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    Fluorine-free heteroaromatic photoacid generators and photoresist compositions containing the same
    54.
    发明授权
    Fluorine-free heteroaromatic photoacid generators and photoresist compositions containing the same 有权
    无氟杂芳族光酸产生剂和含有它的光致抗蚀剂组合物

    公开(公告)号：US08034533B2

    公开(公告)日：2011-10-11

    申请号：US12015047

    申请日：2008-01-16

    申请人： Sen Liu ,  Pushkara R. Varanasi

    发明人： Sen Liu ,  Pushkara R. Varanasi

    IPC分类号： G03F7/028 ,  G03F7/26 ,  C07C309/04 ,  C07C309/06

    CPC分类号： C07D333/32 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

    摘要： Fluorine-free photoacid generators and photoresist compositions containing fluorine-free photoacid generators are enabled as alternatives to PFOS/PFAS photoacid generator-containing photoresists. The photoacid generators are characterized by the presence of a fluorine-free heteroaromatic sulfonate anionic component. The photoacid generators preferably contain an onium cationic component, more preferably a sulfonium cationic component. The photoresist compositions preferably contain an acid sensitive imaging polymer. The compositions are especially useful for forming material patterns using 193 nm (ArF) imaging radiation.

    摘要翻译： 含有无氟光致酸发生剂的无氟光致酸发生剂和光致抗蚀剂组合物可用作具有PFOS / PFAS光致酸产生剂的光致抗蚀剂的替代品。 光酸产生剂的特征在于存在无氟杂芳族磺酸盐阴离子组分。 光酸产生剂优选含有阳离子阳离子成分，更优选含有阳离子成分的锍。 光致抗蚀剂组合物优选含有酸敏感成像聚合物。 组合物对于使用193nm（ArF）成像辐射形成材料图案特别有用。