公开(公告)号：US20060090692A1

公开(公告)日：2006-05-04

申请号：US10976593

申请日：2004-10-29

申请人： Juan Dominguez ,  Kyle Flanigan ,  Baohua Niu ,  Ernisse Putna

发明人： Juan Dominguez ,  Kyle Flanigan ,  Baohua Niu ,  Ernisse Putna

IPC分类号： C30B15/14 ,  C30B25/00 ,  C30B28/12 ,  C30B28/14 ,  C30B23/00

CPC分类号： C09G1/02 ,  B82Y15/00 ,  B82Y30/00 ,  C01P2004/64

摘要： An embodiment of the present invention is a technique to generate particles for use in a slurry solution for chemical mechanical planarization (CMP). Reverse micelles are formed using at least one of an oxide and a metal in a mixture. The size of the reverse micelles is tuned to a desired size. The particles are formed inside the reverse micelles. The particles are precipitated and transferred to a slurry solution.

摘要翻译： 本发明的一个实施方案是产生用于化学机械平面化（CMP）的浆液的颗粒的技术。 使用混合物中的氧化物和金属中的至少一种形成反胶束。 将反胶束的尺寸调整到所需尺寸。 颗粒形成在反胶束内。 将颗粒沉淀并转移到浆液中。

公开(公告)号：US20060073424A1

公开(公告)日：2006-04-06

申请号：US10955601

申请日：2004-09-29

申请人： Sergei Koveshnikov ,  Juan Dominguez ,  Kyle Flanigan ,  Ernisse Putna

发明人： Sergei Koveshnikov ,  Juan Dominguez ,  Kyle Flanigan ,  Ernisse Putna

IPC分类号： G03F7/00

CPC分类号： G03F7/091 ,  Y10S438/95 ,  Y10S438/964

摘要： Systems and techniques involving optical coatings for semiconductor devices. An implementation includes a substantially isotropic, heterogeneous anti-reflective coating having a substantially equal thickness normal to any portion of a substrate independent of the orientation of the portion.

摘要翻译： 涉及半导体器件光学涂层的系统和技术。 实施方案包括基本上各向同性的多相抗反射涂层，其具有与基底的取向无关的垂直于基底的任何部分的基本相等的厚度。

公开(公告)号：US07507521B2

公开(公告)日：2009-03-24

申请号：US10914605

申请日：2004-08-09

申请人： Kyle Y. Flanigan ,  Juan E. Dominguez ,  Sergei V. Koveshnikov ,  Ernisse Putna

发明人： Kyle Y. Flanigan ,  Juan E. Dominguez ,  Sergei V. Koveshnikov ,  Ernisse Putna

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004

CPC分类号： H01L21/76808

摘要： An optically tuned SLAM (Sacrificial Light-Absorbing Material) may be used in a via-first dual damascene patterning process to facilitate removal of the SLAM. The monomers used to produce the optically tuned SLAM may be modified to place an optically sensitive structure in the backbone of the SLAM polymer. The wafer may be exposed to a wavelength to which the SLAM is tuned prior to etching and/or ashing steps to degrade the optically tuned SLAM and facilitate removal.

摘要翻译： 光学调谐的SLAM（牺牲光吸收材料）可以用于通孔第一双镶嵌图案化工艺以便于去除SLAM。 用于产生光学调谐SLAM的单体可以被修饰以将光敏结构置于SLAM聚合物的主链中。 在蚀刻和/或灰化步骤之前，可以将晶片暴露于SLAM调谐到的波长以降解光学调谐的SLAM并便于去除。

公开(公告)号：US20060147845A1

公开(公告)日：2006-07-06

申请号：US11029776

申请日：2005-01-05

申请人： Kyle Flanigan ,  Baohua Niu ,  Juan Dominguez ,  Ernisse Putna

发明人： Kyle Flanigan ,  Baohua Niu ,  Juan Dominguez ,  Ernisse Putna

IPC分类号： G03C5/00 ,  G02F1/13

CPC分类号： G02F1/1313 ,  G03F7/70291

摘要： A mask useful for photolithography that can be electronically reconfigured is described. In one embodiment, a photolithography system has an illumination system, a reticle scanning stage, a wafer scanning stage, and a reticle mounted to the reticle scanning stage, the reticle having an electronically reconfigurable mask.

摘要翻译： 描述了可以电子重构的用于光刻的掩模。 在一个实施例中，光刻系统具有照明系统，掩模版扫描台，晶片扫描台和安装到掩模版扫描台的掩模版，所述掩模版具有电子可重新配置的掩模。

公开(公告)号：US20050058933A1

公开(公告)日：2005-03-17

申请号：US10666019

申请日：2003-09-17

申请人： Robert Meagley ,  Ernisse Putna

发明人： Robert Meagley ,  Ernisse Putna

IPC分类号： G03C1/76 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392

摘要： A photoacid generator with sigma-bonded cations may be utilized with certain photolithographic processes to provide desirable absorbance and high quantum efficiency.

摘要翻译： 具有σ-键合阳离子的光致酸发生器可以用某些光刻方法使用，以提供所需的吸光度和高量子效率。