公开(公告)号：US08259283B2

公开(公告)日：2012-09-04

申请号：US12408392

申请日：2009-03-20

申请人： Daniël Jozef Maria Direcks ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Paulus Martinus Maria Liebregts ,  Ronald Van Der Ham ,  Wilhelmus Franciscus Johannes Simons ,  Danny Maria Hubertus Philips ,  Gert-Jan Gerardus Johannes Thomas Brands ,  Koen Steffens ,  Han Henricus Aldegonda Lempens ,  Marcus Johannes Van Der Zanden ,  Pieter Mulder

发明人： Daniël Jozef Maria Direcks ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Paulus Martinus Maria Liebregts ,  Ronald Van Der Ham ,  Wilhelmus Franciscus Johannes Simons ,  Danny Maria Hubertus Philips ,  Gert-Jan Gerardus Johannes Thomas Brands ,  Koen Steffens ,  Han Henricus Aldegonda Lempens ,  Marcus Johannes Van Der Zanden ,  Pieter Mulder

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03B27/52 ,  G03F7/70341

摘要： An immersion lithographic apparatus is described in which a droplet removal device removes droplets from the substrate, e.g. during exposures, using an angled flow of gas from a gas knife.

摘要翻译： 描述了一种浸没式光刻设备，其中液滴去除装置从基板去除液滴。 在曝光期间，使用来自气刀的倾斜流动的气体。

公开(公告)号：US20120013865A1

公开(公告)日：2012-01-19

申请号：US13183220

申请日：2011-07-14

申请人： Thibault Simon Mathieu LAURENT ,  Gerardus Adrianus Antonius Maria Kusters ,  Bastiaan Andreas Wilhelmus Hubertus Knarren ,  Raymond Wilhelmus Louis Lafarre ,  Koen Steffens ,  Takeshi Kaneko ,  Robbert Jan Voogd ,  Gregory Martin Mason Corcoran ,  Ruud Hendricus Martinus Johannes Bloks ,  Johan Gertrudis Cornelis Kunnen ,  Ramin Badie

发明人： Thibault Simon Mathieu LAURENT ,  Gerardus Adrianus Antonius Maria Kusters ,  Bastiaan Andreas Wilhelmus Hubertus Knarren ,  Raymond Wilhelmus Louis Lafarre ,  Koen Steffens ,  Takeshi Kaneko ,  Robbert Jan Voogd ,  Gregory Martin Mason Corcoran ,  Ruud Hendricus Martinus Johannes Bloks ,  Johan Gertrudis Cornelis Kunnen ,  Ramin Badie

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70483 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70875

摘要： A substrate table to support a substrate on a substrate supporting area, the substrate table having a heat transfer fluid channel at least under the substrate supporting area, and a plurality of heaters and/or coolers to thermally control the heat transfer fluid in the channel at a location under the substrate supporting area.

摘要翻译： 一种用于支撑衬底支撑区域上的衬底的衬底台，所述衬底台具有至少在衬底支撑区域下方的传热流体通道，以及多个加热器和/或冷却器，以热控制通道中的传热流体 位于基板支撑区域下方的位置。

公开(公告)号：US20090237632A1

公开(公告)日：2009-09-24

申请号：US12408392

申请日：2009-03-20

申请人： Daniel Jozef Maria Direcks ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Paulus Martinus Maria Liebregts ,  Ronald Van Der Ham ,  Wilhelmus Franciscus Johannes Simons ,  Danny Maria Hubertus Philips ,  Gert-Jan Gerardus Johannes Thomas Brands ,  Koen Steffens ,  Han Henricus Aldegonda Lempens ,  Marcus Johannes Van Der Zanden ,  Pieter Mulder

发明人： Daniel Jozef Maria Direcks ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Paulus Martinus Maria Liebregts ,  Ronald Van Der Ham ,  Wilhelmus Franciscus Johannes Simons ,  Danny Maria Hubertus Philips ,  Gert-Jan Gerardus Johannes Thomas Brands ,  Koen Steffens ,  Han Henricus Aldegonda Lempens ,  Marcus Johannes Van Der Zanden ,  Pieter Mulder

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03B27/52 ,  G03F7/70341

摘要： An immersion lithographic apparatus is described in which a droplet removal device removes droplets from the substrate, e.g. during exposures, using an angled flow of gas from a gas knife.

摘要翻译： 描述了一种浸没式光刻设备，其中液滴去除装置从基板去除液滴。 在曝光期间，使用来自气刀的倾斜流动的气体。

公开(公告)号：US07561250B2

公开(公告)日：2009-07-14

申请号：US11812507

申请日：2007-06-19

申请人： Paulus Martinus Maria Liebregts ,  Menno Fien ,  Erik Roelof Loopstra ,  Ronald Van Der Ham ,  Wilhelmus Franciscus Johannes Simons ,  Daniel Jozef Maria Direcks ,  Franciscus Johannes Joseph Janssen ,  Gert-Jan Gerardus Johannes Thomas Brands ,  Koen Steffens

发明人： Paulus Martinus Maria Liebregts ,  Menno Fien ,  Erik Roelof Loopstra ,  Ronald Van Der Ham ,  Wilhelmus Franciscus Johannes Simons ,  Daniel Jozef Maria Direcks ,  Franciscus Johannes Joseph Janssen ,  Gert-Jan Gerardus Johannes Thomas Brands ,  Koen Steffens

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/52 ,  G03B27/58 ,  G03B27/32

CPC分类号： G03F7/70958 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70866 ,  G03F7/70975 ,  G03F7/70983

摘要： A lithographic apparatus is disclosed having a removable adhesive film carrying a coating on at least a part of the apparatus. In an embodiment, a liquid supply system having a liquid confinement structure extending along at least part of a boundary of a space between a projection system and a substrate support is disclosed, wherein the film carrying the coating is on at least part of the liquid confinement structure.

摘要翻译： 公开了一种光刻设备，其具有在设备的至少一部分上承载涂层的可移除的粘合剂膜。 在一个实施例中，公开了一种液体供应系统，其具有沿着投影系统和基板支撑件之间的空间的边界的至少一部分的边界延伸的液体限制结构，其中承载涂层的膜位于液体限制的至少一部分 结构体。

公开(公告)号：US20090147227A1

公开(公告)日：2009-06-11

申请号：US12314023

申请日：2008-12-02

申请人： Koen Steffens ,  Paulus Martinus Maria Liebregts ,  Ronald Van Der Ham ,  Daniel Jozef Maria Direcks ,  Gert-Jan Gerardus Johannes Thomas Brands

发明人： Koen Steffens ,  Paulus Martinus Maria Liebregts ,  Ronald Van Der Ham ,  Daniel Jozef Maria Direcks ,  Gert-Jan Gerardus Johannes Thomas Brands

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： A liquid handling system is disclosed in which an extractor to contain liquid in a space between the projection system of a lithographic apparatus and a substrate has, in plan, a shape with a single corner. The extractor is provided in a rotatable part of a liquid handling system. The rotatable part is rotated under the control of a controller.

摘要翻译： 公开了一种液体处理系统，其中在平版印刷设备的投影系统和基板之间的空间中容纳液体的提取器在平面上具有单个角的形状。 提取器设置在液体处理系统的可旋转部分中。 可旋转部分在控制器的控制下旋转。