利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册

搜索结果

22 条记录 (耗时 0.037 秒)

    Variable resist protecting groups
    12.
    发明授权
    Variable resist protecting groups 有权
    可变抗蚀剂保护基

    公开(公告)号：US08129080B2

    公开(公告)日：2012-03-06

    申请号：US12561001

    申请日：2009-09-16

    申请人： Carlos A. Fonseca ,  Mark Somervell ,  Steven Scheer

    发明人： Carlos A. Fonseca ,  Mark Somervell ,  Steven Scheer

    IPC分类号： G03F7/00

    CPC分类号： G03B27/54 ,  G03F7/095 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325

    摘要： A method and system for patterning a substrate using a dual-tone development process is described. The method and system comprise using a resist material having a polymer backbone with a plurality of protecting groups attached thereto to improve process latitude and critical dimension uniformity for the dual-tone development process.

    摘要翻译： 描述了使用双色调显影处理图案化衬底的方法和系统。 该方法和系统包括使用具有聚合物主链的抗蚀剂材料，其具有连接到其上的多个保护基，以改善双音发展过程的工艺范围和临界尺寸的一致性。

    Dual Tone Development Processes
    14.
    发明申请
    Dual Tone Development Processes 有权
    双音发展过程

    公开(公告)号：US20100119960A1

    公开(公告)日：2010-05-13

    申请号：US12560873

    申请日：2009-09-16

    申请人： Carlos A. Fonseca ,  Mark Somervell ,  Steven Scheer

    发明人： Carlos A. Fonseca ,  Mark Somervell ,  Steven Scheer

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/095 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325

    摘要： A method and system for patterning a substrate using a dual-tone development process is described. The method and system comprise using a resist material having a polymer backbone with a plurality of protecting groups attached thereto to improve process latitude and critical dimension uniformity for the dual-tone development process.

    摘要翻译： 描述了使用双色调显影处理图案化衬底的方法和系统。 该方法和系统包括使用具有聚合物主链的抗蚀剂材料，其具有连接到其上的多个保护基，以改善双音发展过程的工艺范围和临界尺寸的一致性。

    METHOD FOR CREATING GRAY-SCALE FEATURES FOR DUAL TONE DEVELOPMENT PROCESSES
    15.
    发明申请
    METHOD FOR CREATING GRAY-SCALE FEATURES FOR DUAL TONE DEVELOPMENT PROCESSES 有权
    用于创建双色调开发过程的灰度特征的方法

    公开(公告)号：US20100068654A1

    公开(公告)日：2010-03-18

    申请号：US12334852

    申请日：2008-12-15

    申请人： Carlos A. Fonseca ,  Mark Somervell ,  Steven Scheer

    发明人： Carlos A. Fonseca ,  Mark Somervell ,  Steven Scheer

    IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G06G7/48

    CPC分类号： G03F7/70283 ,  G03F5/16 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325

    摘要： A method of patterning a substrate using a dual-tone development process is described. The patterning method comprises forming a layer of radiation-sensitive material on a substrate, wherein the layer of radiation-sensitive material comprises a dual tone resist. Thereafter, the patterning method comprises performing one or more exposures of the layer of radiation-sensitive material to one or more patterns of radiation, wherein at least one of the one or more exposures comprises using a mask having a dual-tone mask pattern region configured for printing dual tone features and a half-tone mask pattern region configured for printing half-tone features. Furthermore, the half-tone mask pattern region is optimized for use with the dual tone resist.

    摘要翻译： 描述使用双音发展过程对衬底进行构图的方法。 图案化方法包括在衬底上形成辐射敏感材料层，其中辐射敏感材料层包括双色调抗蚀剂。 此后，图案化方法包括对辐射敏感材料层进行一次或多次曝光，以一个或多个辐射图案，其中一个或多个曝光中的至少一个曝光包括使用配置有双色调掩模图案区域的掩模 用于打印双色特征和配置用于打印半色调特征的半色调蒙版图案区域。 此外，半色调掩模图案区域被优化用于双色调抗蚀剂。

    Pushing Secure Notifications to Mobile Computing Devices
    16.
    发明申请
    Pushing Secure Notifications to Mobile Computing Devices 有权
    将安全通知推送到移动计算设备

    公开(公告)号：US20130084896A1

    公开(公告)日：2013-04-04

    申请号：US13248094

    申请日：2011-09-29

    申请人： Eric J. Barkie ,  Benjamin L. Fletcher ,  Carlos A. Fonseca ,  Leslie S. Liu ,  Colm V. Malone ,  Min Wei

    发明人： Eric J. Barkie ,  Benjamin L. Fletcher ,  Carlos A. Fonseca ,  Leslie S. Liu ,  Colm V. Malone ,  Min Wei

    IPC分类号： H04W68/00

    CPC分类号： H04W12/10 ,  H04L63/0428 ,  H04L67/20 ,  H04L67/26 ,  H04W12/02

    摘要： A method for pushing secure notifications includes a push service platform receiving a push notification message request from an entity registered with the push service platform, processing the push notification message request to generate a secure push notification message, and sending the secure push notification message to a target mobile computing device through a native third-party push service associated with the target mobile computing device. The secure push notification message includes a message ID (identifier) that corresponds to message content associated with the push notification message request. The method further includes the push service platform receiving a pull message request from the target mobile computing device, the pull message request requesting the message content associated with the push notification message corresponding to the message ID, and sending the requested message content associated with the push notification message to the mobile computing device.

    摘要翻译： 用于推送安全通知的方法包括：推送服务平台，从推送服务平台注册的实体接收推送通知消息请求，处理推送通知消息请求以生成安全推送通知消息，并将安全推送通知消息发送到 通过与目标移动计算设备相关联的本地第三方推送服务来定位移动计算设备。 安全推送通知消息包括对应于与推送通知消息请求相关联的消息内容的消息ID（标识符）。 所述方法还包括：推送服务平台从目标移动计算设备接收拉取消息请求，所述拉取消息请求请求与所述消息ID相对应的所述推送通知消息相关联的所述消息内容，以及发送与所述推送相关联的所请求消息内容 通知消息给移动计算设备。

    Method for creating gray-scale features for dual tone development processes
    17.
    发明授权
    Method for creating gray-scale features for dual tone development processes 有权
    为双音发展过程创建灰度特征的方法

    公开(公告)号：US08283111B2

    公开(公告)日：2012-10-09

    申请号：US12334852

    申请日：2008-12-15

    申请人： Carlos A. Fonseca ,  Mark Somervell ,  Steven Scheer

    发明人： Carlos A. Fonseca ,  Mark Somervell ,  Steven Scheer

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70283 ,  G03F5/16 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325

    摘要： A method of patterning a substrate using a dual-tone development process is described. The patterning method comprises forming a layer of radiation-sensitive material on a substrate, wherein the layer of radiation-sensitive material comprises a dual tone resist. Thereafter, the patterning method comprises performing one or more exposures of the layer of radiation-sensitive material to one or more patterns of radiation, wherein at least one of the one or more exposures comprises using a mask having a dual-tone mask pattern region configured for printing dual tone features and a half-tone mask pattern region configured for printing half-tone features. Furthermore, the half-tone mask pattern region is optimized for use with the dual tone resist.

    摘要翻译： 描述使用双音发展过程对衬底进行构图的方法。 图案化方法包括在衬底上形成辐射敏感材料层，其中辐射敏感材料层包括双色调抗蚀剂。 此后，图案化方法包括对辐射敏感材料层进行一次或多次曝光，以一个或多个辐射图案，其中一个或多个曝光中的至少一个曝光包括使用配置有双色调掩模图案区域的掩模 用于打印双色特征和配置用于打印半色调特征的半色调蒙版图案区域。 此外，半色调掩模图案区域被优化用于双色调抗蚀剂。