公开(公告)号：US20060190131A1

公开(公告)日：2006-08-24

申请号：US11061134

申请日：2005-02-18

申请人： Roland Menassa ,  James Wells

发明人： Roland Menassa ,  James Wells

IPC分类号： G06F19/00

CPC分类号： G05B19/41865 ,  G05B2219/32258 ,  G05B2219/32267 ,  G05B2219/32306 ,  G06F9/445 ,  Y02P90/087 ,  Y02P90/20

摘要： A system, method and apparatus for resource reallocation based on ambient condition data is disclosed herein. The system includes a planning module (102) for configuring plan data to include a primary sequence and an auxiliary sequence, a rule table (116) for storing the auxiliary sequence, an ambient condition receiver (124) for receiving the ambient condition data, and a routing processor (126) for accessing the rule table (116) to allocate an auxiliary sequence in place of a primary sequence in the event that particular ambient data is received.

摘要翻译： 本文公开了一种基于环境条件数据进行资源再分配的系统，方法和装置。 该系统包括用于配置计划数据以包括主序列和辅助序列的规划模块（102），用于存储辅助序列的规则表（116），用于接收环境条件数据的环境条件接收器（124），以及 用于在接收到特定环境数据的情况下，访问规则表（116）以分配辅助序列来代替主要序列的路由处理器（126）。

公开(公告)号：US06757577B1

公开(公告)日：2004-06-29

申请号：US09635481

申请日：2000-08-08

申请人： Bo-Chan Jeng ,  Wei-Shan Mao ,  Po-Win Cheng

发明人： Bo-Chan Jeng ,  Wei-Shan Mao ,  Po-Win Cheng

IPC分类号： G06F1900

CPC分类号： G05B19/41865 ,  G05B2219/32258 ,  G05B2219/32293 ,  Y02P90/20

摘要： A system and a method for managing a work-in-process (WIP) workload within a fabrication facility employ sequential processing of the work-in-process (WIP) workload within one each of a minimum of one pre-process tool, a minimum of one buffer tool and a minimum of one post-process tool. A buffer tool tolerance time is calculated predicated upon an available work-in-process (WIP) pre-process rate, an available work-in-process (WIP) buffer capacity and an available work-in-process (WIP) post process rate. The work-in-process (WIP) workload may thus be optimally processed in accord with the buffer tool tolerance time.

摘要翻译： 用于管理制造设备内的在制品（WIP）工作负载的系统和方法使用至少一个预处理工具中的每一个中的工作在制品（WIP）工作量的顺序处理，最小 一个缓冲工具和至少一个后处理工具。 缓冲区工具容忍时间是根据可用的在制品（WIP）预处理速率，可用的在制品（WIP）缓冲容量和可用的在制品（WIP）后处理率计算的。 。 因此，在制品（WIP）工作量可以根据缓冲刀具的公差时间进行最佳的处理。

公开(公告)号：US20040093251A1

公开(公告)日：2004-05-13

申请号：US10640438

申请日：2003-08-13

发明人： James Heskin ,  Mark Shepheard ,  Julia Lafoy

IPC分类号： G06F017/60

CPC分类号： G06Q10/04 ,  G05B19/41865 ,  G05B2219/32258 ,  G05B2219/32263 ,  G06Q10/0631 ,  G06Q10/087 ,  G06Q20/203 ,  Y02P90/20

摘要： Photolithography operation in a wafer fab using relative weightings of work in progress to iteratively schedule wafers.

摘要翻译： 在晶片制造厂中使用相对重量的工作进行光刻操作以迭代地调度晶片。

公开(公告)号：US06725113B1

公开(公告)日：2004-04-20

申请号：US10133113

申请日：2002-04-26

申请人： Larry D. Barto ,  Steven C. Nettles ,  Yiwei Li

发明人： Larry D. Barto ,  Steven C. Nettles ,  Yiwei Li

IPC分类号： G06F1900

CPC分类号： H01L21/67276 ,  G05B19/41865 ,  G05B2219/32258 ,  G05B2219/32272 ,  Y02P90/20 ,  Y02P90/86

摘要： A system and method are provided for calculating a plurality of bottleneck delta virtual work in process time (“VWIP”) values. Each of the bottleneck delta VWIP values represents the time until one of n bottleneck workstations begins to risk starvation. The calculating includes deriving one or more baseline cycle times based on an X-factors method.

摘要翻译： 提供了一种用于计算处理时间（“VWIP”）值中的多个瓶颈增量虚拟工作的系统和方法。 瓶颈增量VWIP值中的每一个都代表了一个瓶颈瓶颈工作站开始出现饥饿的时间。 计算包括基于X因子方法导出一个或多个基线周期时间。

公开(公告)号：US06529792B1

公开(公告)日：2003-03-04

申请号：US09576228

申请日：2000-05-22

申请人： Yasuhiro Sato ,  Masaki Otani ,  Takamasa Inobe ,  Katsuya Ota ,  Yasuhiro Marume ,  Ryuji Takechi ,  Kenji Sakaguchi ,  Toshiyuki Watanabe

发明人： Yasuhiro Sato ,  Masaki Otani ,  Takamasa Inobe ,  Katsuya Ota ,  Yasuhiro Marume ,  Ryuji Takechi ,  Kenji Sakaguchi ,  Toshiyuki Watanabe

IPC分类号： G06F1900

CPC分类号： G05B19/41865 ,  G05B2219/32258 ,  G05B2219/32315 ,  Y02P90/10 ,  Y02P90/20 ,  Y02P90/86

摘要： A process selection system and method enable the automatic control of the specification to equipment most suitable for each lot. Processing using this specific equipment can be performed by further selecting the most suitable equipment from equipment used for the product type. Since a plurality of equipment can be specified for each lot, the equipment can be specified from an equipment group having these plurality of equipment. The adequate number of products in process for each equipment-specific process equipment id can be calculated based on the distribution percentage ri. The equipment-specific process equipment having the maximum value of the differential Gi between the adequate number of products in process ni and the collected actual number of products in process can be determined as the equipment-specific process equipment for the lot.

摘要翻译： 过程选择系统和方法能够将规范自动控制到最适合每批的设备。 使用该特定设备的处理可以通过从用于产品类型的设备中进一步选择最合适的设备来执行。 由于可以为每个批次指定多个设备，所以可以从具有这些多个设备的设备组指定设备。 对于每个设备特定的过程设备ID，正在处理的足够数量的产品可以基于分配百分比ri来计算。 具有过程ni中的足够数量的产品之间的差分Gi的最大值的设备特定的过程设备可以被确定为该批次的设备特定的处理设备。

公开(公告)号：US06221538B1

公开(公告)日：2001-04-24

申请号：US09033049

申请日：1998-03-02

申请人： David Kerszykowski ,  Robert Dwayne Colclasure, Jr. ,  John Michael Garbayo ,  Raymond Leo Miller, Jr.

发明人： David Kerszykowski ,  Robert Dwayne Colclasure, Jr. ,  John Michael Garbayo ,  Raymond Leo Miller, Jr.

IPC分类号： G03F900

CPC分类号： G05B19/41865 ,  G03F1/00 ,  G05B2219/32258 ,  G05B2219/32283 ,  G05B2219/32298 ,  G05B2219/32315

摘要： A computer system (10) and method for automating manufacture of a photomask. The computer system (10) has a product database (21) that stores information used to manufacture the photomask. In addition, a semiconductor device is manufactured using the information stored in the product database (21). The information is transmitted to the product database (21) from semiconductor satellite systems such as a fabrication facility (14), a first mask shop (12), and a second mask shop (13). The computer system (10) chooses a mask shop for producing the photomask by using the information transmitted form the first mask shop (12) and the second mask shop (13).

摘要翻译： 一种用于自动制造光掩模的计算机系统（10）和方法。 计算机系统（10）具有存储用于制造光掩模的信息的产品数据库（21）。 此外，使用存储在产品数据库（21）中的信息制造半导体器件。 该信息从诸如制造设备（14），第一掩模车间（12）和第二掩模车间（13）的半导体卫星系统传送到产品数据库（21）。 计算机系统（10）通过使用从第一掩模车间（12）和第二掩模车间（13）传送的信息来选择制造光掩模的掩模车间。