon Kim ,  Hyang-Shik Kong ,  Kyoung Sik Kim ,  Seung Hwa Baek

IPC分类号： G03F1/00

CPC分类号： G03F1/50 ,  G03F1/38 ,  G03F7/70575

摘要： Provided are a photomask, including: a substrate; an opaque pattern formed on the substrate and made of a material which does not penetrate light; a first dielectric layer formed on the substrate and the opaque pattern; and a negative refractive-index meta material layer formed on the first dielectric layer, in which a dispersion mode used in the photomask uses a Quasi bound mode, a manufacturing method of the photomask, and a manufacturing method of a substrate using the photomask.

摘要翻译： 提供一种光掩模，包括：基底; 在基板上形成的不透光的材料制成的不透明图案; 形成在所述基板和所述不透明图案上的第一电介质层; 以及形成在第一介质层上的负折射率超材料层，其中在光掩模中使用的分散模式使用准界限模式，光掩模的制造方法以及使用光掩模的基板的制造方法。

公开(公告)号：US09005850B2

公开(公告)日：2015-04-14

申请号：US13471080

申请日：2012-05-14

申请人： Bong-Yeon Kim ,  Min Kang ,  Jong Kwang Lee ,  Jin Ho Ju

发明人： Bong-Yeon Kim ,  Min Kang ,  Jong Kwang Lee ,  Jin Ho Ju

IPC分类号： G03F1/32

CPC分类号： G03F1/32

摘要： Provided is a photolithography mask capable of forming fine patterns beyond a critical resolution of an exposer without replacing or changing the exposer. The mask includes an at least partially light absorbing phase shift layer and uses a complex wavelength light source.

摘要翻译： 提供了一种能够在不更换或改变曝光器的情况下形成超出曝光机的临界分辨率的精细图案的光刻掩模。 掩模包括至少部分吸光相移层并使用复合波长光源。

公开(公告)号：US08895439B2

公开(公告)日：2014-11-25

申请号：US13486858

申请日：2012-06-01

申请人： Woo-Seok Jeon ,  Jong Kwang Lee ,  Jin Ho Ju ,  Min Kang ,  Hoon Kang ,  Seung Bo Shim ,  Gwui-Hyun Park ,  Bong-Yeon Kim ,  Seon-II Kim

发明人： Woo-Seok Jeon ,  Jong Kwang Lee ,  Jin Ho Ju ,  Min Kang ,  Hoon Kang ,  Seung Bo Shim ,  Gwui-Hyun Park ,  Bong-Yeon Kim ,  Seon-II Kim

IPC分类号： H01L21/00 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/203 ,  G03F7/20 ,  G03F7/70466 ,  Y10S438/942

摘要： A method for forming a fine exposure pattern where a width and an interval of the pattern are each 1CD, by first exposing a photoresist by using an exposure mask where an interval ratio of a light shielding part and a light transmission part is 2CD:1CD to 4CD:1CD, and then second exposing the photoresist after the exposure mask is shifted at a predetermined interval, or second exposing the photoresist by using an exposure mask formed at a position where a light transmission part is shifted at a predetermined interval, and developing the photoresist, such that it is possible to form a display device having a pixel electrode including a plurality of fine branch electrodes having a smaller width and interval than a resolution of an exposure apparatus.

摘要翻译： 通过使用遮光部和光透射部的间隔比为2CD:1CD的曝光掩模，首先使光致抗蚀剂曝光，形成图案的宽度和间隔为1CD的微细曝光图案的方法， 4CD：1CD，然后在曝光掩模以预定间隔移动之后第二次曝光光致抗蚀剂，或者通过使用形成在光透射部分以预定间隔移动的位置处的曝光掩模来第二次曝光光致抗蚀剂， 光致抗蚀剂，使得可以形成具有像素电极的显示装置，该像素电极包括具有比曝光装置的分辨率更小的宽度和间隔的多个细分支电极。

公开(公告)号：US20130122403A1

公开(公告)日：2013-05-16

申请号：US13471080

申请日：2012-05-14

申请人： Bong-Yeon Kim ,  Min Kang ,  Jong Kwang Lee ,  Jin Ho Ju

发明人： Bong-Yeon Kim ,  Min Kang ,  Jong Kwang Lee ,  Jin Ho Ju

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F1/26

CPC分类号： G03F1/32

摘要： Provided is a photolithography mask capable of forming fine patterns beyond a critical resolution of an exposer without replacing or changing the exposer. The mask includes an at least partially light absorbing phase shift layer and uses a complex wavelength light source.

摘要翻译： 提供了一种能够在不更换或改变曝光器的情况下形成超出曝光机的临界分辨率的精细图案的光刻掩模。 掩模包括至少部分吸光相移层并使用复合波长光源。

公开(公告)号：US20130048604A1

公开(公告)日：2013-02-28

申请号：US13568233

申请日：2012-08-07

申请人： Min Kang ,  Jin-Ho Ju ,  Jong-Kwang Lee ,  Bong-Yeon Kim ,  Jeong-Won Kim ,  Deok-Man Kang ,  Jung-Hwan Cho ,  Kyung-Mi Choi

发明人： Min Kang ,  Jin-Ho Ju ,  Jong-Kwang Lee ,  Bong-Yeon Kim ,  Jeong-Won Kim ,  Deok-Man Kang ,  Jung-Hwan Cho ,  Kyung-Mi Choi

IPC分类号： G03F7/004 ,  B44C1/22 ,  G03F7/022 ,  G03F7/027 ,  G03F7/016

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/11

摘要： A photoresist composition includes from about 20% to about 50% by weight of a polymer, from about 0.5% to about 1.5% by weight of a photo-acid generator, from about 0.01% to about 0.5% by weight of a photo absorber and the remainder includes an organic solvent. Also provided is a method of forming a fine pattern including forming a thin film on a substrate; forming a photoresist pattern by using a photoresist composition that includes from about 20% to about 50% by weight of a polymer, from about 0.5% to about 1.5% by weight of a photo-acid generator, from about 0.01% to about 0.5% by weight of a photo absorber and a remainder comprising an organic solvent; and patterning the thin film by using the photoresist pattern as an etch-stop layer to form a fine pattern.

摘要翻译： 光致抗蚀剂组合物包括约20重量％至约50重量％的聚合物，约0.5重量％至约1.5重量％的光酸产生剂，约0.01重量％至约0.5重量％的光吸收剂， 剩余部分包括有机溶剂。 还提供了形成包括在基板上形成薄膜的精细图案的方法; 通过使用光致抗蚀剂组合物形成光致抗蚀剂图案，所述光致抗蚀剂组合物包含约20重量％至约50重量％的聚合物，约0.5重量％至约1.5重量％的光酸产生剂，约0.01重量％至约0.5重量％ 的光吸收剂，余量包含有机溶剂; 并通过使用光致抗蚀剂图案作为蚀刻停止层来图案化薄膜以形成精细图案。

公开(公告)号：US07603149B2

公开(公告)日：2009-10-13

申请号：US11016766

申请日：2004-12-21

申请人： Bong-Yeon Kim

发明人： Bong-Yeon Kim

IPC分类号： H04M1/00

CPC分类号： H04M1/021 ,  H04M1/0245 ,  H04M1/03 ,  H04M1/6008 ,  H04M1/6016 ,  H04M1/605 ,  H04M1/72519 ,  H04M2250/12

摘要： A swivel-type mobile terminal includes a terminal body having a microphone, a display unit which is rotatably and swingably connected to the terminal body and mounted with a display window, a first receiver in the display unit for outputting audio signals when the display unit is rotated to be an open position, and a second receiver in the display unit for outputting audio signal when the display unit is folded in a position which allows the display window to be viewable by a user. In this folded position, the terminal can support phone calls while adjusting the gain of the microphone. The display is also viewable by a user while in this position.

摘要翻译： 旋转型移动终端包括具有麦克风的终端主体，可旋转地并可摆动地连接到终端主体并且安装有显示窗的显示单元，显示单元中的第一接收器，用于当显示单元是 旋转为打开位置，并且在显示单元中的第二接收器，用于当显示单元被折叠在允许用户可见的显示窗口的位置时输出音频信号。 在这种折叠位置，终端可以在调节麦克风的增益的同时支持电话呼叫。 在此位置，用户也可以看到显示。

公开(公告)号：US20050136970A1

公开(公告)日：2005-06-23

申请号：US11016766

申请日：2004-12-21

申请人： Bong-Yeon Kim

发明人： Bong-Yeon Kim

IPC分类号： H04B1/38 ,  H04M1/00 ,  H04M1/02 ,  H04M1/03 ,  H04M1/60 ,  H04M1/725

CPC分类号： H04M1/021 ,  H04M1/0245 ,  H04M1/03 ,  H04M1/6008 ,  H04M1/6016 ,  H04M1/605 ,  H04M1/72519 ,  H04M2250/12

摘要： A swivel-type mobile terminal includes a terminal body having a microphone, a display unit which is rotatably and swingably connected to the terminal body and mounted with a display window, a first receiver in the display unit for outputting audio signals when the display unit is rotated to be an open position, and a second receiver in the display unit for outputting audio signal when the display unit is folded in a position which allows the display window to be viewable by a user. In this folded position, the terminal can support phone calls while adjusting the gain of the microphone. The display is also viewable by a user while in this position.

摘要翻译： 旋转型移动终端包括具有麦克风的终端主体，可旋转地并可摆动地连接到终端主体并且安装有显示窗的显示单元，显示单元中的第一接收器，用于当显示单元是 旋转为打开位置，并且在显示单元中的第二接收器，用于当显示单元被折叠在允许用户可见的显示窗口的位置时输出音频信号。 在这种折叠位置，终端可以在调节麦克风的增益的同时支持电话呼叫。 在此位置，用户也可以看到显示。