公开(公告)号：US08785927B2

公开(公告)日：2014-07-22

申请号：US13881032

申请日：2011-12-27

申请人： Kazuaki Ebata ,  Shigekazu Tomai ,  Yuki Tsuruma ,  Shigeo Matsuzaki ,  Koki Yano

发明人： Kazuaki Ebata ,  Shigekazu Tomai ,  Yuki Tsuruma ,  Shigeo Matsuzaki ,  Koki Yano

IPC分类号： H01L29/12

CPC分类号： H01L29/7869 ,  C23C14/086 ,  H01L21/02488 ,  H01L21/02554 ,  H01L21/02565 ,  H01L21/02631 ,  H01L21/02667 ,  H01L29/66742 ,  H01L29/66969

摘要： A stacked layer structure including an oxide layer and an insulating layer, the oxide layer having a carrier concentration of 1018/cm3 or less and an average crystal diameter of 1 μm or more; and the crystals of the oxide layer being arranged in a columnar shape on the surface of the insulating layer.

摘要翻译： 包括氧化物层和绝缘层的堆叠层结构，所述氧化物层的载流子浓度为1018 / cm3以下，平均晶体直径为1μm以上; 并且氧化物层的晶体在绝缘层的表面上以柱状排列。

公开(公告)号：US08153033B2

公开(公告)日：2012-04-10

申请号：US11908037

申请日：2006-03-07

申请人： Yukio Shimane ,  Kazuyoshi Inoue ,  Masato Matsubara ,  Nobuo Tanaka ,  Tokie Tanaka, legal representative ,  Shigekazu Tomai ,  Koki Yano ,  Shigeo Matsuzaki

发明人： Yukio Shimane ,  Kazuyoshi Inoue ,  Masato Matsubara ,  Nobuo Tanaka ,  Shigekazu Tomai ,  Koki Yano ,  Shigeo Matsuzaki

IPC分类号： H01B1/08 ,  C09D1/00

CPC分类号： C23C16/407 ,  C23C14/3414 ,  C23C16/40

摘要： An amorphous transparent conductive film containing as a main component a six oxygen-coordinated metal oxide, and satisfying, in a radial distribution function (RDF) obtained by an X-ray scattering measurement, a relationship of A/B>1, providing that the maximum value of RDF at an interatomic distance of from 0.30 nm to 0.36 nm is A and the maximum value of RDF at an interatomic distance of from 0.36 nm to 0.42 nm is B.

摘要翻译： 一种非晶透明导电膜，其以六氧化配位金属氧化物为主要成分，并且通过X射线散射测定获得的径向分布函数（RDF）满足A / B> 1的关系，条件是 在原子间距离为0.30nm至0.36nm处的RDF的最大值为A，原子间距离为0.36nm至0.42nm处的RDF的最大值为B.

公开(公告)号：US20090250668A1

公开(公告)日：2009-10-08

申请号：US11908037

申请日：2006-03-07

申请人： Yukio Shimane ,  Kazuyoshi Inoue ,  Masato Matsubara ,  Nobuo Tanaka ,  Tokie Tanaka ,  Shigekazu Tomai ,  Koki Yano ,  Shigeo Matsuzaki

发明人： Yukio Shimane ,  Kazuyoshi Inoue ,  Masato Matsubara ,  Nobuo Tanaka ,  Tokie Tanaka ,  Shigekazu Tomai ,  Koki Yano ,  Shigeo Matsuzaki

IPC分类号： H01B1/08 ,  C23C14/34

CPC分类号： C23C16/407 ,  C23C14/3414 ,  C23C16/40

摘要： An amorphous transparent conductive film containing as a main component a six oxygen-coordinated metal oxide, and satisfying, in a radial distribution function (RDF) obtained by an X-ray scattering measurement, a relationship of A/B>1, providing that the maximum value of RDF at an interatomic distance of from 0.30 nm to 0.36 nm is A and the maximum value of RDF at an interatomic distance of from 0.36 nm to 0.42 nm is B.

摘要翻译： 一种非晶透明导电膜，其以六氧化配位金属氧化物为主要成分，并且通过X射线散射测定获得的径向分布函数（RDF）满足A / B> 1的关系，条件是 在原子间距离为0.30nm至0.36nm处的RDF的最大值为A，原子间距离为0.36nm至0.42nm处的RDF的最大值为B.

公开(公告)号：US20080308774A1

公开(公告)日：2008-12-18

申请号：US12185705

申请日：2008-08-04

申请人： Kazuyoshi Inoue ,  Shigeo Matsuzaki

发明人： Kazuyoshi Inoue ,  Shigeo Matsuzaki

IPC分类号： H01B1/08 ,  C23C14/34

CPC分类号： H01L31/1884 ,  C04B35/01 ,  C04B35/453 ,  C04B35/457 ,  C04B35/6262 ,  C04B35/62685 ,  C04B35/62695 ,  C04B2235/3229 ,  C04B2235/3284 ,  C04B2235/3286 ,  C04B2235/3287 ,  C04B2235/3293 ,  C04B2235/5436 ,  C04B2235/5445 ,  C04B2235/6562 ,  C04B2235/6567 ,  C04B2235/6585 ,  C04B2235/767 ,  C04B2235/77 ,  C04B2235/786 ,  C23C14/086 ,  C23C14/3414 ,  Y02E10/50

摘要： A sputtering target including indium oxide and tin oxide, the content by percentage of the tin atoms therein being from 3 to 20 atomic % of the total of the indium atoms and the tin atoms, and the maximum grain size of indium oxide crystal in the sputtering target being 5 μm or less. When a transparent conductive film is formed by sputtering, this sputtering target makes it possible to suppress the generation of nodules on the surface of the target and to conduct the sputtering stably.

摘要翻译： 包括氧化铟和氧化锡的溅射靶，其中锡原子的含量百分比为铟原子和锡原子总数的3至20原子％，溅射中氧化铟晶体的最大晶粒尺寸 目标是5 mum以下。 当通过溅射形成透明导电膜时，该溅射靶可以抑制靶的表面上的结节的产生并且稳定地进行溅射。