公开(公告)号：US08745551B2

公开(公告)日：2014-06-03

申请号：US13293118

申请日：2011-11-09

申请人： Hanying Feng ,  Yu Cao ,  Jun Ye

发明人： Hanying Feng ,  Yu Cao ,  Jun Ye

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G06F17/50 ,  G02B19/0014 ,  G02B19/0028 ,  G02B19/0095 ,  G03F7/705

摘要： Described herein are methods for matching the characteristics of a lithographic projection apparatus to a reference lithographic projection apparatus, where the matching includes optimizing illumination source and projection optics characteristics. The projection optics can be used to shape wavefront in the lithographic projection apparatus. According to the embodiments herein, the methods can be accelerated by using linear fitting algorithm or using Taylor series expansion using partial derivatives of transmission cross coefficients (TCCs).

摘要翻译： 这里描述了将光刻投影设备的特性与参考光刻投影设备进行匹配的方法，其中匹配包括优化照明源和投影光学特性。 投影光学元件可用于在光刻投影装置中形成波前。 根据本文的实施例，可以通过使用线性拟合算法或使用使用传输交叉系数（TCC）的偏导数的泰勒级数扩展来加速该方法。

公开(公告)号：US20140012672A1

公开(公告)日：2014-01-09

申请号：US13543708

申请日：2012-07-06

申请人： Jun Ye ,  Yu Cao ,  Luoqi Chen ,  Ya Luo ,  Wei Zhuang ,  Hanying Feng ,  Hong Chen

发明人： Jun Ye ,  Yu Cao ,  Luoqi Chen ,  Ya Luo ,  Wei Zhuang ,  Hanying Feng ,  Hong Chen

IPC分类号： G06Q30/02

CPC分类号： G06Q30/0241

摘要： A method of providing targeted online advertisement includes receiving a request for an ad impression. The request includes a first content and a second content. The method also includes determining information related to (i) a context of the first content, (ii) a context of the second content, and (iii) a correlation between the context of the first content and the context of the second content, and providing the determined information to a bidding service, thereby enabling one or more advertisers to place one or more bids on the ad impression based on the provided information. Each of the one or more bids includes a bid price. The method further includes receiving the one or more bids for the ad impression, selecting one of the one or more received bids based at least in part on the bid prices, and providing an ad impression associated with the selected bid.

摘要翻译： 提供有针对性的在线广告的方法包括接收对广告印象的请求。 该请求包括第一内容和第二内容。 该方法还包括确定与（i）第一内容的上下文相关的信息，（ii）第二内容的上下文，以及（iii）第一内容的上下文与第二内容的上下文之间的相关性，以及 将确定的信息提供给投标服务，从而使得一个或多个广告商能够基于所提供的信息对广告印象进行一个或多个出价。 每个一个或多个出价都包含一个出价。 所述方法还包括接收针对所述广告展示的所述一个或多个出价，至少部分地基于所述出价来选择所述一个或多个所接收的出价中的一个，以及提供与所选择的出价相关联的广告展示。

公开(公告)号：US08418088B2

公开(公告)日：2013-04-09

申请号：US12613221

申请日：2009-11-05

申请人： Jun Ye ,  Yu Cao ,  Hanying Feng

发明人： Jun Ye ,  Yu Cao ,  Hanying Feng

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G06F17/50 ,  G03F1/144 ,  G03F1/36 ,  G03F1/68 ,  G03F7/70433 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70516

摘要： A method of efficient optical and resist parameters calibration based on simulating imaging performance of a lithographic process utilized to image a target design having a plurality of features. The method includes the steps of determining a function for generating a simulated image, where the function accounts for process variations associated with the lithographic process; and generating the simulated image utilizing the function, where the simulated image represents the imaging result of the target design for the lithographic process. Systems and methods for calibration of lithographic processes whereby a polynomial fit is calculated for a nominal configuration of the optical system and which can be used to estimate critical dimensions for other configurations.

摘要翻译： 一种基于模拟用于对具有多个特征进行成像的目标设计的光刻工艺的成像性能的有效的光学和抗蚀剂参数校准的方法。 该方法包括以下步骤：确定用于产生模拟图像的功能，其中该功能考虑到与光刻工艺相关联的工艺变化; 并利用该功能产生模拟图像，其中模拟图像表示用于光刻工艺的目标设计的成像结果。 用于校准光刻过程的系统和方法，由此针对光学系统的标称配置计算多项式拟合，并且其可以用于估计其他配置的关键尺寸。

公开(公告)号：US20120253774A1

公开(公告)日：2012-10-04

申请号：US13494773

申请日：2012-06-12

申请人： Jun Ye ,  Yu Cao ,  Hanying Feng

发明人： Jun Ye ,  Yu Cao ,  Hanying Feng

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G06F17/5009 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70991

摘要： A method of efficient simulating imaging performance of a lithographic process utilized to image a target design having a plurality of features. The method includes the steps of determining a function for generating a simulated image, where the function accounts for process variations associated with the lithographic process; and generating the simulated image utilizing the function, where the simulated image represents the imaging result of the target design for the lithographic process.

摘要翻译： 一种有效地模拟用于对具有多个特征进行成像的目标设计的光刻工艺的成像性能的方法。 该方法包括以下步骤：确定用于产生模拟图像的功能，其中该功能考虑到与光刻工艺相关联的工艺变化; 并利用该功能产生模拟图像，其中模拟图像表示用于光刻工艺的目标设计的成像结果。

公开(公告)号：US20100203430A1

公开(公告)日：2010-08-12

申请号：US12663121

申请日：2008-06-03

申请人： Jun Ye ,  Yu Cao ,  Hanying Feng

发明人： Jun Ye ,  Yu Cao ,  Hanying Feng

IPC分类号： G03F1/00 ,  G06F17/50

CPC分类号： G06F17/5009 ,  G03F1/36 ,  G03F7/70433 ,  G03F7/70441 ,  G03F7/70666

摘要： Methods are disclosed to create efficient model-based Sub-Resolution Assist Features (MB-SRAF). An SRAF guidance map is created, where each design target edge location votes for a given field point on whether a single-pixel SRAF placed on this field point would improve or degrade the aerial image over the process window. In one embodiment, the SRAF guidance map is used to determine SRAF placement rules and/or to fine-tune already-placed SRAFs. The SRAF guidance map can be used directly to place SRAFs in a mask layout. Mask layout data including SRAFs may be generated, wherein the SRAFs are placed according to the SRAF guidance map. The SRAF guidance map can comprise an image in which each pixel value indicates whether the pixel would contribute positively to edge behavior of features in the mask layout if the pixel is included as part of a sub-resolution assist feature.

摘要翻译： 公开了创建有效的基于模型的子分辨率辅助特征（MB-SRAF）的方法。 创建SRAF指南图，其中每个设计目标边缘位置对于给定的场点投票，放置在该场点上的单像素SRAF是否将改善或降级过程窗口上的空中图像。 在一个实施例中，SRAF引导图用于确定SRAF放置规则和/或微调已经放置的SRAF。 SRAF引导图可以直接用于将SRAF放置在掩码布局中。 可以生成包括SRAF的掩模布局数据，其中根据SRAF引导图放置SRAF。 SRAF引导图可以包括图像，其中每个像素值指示如果像素被包括为子分辨率辅助特征的一部分，则像素是否将对掩模布局中的特征的边缘行为贡献积极。

公开(公告)号：US20100146475A1

公开(公告)日：2010-06-10

申请号：US12613285

申请日：2009-11-05

申请人： Yu Cao ,  Hanying Feng ,  Jun Ye

发明人： Yu Cao ,  Hanying Feng ,  Jun Ye

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G06F17/5081 ,  G03F1/144 ,  G03F1/36 ,  G03F1/70 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70991 ,  G06F17/5068

摘要： The present invention relates to a method for tuning lithography systems so as to allow different lithography systems to image different patterns utilizing a known process that does not require a trial and error process to be performed to optimize the process and lithography system settings for each individual lithography system. According to some aspects, the present invention relates to a method for a generic model-based matching and tuning which works for any pattern. Thus it eliminates the requirements for CD measurements or gauge selection. According to further aspects, the invention is also versatile in that it can be combined with certain conventional techniques to deliver excellent performance for certain important patterns while achieving universal pattern coverage at the same time.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于调整光刻系统的方法，以便允许不同的光刻系统利用不需要进行试验和误差处理的已知工艺对不同的图案进行成像，以优化每个单独光刻的工艺和光刻系统设置 系统。 根据一些方面，本发明涉及一种用于任何模式的基于模型的通用匹配和调整的方法。 因此，它消除了对CD测量或量规选择的要求。 根据其它方面，本发明也是通用的，因为它可以与某些常规技术相结合，以在同时实现通用图案覆盖的同时为某些重要图案提供优异的性能。

公开(公告)号：US20090300573A1

公开(公告)日：2009-12-03

申请号：US12475095

申请日：2009-05-29

申请人： Yu Cao ,  Wenjin Shao ,  Ronaldus Johannes Gijsbertus Goossens ,  Jun Ye ,  James Patrick Koonmen

发明人： Yu Cao ,  Wenjin Shao ,  Ronaldus Johannes Gijsbertus Goossens ,  Jun Ye ,  James Patrick Koonmen

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： B29C67/0088 ,  B29C64/386 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70458 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70525 ,  G06F17/50 ,  G06F17/5009 ,  G06F17/5081

摘要： Systems and methods for process simulation are described. The methods may use a reference model identifying sensitivity of a reference scanner to a set of tunable parameters. Chip fabrication from a chip design may be simulated using the reference model, wherein the chip design is expressed as one or more masks. An iterative retuning and simulation process may be used to optimize critical dimension in the simulated chip and to obtain convergence of the simulated chip with an expected chip. Additionally, a designer may be provided with a set of results from which an updated chip design is created.

摘要翻译： 描述了过程仿真的系统和方法。 这些方法可以使用标识参考扫描仪对一组可调谐参数的灵敏度的参考模型。 可以使用参考模型来模拟来自芯片设计的芯片制造，其中芯片设计被表示为一个或多个掩模。 可以使用迭代重调和仿真过程来优化模拟芯片中的关键尺寸，并获得模拟芯片与预期芯片的收敛。 此外，可以向设计者提供一组结果，从中创建更新的芯片设计。

公开(公告)号：US07488933B2

公开(公告)日：2009-02-10

申请号：US11461929

申请日：2006-08-02

申请人： Jun Ye ,  Yu Cao ,  Guangqing Chen ,  Stefan Hunsche

发明人： Jun Ye ,  Yu Cao ,  Guangqing Chen ,  Stefan Hunsche

IPC分类号： G12B13/00

CPC分类号： G03F7/70516 ,  G03F7/705

摘要： A method for separately calibrating an optical model and a resist model of lithography process using information derived from in-situ aerial image measurements to improve the calibration of both the optical model and the resist model components of the lithography simulation model. Aerial images produced by an exposure tool are measured using an image sensor array loaded into the exposure tool. Multiple embodiments of measuring aerial image information and using the measured aerial image information to calibrate the optical model and the resist model are disclosed. The method of the invention creates more accurate and separable optical and resist models, leading to better predictability of the pattern transfer process from mask to wafer, more accurate verification of circuit patterns and how they will actually print in production, and more accurate model-based process control in the wafer fabrication facility.

摘要翻译： 使用从原位空间图像测量得到的信息分别校准光学模型和光刻工艺的抗蚀剂模型的方法，以改进光刻模拟和光刻模拟模型的抗蚀剂模型组件的校准。 使用装载到曝光工具中的图像传感器阵列来测量由曝光工具产生的空中影像。 公开了测量空间图像信息和使用所测量的空间图像信息来校准光学模型和抗蚀剂模型的多个实施例。 本发明的方法创建更精确和可分离的光学和抗蚀剂模型，导致从掩模到晶片的图案转移过程更好的可预测性，电路图案的更准确的验证以及它们将如何在生产中实际打印，以及更准确的基于模型 晶圆制造设备中的过程控制。

公开(公告)号：US20080301620A1

公开(公告)日：2008-12-04

申请号：US11757805

申请日：2007-06-04

申请人： Jun Ye ,  Yu Cao ,  Hanying Feng

发明人： Jun Ye ,  Yu Cao ,  Hanying Feng

IPC分类号： G06F17/50 ,  G03F1/00

CPC分类号： G03F1/36

摘要： Methods are disclosed to create efficient model-based Sub-Resolution Assist Features (MB-SRAF). An SRAF guidance map is created, where each design target edge location votes for a given field point on whether a single-pixel SRAF placed on this field point would improve or degrade the aerial image over the process window. In one embodiment, the SRAF guidance map is used to determine SRAF placement rules and/or to fine tune already-placed SRAFs. In another embodiment the SRAF guidance map is used directly to place SRAFs in a mask layout.

摘要翻译： 公开了创建有效的基于模型的子分辨率辅助特征（MB-SRAF）的方法。 创建SRAF指南图，其中每个设计目标边缘位置对于给定的场点投票，放置在该场点上的单像素SRAF是否将改善或降级过程窗口上的空中图像。 在一个实施例中，SRAF引导图用于确定SRAF放置规则和/或微调已经放置的SRAF。 在另一个实施例中，SRAF引导图被直接用于将SRAF放置在掩模布局中。

公开(公告)号：US20070032896A1

公开(公告)日：2007-02-08

申请号：US11461929

申请日：2006-08-02

申请人： Jun Ye ,  Yu Cao ,  Guangqing Chen ,  Stefan Hunsche

发明人： Jun Ye ,  Yu Cao ,  Guangqing Chen ,  Stefan Hunsche

IPC分类号： G06F19/00

CPC分类号： G03F7/70516 ,  G03F7/705

摘要： A method for separately calibrating an optical model and a resist model of lithography process using information derived from in-situ aerial image measurements to improve the calibration of both the optical model and the resist model components of the lithography simulation model. Aerial images produced by an exposure tool are measured using an image sensor array loaded into the exposure tool. Multiple embodiments of measuring aerial image information and using the measured aerial image information to calibrate the optical model and the resist model are disclosed. The method of the invention creates more accurate and separable optical and resist models, leading to better predictability of the pattern transfer process from mask to wafer, more accurate verification of circuit patterns and how they will actually print in production, and more accurate model-based process control in the wafer fabrication facility.

摘要翻译： 使用从原位空间图像测量得到的信息分别校准光学模型和光刻工艺的抗蚀剂模型的方法，以改进光刻模拟和光刻模拟模型的抗蚀剂模型组件的校准。 使用装载到曝光工具中的图像传感器阵列来测量由曝光工具产生的空中影像。 公开了测量空间图像信息和使用所测量的空间图像信息来校准光学模型和抗蚀剂模型的多个实施例。 本发明的方法创建更精确和可分离的光学和抗蚀剂模型，导致从掩模到晶片的图案转移过程更好的可预测性，电路图案的更准确的验证以及它们将如何在生产中实际打印，以及更准确的基于模型 晶圆制造设备中的过程控制。