公开(公告)号：US20090303552A1

公开(公告)日：2009-12-10

申请号：US12476705

申请日：2009-06-02

申请人： Yasuhiro Saito ,  Toshiro Tomono ,  Toshihiko Kitahara ,  Akihiro Sato ,  Rie Aizawa

发明人： Yasuhiro Saito ,  Toshiro Tomono ,  Toshihiko Kitahara ,  Akihiro Sato ,  Rie Aizawa

IPC分类号： H04N1/04

CPC分类号： H04N1/00856 ,  H04N1/00862 ,  H04N1/4446 ,  H04N1/446 ,  H04N2201/0081 ,  H04N2201/0082 ,  H04N2201/0093

摘要： An image forming system including: an image reading portion which reads an image of an original; an image forming portion which forms the image on a sheet based on image information read by the image reading portion; and a storing device which stores the original before the image is read, the original after the image is read, and the sheet on which the image has been formed based on the image information, wherein the storing device is detachable from the image forming system.

摘要翻译： 一种图像形成系统，包括：图像读取部分，其读取原稿的图像; 图像形成部，其基于由图像读取部读取的图像信息，在片材上形成图像; 以及存储装置，其存储在读取图像之前的原稿，读取图像之后的原稿，以及基于图像信息形成有图像的纸张，其中存储装置可从图像形成系统拆卸。

公开(公告)号：US07407889B2

公开(公告)日：2008-08-05

申请号：US10993587

申请日：2004-11-19

申请人： Keiji Tsunetomo ,  Shinya Okamoto ,  Yasuhiro Saito ,  Junji Kurachi ,  Akihiro Koyama ,  Hirotaka Koyo ,  Takeshi Hidaka ,  Hiroaki Kasai ,  Masamichi Hijino ,  Yasushi Nakamura

发明人： Keiji Tsunetomo ,  Shinya Okamoto ,  Yasuhiro Saito ,  Junji Kurachi ,  Akihiro Koyama ,  Hirotaka Koyo ,  Takeshi Hidaka ,  Hiroaki Kasai ,  Masamichi Hijino ,  Yasushi Nakamura

IPC分类号： H01L21/311

CPC分类号： C03C17/001 ,  C03C2217/77 ,  C03C2218/33

摘要： The present invention improves a method of forming a surface unevenness using a difference in etching rates, and relaxes limitations on substrates in this method. In a method of the present invention, an uneven surface is formed by a method including applying pressure to a predetermined region in a surface of a thin film formed on a substrate, and etching a region including at least a portion of the predetermined region and at least a portion of the reminder of the surface that excludes the predetermined region. An etching rate difference within the thin film increases freedom in selecting a substrate material.

摘要翻译： 本发明改进了使用蚀刻速率差异形成表面凹凸的方法，并且在该方法中放宽了对基板的限制。 在本发明的方法中，通过包括对形成在基板上的薄膜的表面中的规定区域施加压力的方法形成凹凸表面，并且蚀刻包含至少一部分预定区域的区域和 排除了预定区域的表面的提醒的至少一部分。 薄膜内的蚀刻速率差增加了选择衬底材料的自由度。

公开(公告)号：US20060218523A1

公开(公告)日：2006-09-28

申请号：US11384320

申请日：2006-03-21

申请人： Tetsu Tatsumi ,  Koki Tao ,  Yasuhiro Saito

发明人： Tetsu Tatsumi ,  Koki Tao ,  Yasuhiro Saito

IPC分类号： G06F9/44

CPC分类号： G06F8/355

摘要： The invention provides a software development support system capable of reflecting the content added by a person to source code in source code generated again, without modifying design information. A generator 41 generates source code in which plural insertion markers are inserted on the basis of design information. An extracting portion 43 extracts code (inserted code) contained in a range specified by each insertion marker in source code. Each extracted inserted code is associated with its identification information and stored into a saving portion 32. When the generator 41 generates source code, a combining portion 44 performs a process of combining inserted code with the relevant source code and outputs the processed source code, wherein the relevant inserted code is included in plural pieces of inserted code stored in the saving portion 32, source code identified by the identification information for the relevant inserted code coincides with the relevant source code and an insertion marker identified by this identification information exists in the relevant source code and coincides with the relevant insertion marker.

摘要翻译： 本发明提供了一种软件开发支持系统，其能够将人们添加的内容反映到源代码中，而不再修改设计信息。 发生器41基于设计信息生成其中插入多个插入标记的源代码。 提取部分43提取包含在源代码中由每个插入标记指定的范围内的代码（插入代码）。 每个提取的插入代码与其识别信息相关联并存储到保存部分32中。 当发生器41产生源代码时，组合部分44执行将插入的代码与相关源代码组合的处理，并输出处理的源代码，其中相关的插入代码被包括在存储在保存部分32中的多个插入代码中 由相关插入代码的识别信息识别的源代码与相关源代码一致，并且由该识别信息识别的插入标记存在于相关源代码中并与相关插入标记一致。

公开(公告)号：US20060111763A1

公开(公告)日：2006-05-25

申请号：US10525856

申请日：2003-08-27

申请人： Tadashi Kokubo ,  Masahiro Hiraoka ,  Masakazu Kawashita ,  Koji Fujita ,  Yasuhiro Saito ,  Shinjiro Domi

发明人： Tadashi Kokubo ,  Masahiro Hiraoka ,  Masakazu Kawashita ,  Koji Fujita ,  Yasuhiro Saito ,  Shinjiro Domi

IPC分类号： A61F7/00 ,  A61F7/12

CPC分类号： A61N1/40 ,  A61N2/02

摘要： Exothermic elements (30) for hyperthermic treatment having, as a main component thereof, ferromagnetic layers (20) coated outside nucleus particles (10). The ferromagnetic layers (20) comprise an oxide having a magnetic domain structure mainly formed of at least one of a single domain and a pseudo-single domain. These exothermic elements for hyperthermic treatment may be manufactured by heating after depositing iron hydroxide on the nucleus particles (10) by a liquid phase process.

摘要翻译： 作为其主要成分的用于高温处理的放热元件（30）具有涂覆在核粒子周围的铁磁层（20）。 铁磁层（20）包括具有主要由单畴和伪单结构域中的至少一个构成的磁畴结构的氧化物。 用于高热处理的这些放热元件可以通过在液相法在核粒子（10）上沉积氢氧化铁之后加热来制造。

公开(公告)号：US06913702B2

公开(公告)日：2005-07-05

申请号：US09949692

申请日：2001-09-10

申请人： Junji Kurachi ,  Kazuishi Mitani ,  Yasuhiro Saito ,  Hiroyuki Inomata

发明人： Junji Kurachi ,  Kazuishi Mitani ,  Yasuhiro Saito ,  Hiroyuki Inomata

IPC分类号： B24B7/24 ,  C03C3/085 ,  C03C15/00 ,  B44C1/22

CPC分类号： C03C19/00 ,  B24B7/24 ,  B24B37/042 ,  C03C3/087 ,  C03C3/091 ,  C03C3/095 ,  C03C15/00 ,  C03C2204/08 ,  Y10S977/856

摘要： There are provided a method of processing an amorphous material which is capable of forming surface projections of uniform height in desired positions on the amorphous material, and a magnetic disk substrate using the amorphous material. A predetermined pressure is applied to parts of a surface of an amorphous material to form high-density compressed layers, and a surface layer of the amorphous material is removed using a treatment agent that has a different removal capacity in the compressed layers and a remaining uncompressed layer, thus making the compressed layers project out. For example, the treatment agent may be an etching solution having a different etching rate in the compressed layers and the uncompressed layer.

摘要翻译： 提供了一种处理非晶材料的方法，该非晶材料能够在非晶材料上的期望位置形成均匀高度的表面突起，以及使用该非晶材料的磁盘基板。 将预定的压力施加到非晶材料的表面的部分以形成高密度压缩层，并且使用在压缩层中具有不同去除能力的处理剂去除非晶材料的表面层，并且剩余的未压缩 层，从而使压缩层投射出来。 例如，处理剂可以是在压缩层和未压缩层中具有不同蚀刻速率的蚀刻溶液。

公开(公告)号：US20050130426A1

公开(公告)日：2005-06-16

申请号：US10993422

申请日：2004-11-19

申请人： Takeshi Hidaka ,  Hiroaki Kasai ,  Masamichi Hijino ,  Yasushi Nakamura ,  Akihiro Koyama ,  Keiji Tsunetomo ,  Junji Kurachi ,  Hirotaka Koyo ,  Shinya Okamoto ,  Yasuhiro Saito

发明人： Takeshi Hidaka ,  Hiroaki Kasai ,  Masamichi Hijino ,  Yasushi Nakamura ,  Akihiro Koyama ,  Keiji Tsunetomo ,  Junji Kurachi ,  Hirotaka Koyo ,  Shinya Okamoto ,  Yasuhiro Saito

IPC分类号： C03C15/00 ,  C03C17/22 ,  C03C17/34 ,  C03C19/00 ,  C03C23/00 ,  G11B5/84 ,  H01L21/44 ,  B65G49/07 ,  H01L21/302 ,  H01L21/461

CPC分类号： C03C23/007 ,  C03C15/00 ,  C03C17/22 ,  C03C17/3411 ,  C03C19/00 ,  C03C2218/31 ,  C03C2218/32 ,  G11B5/7315 ,  G11B5/8404 ,  Y10T428/218 ,  Y10T428/24355

摘要： A processing method for glass substrate of the present invention includes: applying heat and external force to a glass substrate and then cooling it down to thereby form a compression stressed part having a different etching rate from that of other parts with respect to an etching reagent to be used, on the surface of the glass substrate and in the vicinity thereof, and performing chemical etching using the etching reagent on the glass substrate having the compression stressed part formed thereon, so as to form a relief on the surface of the glass substrate.

摘要翻译： 本发明的玻璃基板的加工方法包括：向玻璃基板施加热和外力，然后将其冷却，从而形成与蚀刻剂相对于其它部分的蚀刻速率不同的压缩应力部分， 在玻璃基板的表面及其附近，使用在其上形成有压缩应力部的玻璃基板上的蚀刻剂进行化学蚀刻，以在玻璃基板的表面上形成凸版。

公开(公告)号：US06715318B2

公开(公告)日：2004-04-06

申请号：US09973495

申请日：2001-10-09

申请人： Kazuishi Mitani ,  Yasuhiro Saito ,  Tatsuro Umeyama

发明人： Kazuishi Mitani ,  Yasuhiro Saito ,  Tatsuro Umeyama

IPC分类号： C03C1900

CPC分类号： G11B23/0021 ,  B32B3/02 ,  C03C19/00 ,  G11B5/8404

摘要： There are provided a glass substrate for information recording media in which the undulations on the glass substrate surface are optimized, thus contributing to reduction of the flying height, and at the same time preventing the occurrence of head crashes and thermal asperity, and a method of manufacturing the glass substrate. At least one surface of a glass substrate is polished, and the polished at least one surface of the glass substrate is subjected to surface scrubbing using a sponge having an Asker C hardness of not less than 40 according to The Society of Rubber Industry, Japan SRIS 0101.

摘要翻译： 提供一种用于信息记录介质的玻璃基板，其中玻璃基板表面上的起伏被优化，从而有助于降低飞行高度，并且同时防止头部碰撞和热不均匀的发生，以及一种方法 制造玻璃基板。 抛光玻璃基板的至少一个表面，并且使用Asker C硬度不小于40的海绵对玻璃基板的抛光的至少一个表面进行表面洗涤，根据The Society of Rubber Industry，Japan SRIS 0101。

公开(公告)号：US06568995B1

公开(公告)日：2003-05-27

申请号：US09699339

申请日：2000-10-31

申请人： Kazuishi Mitani ,  Yasuhiro Saito

发明人： Kazuishi Mitani ,  Yasuhiro Saito

IPC分类号： B24B724

CPC分类号： C11D3/042 ,  C11D3/0042 ,  C11D3/14 ,  C11D11/0035

摘要： After a polishing process of polishing a glass substrate with an abrasive containing lanthanoid oxides, the glass substrate is subjected to the first and second washing processes. In the first washing process, the polished substrate is washed with a washing solution containing acid and a reducing agent, wherein the acid includes at least nitric acid. In the second washing process, the washed substrate is treated with an aqueous solution of an alkaline detergent. The substrate is suitable for a recording medium.

摘要翻译： 在用含有镧系元素氧化物的研磨剂对玻璃基板进行抛光处理之后，对玻璃基板进行第一次和第二次洗涤处理。 在第一洗涤过程中，用含酸和还原剂的洗涤溶液洗涤抛光的底物，其中酸至少包含硝酸。 在第二次洗涤过程中，用碱性洗涤剂的水溶液处理洗涤过的底物。 该基片适用于记录介质。

公开(公告)号：US06401006B1

公开(公告)日：2002-06-04

申请号：US09191127

申请日：1998-11-13

申请人： Tohru Mizuno ,  Toshiaki Otsuki ,  Shouichi Sagara ,  Yasuhiro Saito

发明人： Tohru Mizuno ,  Toshiaki Otsuki ,  Shouichi Sagara ,  Yasuhiro Saito

IPC分类号： G05F1900

CPC分类号： G05B19/4103 ,  G05B19/416

摘要： A controller to smoothly change speed of a machining tool to improve machining accuracy and speed of a machine. The controller includes a command analyzing section included in a block structure of software that analyzes a command program and converts it to data appropriate for use in a primary interpolation section. The primary interpolation section performs interpolation calculation in each first sampling period to obtain an interpolation point on a commanded path, and outputs the obtained interpolation point to an intermediate memory. The intermediate memory stores a motion amount for each axis, a feed rate and a block length. An acceleration/deceleration control section performs acceleration/deceleration control based on the data stored in the intermediate memory, and calculates speed in each second sampling period which is shorter than the first sampling period, to output the calculated speed to a secondary interpolation section. The secondary interpolation section defines a smooth curve expressed, for example, by a polynomial based on output from the acceleration/deceleration control section and the data in the intermediate memory, to output an interpolation point on the smooth curve in each second sampling period.

摘要翻译： 控制器可以平滑地改变加工工具的速度，提高机床的加工精度和速度。 控制器包括一个命令分析部分，其包括在分析命令程序的软件的块结构中，并将其转换成适合于在主要插值部分中使用的数据。 主插值部在每个第一采样周期中执行插值计算，以获得指令路径上的内插点，并将获得的插值点输出到中间存储器。 中间存储器存储每个轴的运动量，进给速率和块长度。 加速/减速控制部分基于存储在中间存储器中的数据执行加速/减速控制，并且计算比第一采样周期短的每个第二采样周期中的速度，以将计算出的速度输出到二次插值部分。 二次插值部分定义了例如基于加速/减速控制部分的输出的多项式和中间存储器中的数据表示的平滑曲线，以在每个第二采样周期内在平滑曲线上输出插值点。

公开(公告)号：US06269297B1

公开(公告)日：2001-07-31

申请号：US09580269

申请日：2000-05-26

申请人： Kazushi Hosomi ,  Masashi Takagi ,  Mitsuyoshi Yokokawa ,  Yasuhiro Saito

发明人： Kazushi Hosomi ,  Masashi Takagi ,  Mitsuyoshi Yokokawa ,  Yasuhiro Saito

IPC分类号： G06F700

CPC分类号： B60T8/175 ,  B60K1/00 ,  B60K28/16 ,  B60W2510/0628 ,  B60W2710/0616 ,  B60W2710/0622

摘要： A traction control apparatus for vehicles according to the present invention has a slip state detector for detecting a slip state of a wheel, a parameter determining device for determining a control parameter for generating braking force according to the slip state detected, a control permitting device for permitting traction control, a parameter changer for changing the control parameter so as to decrease the braking force when the control parameter is one to generate the braking force at the wheel over permissible braking force at the start of control, and a traction control for executing the traction control, based on the control parameter. Thus the apparatus can restrain uncomfortableness during the traction control and can prevent large input from entering the power train.

摘要翻译： 根据本发明的用于车辆的牵引力控制装置具有用于检测车轮的滑动状态的滑动状态检测器，用于根据检测到的滑动状态来确定用于产生制动力的控制参数的参数确定装置，用于 允许牵引力控制，用于改变控制参数的参数改变器，以便当控制参数为制动力时减小制动力，以在控制开始时在车轮上产生制动力超过允许的制动力;以及牵引力控制，用于执行牵引力控制 牵引力控制，根据控制参数。 因此，该装置可以在牵引力控制期间抑制不舒服，并且可以防止大的输入进入动力传动系。