公开(公告)号：US5762539A

公开(公告)日：1998-06-09

申请号：US807463

申请日：1997-02-27

申请人： Masamichi Nakashiba ,  Norio Kimura ,  Isamu Watanabe ,  Kaori Yoshida

发明人： Masamichi Nakashiba ,  Norio Kimura ,  Isamu Watanabe ,  Kaori Yoshida

IPC分类号： B24B37/30 ,  B24B49/16 ,  B24B5/00

CPC分类号： B24B37/30 ,  B24B49/16

摘要： A polishing apparatus for polishing a workpiece such as a semiconductor wafer has a turntable with a polishing surface, and a top ring for holding a workpiece and pressing the workpiece against the polishing surface under a first pressing. The polishing apparatus has a pressurized fluid source for supplying pressurized fluid, and a plurality of openings provided in the holding surface of the top ring for ejecting the pressurized fluid supplied from the pressurized fluid source. A plurality of areas each having the openings are defined on the holding surface so that the pressurized fluid is selectively ejectable from the openings in the respective areas.

摘要翻译： 用于抛光诸如半导体晶片的工件的抛光装置具有带有抛光表面的转台和用于保持工件的顶环，并且在第一次压制下将工件压靠在抛光表面上。 抛光装置具有用于供应加压流体的加压流体源和设置在顶环的保持表面中的多个开口，用于喷射从加压流体源供应的加压流体。 每个具有开口的多个区域被限定在保持表面上，使得加压流体可以选择性地从相应区域中的开口排出。

公开(公告)号：US4438107A

公开(公告)日：1984-03-20

申请号：US402812

申请日：1982-07-28

申请人： Isamu Watanabe ,  Takashi Yamaguchi ,  Kazuhiro Kamiya ,  Toshihito Mori ,  Hamao Umezawa ,  Sumio Umezawa ,  Tsutomu Tsuchiya

发明人： Isamu Watanabe ,  Takashi Yamaguchi ,  Kazuhiro Kamiya ,  Toshihito Mori ,  Hamao Umezawa ,  Sumio Umezawa ,  Tsutomu Tsuchiya

IPC分类号： A61K31/70 ,  A61K31/7028 ,  A61K31/7034 ,  A61K31/7036 ,  A61P31/04 ,  C07D303/16 ,  C07H15/224 ,  C07H15/226 ,  C08B37/00

CPC分类号： C07H15/224 ,  C07D303/16 ,  C07H15/226

摘要： An aminoglycoside compound of the following formula ##STR1## wherein one of R.sub.1 and R.sub.2 represents a hydrogen atom and the other, a methyl group, R.sub.3 represents a hydrogen atom or an amino acyl group having 2 to 5 carbon atoms, R.sub.4 represents a lower alkyl group substituted by one or two substituents selected from the class consisting of hydroxy and amino groups, or a hexopyranosyl group whose hydroxy groups may be substituted by amino groups,and a pharmaceutically acceptable acid addition salt thereof; and an antibiotic composition comprising said compound and its pharmaceutically acceptable acid addition salt.

摘要翻译： 下式的氨基糖苷类化合物其中R 1和R 2中的一个表示氢原子，另一个是甲基，R 3表示氢原子或具有2至5个碳原子的氨基酰基，R 4表示 被一个或两个选自羟基和氨基的取代基取代的低级烷基或其羟基可被氨基取代的六吡喃糖基及其药学上可接受的酸加成盐; 以及包含所述化合物及其药学上可接受的酸加成盐的抗生素组合物。

公开(公告)号：US4065616A

公开(公告)日：1977-12-27

申请号：US710949

申请日：1976-08-02

申请人： Hamao Umezawa ,  Sumio Umezawa ,  Tsutomu Tsuchiya ,  Isamu Watanabe

发明人： Hamao Umezawa ,  Sumio Umezawa ,  Tsutomu Tsuchiya ,  Isamu Watanabe

IPC分类号： B01J23/00 ,  B01J25/00 ,  C07B61/00 ,  C07H15/224 ,  C07H15/23 ,  C07H15/22

CPC分类号： C07H15/224 ,  C07H15/23

摘要： This invention relates to new processes for the production of a 1-N-(.alpha.-hydroxy-.omega.-aminoalkanoyl)-3'-deoxy-5-O-pentofuranosylneamine, including 3'-deoxybutirosins A and B, as a semi-synthetic antibiotic. This invention further relates to new and useful semi-synthetic antibiotics which are produced by the above new processes.

摘要翻译： 本发明涉及用于制备1-N-（α-羟基 - ω-氨基烷酰基）-3'-脱氧-5-O-呋喃鸟糖苷的新方法，包括3'-脱氧胆红素A和B作为半合成 抗生素。 本发明还涉及通过上述新方法生产的新的和有用的半合成抗生素。

公开(公告)号：US3956274A

公开(公告)日：1976-05-11

申请号：US448250

申请日：1974-03-05

申请人： Sumio Umezawa ,  Hamao Umezawa ,  Osamu Tsuchiya ,  Isamu Watanabe

发明人： Sumio Umezawa ,  Hamao Umezawa ,  Osamu Tsuchiya ,  Isamu Watanabe

IPC分类号： A61K31/70 ,  A61K31/7028 ,  A61K31/7034 ,  A61K31/7036 ,  A61P31/04 ,  C07H15/232 ,  C07H15/22

CPC分类号： C07H15/232 ,  Y02P20/55

摘要： Lividomycin B derivatives having enhanced antibacterial activity are provided; the 6'-deoxy-6' substituted or unsubstituted amino lividomycins are prepared by masking the functional groups other than the 4' - and 6' -hydroxyl groups, converting the 6' hydroxyl group to an amino group and then removing the remaining protective groups.

摘要翻译： 提供了具有增强的抗菌活性的光霉素B衍生物; 通过掩蔽除4'和6'-羟基以外的官能团，将6'羟基转化为氨基，然后除去剩余的保护基，制备6'-脱氧-6'取代或未取代的氨基亚霉素 。