公开(公告)号：US20130107226A1

公开(公告)日：2013-05-02

申请号：US13808669

申请日：2011-06-27

申请人： Yuri Aksenov

发明人： Yuri Aksenov

IPC分类号： G03B21/14 ,  F21V9/08

CPC分类号： G03B21/14 ,  F21V9/08 ,  G03B21/2033 ,  G03B21/204 ,  G03B21/208 ,  H04N9/315

摘要： The invention provides a projection system (100) comprising a projection light source (110) and a color wheel (120), wherein the projection light source (110) comprises a solid state light source (115), configured to generate a solid state light source beam (111) having a solid state light source beam cross-section. Upstream of the color wheel (120) beam shaping optics (161) are arranged, configured to shape the solid state light source beam cross-section into a rectangular cross-section. The color wheel (120) comprises regions (125) of different luminescent material (170), excitable by the solid state light source beam (111) and configured to generate, upon excitation by the solid state light source beam (111), visible light (116) for projection on an image panel (290). The regions (125) are arranged at different distances from an axis of rotation (122) of the color wheel (120).

摘要翻译： 本发明提供了一种包括投影光源（110）和色轮（120）的投影系统（100），其中所述投影光源（110）包括固态光源（115），其被配置为产生固态光 源光束（111）具有固态光源光束横截面。 色轮（120）光束整形光学器件（161）的上游被布置成将固态光源光束横截面成形为矩形横截面。 色轮（120）包括不同发光材料（170）的区域（125），可由固态光源光束（111）激发，并被配置为在由固态光源光束（111）激发时产生可见光 （116），用于在图像面板（290）上投影。 区域（125）布置在与色轮（120）的旋转轴线（122）不同的距离处。

公开(公告)号：US08343424B2

公开(公告)日：2013-01-01

申请号：US12097082

申请日：2006-12-15

申请人： Peter Dirksen ,  Yuri Aksenov ,  Fredericus Christiaan Van Den Heuvel ,  Johannes Arnoldus Jacobus Maria Kwinten

发明人： Peter Dirksen ,  Yuri Aksenov ,  Fredericus Christiaan Van Den Heuvel ,  Johannes Arnoldus Jacobus Maria Kwinten

IPC分类号： G01N21/01

CPC分类号： G03F7/70616 ,  B01L3/502707 ,  B01L2200/12 ,  B01L2300/0654 ,  B01L2300/0819 ,  G03F7/70608 ,  G03F9/7011 ,  G03F9/7019 ,  G03F9/7076 ,  G06F3/016 ,  G11C16/16

摘要： A device includes first and second material facing towards each other as to form at least one focusing microstructure with a focal point located outside of the first material.

摘要翻译： 一种装置包括朝向彼此的第一和第二材料，以形成至少一个聚焦微结构，焦点位于第一材料的外侧。

公开(公告)号：US20100215273A1

公开(公告)日：2010-08-26

申请号：US11993063

申请日：2006-06-20

申请人： Yuri Aksenov ,  Peter Dirksen ,  Peter Zandbergen ,  Michael Benndorf ,  David Van Steenwinckle

发明人： Yuri Aksenov ,  Peter Dirksen ,  Peter Zandbergen ,  Michael Benndorf ,  David Van Steenwinckle

IPC分类号： G06K9/46

CPC分类号： G03F7/7085 ,  G03F1/44 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70566

摘要： In a method for evaluating the polarization state of an illumination system (52) in an optical system (50), a mask (56) is provided in the optical system (50) such that an illumination beam incident on the mask (56) is adapted such as to substantially differently diffract incident components of a light beam having different polarization states. An image of the mask (56) is then obtained, using an illumination beam of the illumination system (52) of the optical system (50). The obtained image, being either an intensity plot or a structure created in a resist layer by exposing the resist layer with the image of the mask (56), is then used to extract polarization related information about the illumination system (52). The image used for evaluating may be a diffraction image of the mask.

摘要翻译： 在用于评估光学系统（50）中的照明系统（52）的偏振状态的方法中，在光学系统（50）中设置掩模（56），使得入射在掩模（56）上的照明光束是 适于使得具有不同极化状态的光束的入射分量基本不同的衍射。 然后使用光学系统（50）的照明系统（52）的照明光束获得掩模（56）的图像。 所获得的图像是强度图或通过用掩模（56）的图像曝光抗蚀剂层在抗蚀剂层中产生的结构，然后用于提取关于照明系统（52）的偏振相关信息。 用于评估的图像可以是掩模的衍射图像。