公开(公告)号：US07670751B2

公开(公告)日：2010-03-02

申请号：US12204685

申请日：2008-09-04

申请人： Masaki Ohashi ,  Youichi Ohsawa ,  Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho

发明人： Masaki Ohashi ,  Youichi Ohsawa ,  Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004

CPC分类号： C07J31/006 ,  C07J41/0055 ,  C07J43/003 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/114

摘要： Photoacid generators generate sulfonic acids of formula (1a) or (1c) upon exposure to high-energy radiation. R1—COOCH(CF3)CF2SO3−H+  (1a) R1—O—COOCH(CF3)CF2SO3−H+  (1c) R1 is a C20-C50 hydrocarbon group having a steroid structure. The photoacid generators are compatible with resins and can control acid diffusion and are thus suited for use in chemically amplified resist compositions.

摘要翻译： 光生酸发生剂在暴露于高能量辐射时产生式（1a）或（1c）的磺酸。 R1-COOCH（CF3）CF2SO3-H +（1a）R1-O-COOCH（CF3）CF2SO3-H +（1c）R1是具有类固醇结构的C20-C50烃基。 光致酸产生剂与树脂相容并且可以控制酸扩散，因此适用于化学增幅抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US07919226B2

公开(公告)日：2011-04-05

申请号：US12222645

申请日：2008-08-13

申请人： Youichi Ohsawa ,  Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Katsuhiro Kobayashi

发明人： Youichi Ohsawa ,  Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Katsuhiro Kobayashi

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30 ,  C07C309/06

CPC分类号： C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07D307/64 ,  C07D307/68 ,  C07D333/46 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

摘要： Sulfonate salts have the formula:CF3—CH(OCOR)—CF2SO3−M+ wherein R is C1-C20 alkyl or C6-C14 aryl, and M+ is a lithium, sodium, potassium, ammonium or tetramethylammonium ion. Onium salts, oximesulfonates and sulfonyloxyimides and other compounds derived from these sulfonate salts are effective photoacid generators in chemically amplified resist compositions.

摘要翻译： 磺酸盐具有式：CF 3 -CH（OCOR）-CF 2 SO 3 -M +，其中R是C 1 -C 20烷基或C 6 -C 14芳基，M +是锂，钠，钾，铵或四甲基铵离子。 鎓盐，肟磺酸盐和磺酰氧基酰亚胺以及衍生自这些磺酸盐的其它化合物是化学放大抗蚀剂组合物中有效的光致酸产生剂。

公开(公告)号：US07531290B2

公开(公告)日：2009-05-12

申请号：US11588413

申请日：2006-10-27

申请人： Katsuhiro Kobayashi ,  Youichi Ohsawa ,  Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe

发明人： Katsuhiro Kobayashi ,  Youichi Ohsawa ,  Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe

IPC分类号： G03C1/73 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  C07C303/32

CPC分类号： C07C381/12 ,  C07C309/07 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

摘要： Sulfonate salts have the formula: R1SO3—CH(Rf)—CF2SO3−M+ wherein R1 is alkyl or aryl, Rf is H or trifluoromethyl, and M+ is a Li, Na, K, ammonium or tetramethylammonium ion. Onium salts, oximesulfonates and sulfonyloxyimides and other compounds derived from these sulfonate salts are effective photoacid generators in chemically amplified resist compositions.

摘要翻译： 磺酸盐具有下式：<？in-line-formula description =“In-line Formulas”end =“lead”？> R1SO3-CH（Rf）-CF2SO3-M + <？in-line-formula description =“In- 其中R1是烷基或芳基，Rf是H或三氟甲基，M +是Li，Na，K，铵或四甲基铵离子。 鎓盐，肟磺酸盐和磺酰氧基酰亚胺以及衍生自这些磺酸盐的其它化合物是化学放大抗蚀剂组合物中有效的光致酸产生剂。

公开(公告)号：US20080318160A1

公开(公告)日：2008-12-25

申请号：US12222645

申请日：2008-08-13

申请人： Youichi Ohsawa ,  Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Katsuhiro Kobayashi

发明人： Youichi Ohsawa ,  Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Katsuhiro Kobayashi

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07D307/64 ,  C07D307/68 ,  C07D333/46 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

摘要： Sulfonate salts have the formula:CF3—CH(OCOR)—CF2SO3−M+ wherein R is C1-C20 alkyl or C6-C14 aryl, and M+ is a lithium, sodium, potassium, ammonium or tetramethylammonium ion. Onium salts, oximesulfonates and sulfonyloxyimides and other compounds derived from these sulfonate salts are effective photoacid generators in chemically amplified resist compositions.

摘要翻译： 磺酸盐具有式：CF 3 -CH（OCOR）-CF 2 SO 3 -M +，其中R是C 1 -C 20烷基或C 6 -C 14芳基，M +是锂，钠，钾，铵或四甲基铵离子。 鎓盐，肟磺酸盐和磺酰氧基酰亚胺以及衍生自这些磺酸盐的其它化合物是化学放大抗蚀剂组合物中有效的光致酸产生剂。

公开(公告)号：US20070099112A1

公开(公告)日：2007-05-03

申请号：US11588413

申请日：2006-10-27

申请人： Katsuhiro Kobayashi ,  Youichi Ohsawa ,  Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe

发明人： Katsuhiro Kobayashi ,  Youichi Ohsawa ,  Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： C07C381/12 ,  C07C309/07 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

摘要： Sulfonate salts have the formula: R1SO3—CH(Rf)-CF2SO3−M+ wherein R1 is alkyl or aryl, Rf is H or trifluoromethyl, and M+ is a Li, Na, K, ammonium or tetramethylammonium ion. Onium salts, oximesulfonates and sulfonyloxyimides and other compounds derived from these sulfonate salts are effective photoacid generators in chemically amplified resist compositions.

摘要翻译： 磺酸盐具有下式：R 1 SO 3 -CH（R f）-CF 2 SO 3 SO 2 其中R 1是烷基或芳基，R f是H或三氟甲基，M +是H， Na，K，铵或四甲基铵离子。 鎓盐，肟磺酸盐和磺酰氧基酰亚胺以及衍生自这些磺酸盐的其它化合物是化学放大抗蚀剂组合物中有效的光致酸产生剂。

公开(公告)号：US20060228648A1

公开(公告)日：2006-10-12

申请号：US11397526

申请日：2006-04-05

申请人： Youichi Ohsawa ,  Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Katsuhiro Kobayashi

发明人： Youichi Ohsawa ,  Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Katsuhiro Kobayashi

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07D307/64 ,  C07D307/68 ,  C07D333/46 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

摘要： Sulfonate salts have the formula: CF3—CH(OCOR)—CF2SO3−M+ wherein R is C1-C20 alkyl or C6-C14 aryl, and M+ is a lithium, sodium, potassium, ammonium or tetramethylammonium ion. Onium salts, oximesulfonates and sulfonyloxyimides and other compounds derived from these sulfonate salts are effective photoacid generators in chemically amplified resist compositions.

摘要翻译： 磺酸盐具有下式：CF 3 -CH（OCOR）-CF 2 SO 3 SO 2 - 其中R是C 1 -C 20烷基或C 6 -C 14芳基 ，M + +是锂，钠，钾，铵或四甲基铵离子。 鎓盐，肟磺酸盐和磺酰氧基酰亚胺以及衍生自这些磺酸盐的其它化合物是化学放大抗蚀剂组合物中有效的光致酸产生剂。

公开(公告)号：US08030515B2

公开(公告)日：2011-10-04

申请号：US13043683

申请日：2011-03-09

申请人： Katsuhiro Kobayashi ,  Youichi Ohsawa ,  Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe

发明人： Katsuhiro Kobayashi ,  Youichi Ohsawa ,  Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe

IPC分类号： C07C309/08

CPC分类号： C07C381/12 ,  C07C309/08 ,  C07C381/00 ,  C07D333/46 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/2041

摘要： Sulfonate salts have the formula: HOCH2CH2CF2CF2SO3−M+ wherein M+ is a Li, Na, K, ammonium or tetramethylammonium ion. Onium salts, oxime sulfonates and sulfonyloxyimides derived from these salts are effective photoacid generators in chemically amplified resist compositions.

摘要翻译： 磺酸盐具有下式：HOCH2CH2CF2CF2SO3-M +，其中M +是Li，Na，K，铵或四甲基铵离子。 衍生自这些盐的鎓盐，肟磺酸盐和磺酰氧基酰亚胺是化学放大抗蚀剂组合物中有效的光酸产生剂。

公开(公告)号：US07928262B2

公开(公告)日：2011-04-19

申请号：US11767783

申请日：2007-06-25

申请人： Katsuhiro Kobayashi ,  Youichi Ohsawa ,  Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe

发明人： Katsuhiro Kobayashi ,  Youichi Ohsawa ,  Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe

IPC分类号： C07C309/08 ,  G03C1/00 ,  G03F7/00

CPC分类号： C07C381/12 ,  C07C309/08 ,  C07C381/00 ,  C07D333/46 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/2041

摘要： Sulfonate salts have the formula: HOCH2CH2CF2CF2SO3−M+ wherein M+ is a Li, Na, K, ammonium or tetramethylammonium ion. Onium salts, oxime sulfonates and sulfonyloxyimides derived from these salts are effective photoacid generators in chemically amplified resist compositions.

公开(公告)号：US07569324B2

公开(公告)日：2009-08-04

申请号：US11767821

申请日：2007-06-25

申请人： Katsuhiro Kobayashi ,  Youichi Ohsawa ,  Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe

发明人： Katsuhiro Kobayashi ,  Youichi Ohsawa ,  Takeshi Kinsho ,  Takeru Watanabe

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

CPC分类号： C07C381/12 ,  C07C309/00 ,  C07C309/12 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/74 ,  C07D207/48 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/115

摘要： Sulfonate salts have the formula: R1COOCH2CH2CF2CF2SO3−M+ wherein R1 is alkyl, aryl or hetero-aryl, M+ is a Li, Na, K, ammonium or tetramethylammonium ion. Onium salts, oxime sulfonates and sulfonyloxyimides derived from these salts are effective photoacid generators in chemically amplified resist compositions.

摘要翻译： 磺酸盐具有下式：R1COOCH2CH2CF2CF2SO3-M +，其中R1是烷基，芳基或杂芳基，M +是Li，Na，K，铵或四甲基铵离子。 衍生自这些盐的鎓盐，肟磺酸盐和磺酰氧基酰亚胺是化学放大抗蚀剂组合物中有效的光酸产生剂。

公开(公告)号：US07511169B2

公开(公告)日：2009-03-31

申请号：US11397526

申请日：2006-04-05

申请人： Youichi Ohsawa ,  Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Katsuhiro Kobayashi

发明人： Youichi Ohsawa ,  Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Katsuhiro Kobayashi

IPC分类号： C07C309/06 ,  G03F7/004

CPC分类号： C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07D307/64 ,  C07D307/68 ,  C07D333/46 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

摘要： Sulfonate salts have the formula: CF3—CH(OCOR)—CF2SO3−M+ wherein R is C1-C20 alkyl or C6-C14 aryl, and M+ is a lithium, sodium, potassium, ammonium or tetramethylammonium ion. Onium salts, oximesulfonates and sulfonyloxyimides and other compounds derived from these sulfonate salts are effective photoacid generators in chemically amplified resist compositions.

摘要翻译： 磺酸盐具有式：CF 3 -CH（OCOR）-CF 2 SO 3 -M +，其中R是C 1 -C 20烷基或C 6 -C 14芳基，M +是锂，钠，钾，铵或四甲基铵离子。 鎓盐，肟磺酸盐和磺酰氧基酰亚胺以及衍生自这些磺酸盐的其它化合物是化学放大抗蚀剂组合物中有效的光致酸产生剂。