公开(公告)号：US07126671B2

公开(公告)日：2006-10-24

申请号：US10806344

申请日：2004-03-23

申请人： Henrikus Herman Marie Cox ,  Dominicus Jacobus Petrus Adrianus Franken ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Martijn Johannes Verbunt ,  Lambertus Adrianus Van Den Wildenberg

发明人： Henrikus Herman Marie Cox ,  Dominicus Jacobus Petrus Adrianus Franken ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Martijn Johannes Verbunt ,  Lambertus Adrianus Van Den Wildenberg

IPC分类号： G03B27/34 ,  G03B27/42 ,  G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70141 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/709

摘要： In a projection system for EUV, the positions of mirrors are measured and controlled relative to each other, rather than to a reference frame. Relative position measurements may be made by interferometers or capacitive sensors mounted on rigid extensions of the mirrors.

摘要翻译： 在用于EUV的投影系统中，反射镜的位置相对于彼此而不是参考帧被测量和控制。 可以通过安装在反射镜的刚性延伸部上的干涉仪或电容式传感器进行相对位置测量。

公开(公告)号：US06788386B2

公开(公告)日：2004-09-07

申请号：US10322777

申请日：2002-12-19

申请人： Hendrikus Herman Marie Cox ,  Frank Auer ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Bastiaan Stephanus Hendrikus Jansen ,  Dominicus Jacobus Petrus Adrianus Franken

发明人： Hendrikus Herman Marie Cox ,  Frank Auer ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Bastiaan Stephanus Hendrikus Jansen ,  Dominicus Jacobus Petrus Adrianus Franken

IPC分类号： G03B2742

CPC分类号： G03F7/70141 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/709

摘要： A reaction mass and an actuator are used to reduce unwanted vibrations of an optical element in the projection system of a lithographic projection apparatus. The reaction mass may be mechanically connected only to the optical element or may be compliantly mounted to the projection system frame.

摘要翻译： 反应物质和致动器用于减少光刻投影装置的投影系统中的光学元件的不必要的振动。 反应物质可以仅机械连接到光学元件，或者可以顺应地安装到投影系统框架。