公开(公告)号：US6106378A

公开(公告)日：2000-08-22

申请号：US368396

申请日：1999-08-04

申请人： Iiya Perlov ,  Eugene Gantvarg ,  Sen-Hou Ko

发明人： Iiya Perlov ,  Eugene Gantvarg ,  Sen-Hou Ko

IPC分类号： B24B37/27 ,  B24B37/04 ,  B24B37/30 ,  B24B37/32 ,  B24B47/10 ,  B24B47/12 ,  B24B49/16 ,  H01L21/304 ,  B24B29/00

CPC分类号： B24B37/30 ,  B24B37/32 ,  B24B47/10 ,  B24B47/12 ,  B24B49/16

摘要： A carrier head with a flexible member connected to a base to define a first chamber, a second chamber and a third chamber. A lower surface of the flexible member provides a substrate receiving surface with an inner portion associated with the first chamber, a substantially annular middle portion surrounding the inner portion and associated with the second chamber, and a substantially annular outer portion surrounding the middle portion and associated with the third chamber. The width of the outer portion may be significantly less than the width of the middle portion. The carrier head may also includea flange connected to a drive shaft and a gimbal pivotally connecting the flange to the base.

摘要翻译： 具有连接到基座以限定第一室，第二室和第三室的柔性构件的承载头。 柔性构件的下表面提供了具有与第一腔室相关联的内部部分的基底接收表面，围绕内部部分并与第二腔室相关联的基本上环形的中间部分，以及包围中部部分和相关联的基本上环形的外部部分 与第三个房间。 外部部分的宽度可以明显小于中间部分的宽度。 承载头还可以包括连接到驱动轴的凸缘和将凸缘枢转地连接到基座的万向架。

公开(公告)号：US5938507A

公开(公告)日：1999-08-17

申请号：US549480

申请日：1995-10-27

申请人： Sen-Hou Ko ,  Richard V. Rafloski ,  James C. Nystrom ,  John Prince ,  Alfred A. Goldspiel ,  Stephen J. Blumenkranz ,  Manoocher Birang

发明人： Sen-Hou Ko ,  Richard V. Rafloski ,  James C. Nystrom ,  John Prince ,  Alfred A. Goldspiel ,  Stephen J. Blumenkranz ,  Manoocher Birang

IPC分类号： B24B53/017 ,  H01L21/304 ,  B24B21/18

CPC分类号： B24B53/017

摘要： A conditioner apparatus uses one or more linear conditioners. The linear conditioners extend from the edge of the polishing pad almost to the center of the pad. The conditioner apparatus may use two conditioner rods located on either side of a radial segment. The rods gimbal so that if one rod rises, the other rod is forced downwardly. In addition, the rods can pivot independently about a lateral axis, but they cannot pivot around the vertical axis. The linear conditioners may be actuated by a piezoelectric member or swept by an arm toward and away from the center of the polishing pad.

摘要翻译： 调节装置使用一个或多个线性调节器。 线性调节器从抛光垫的边缘几乎延伸到垫的中心。 调理装置可以使用位于径向段两侧的两个调节杆。 杆状万向节，如果一根杆上升，另一根杆被迫向下。 此外，杆可以围绕横向轴线独立地枢转，但是它们不能围绕垂直轴线枢转。 线性调节器可以由压电元件驱动，或者由臂朝着抛光垫的中心或远离抛光垫的中心扫动。

公开(公告)号：US5795215A

公开(公告)日：1998-08-18

申请号：US667221

申请日：1996-06-19

申请人： William L. Guthrie ,  Tsungnan Cheng ,  Sen-Hou Ko ,  Harry Q. Lee ,  Michael T. Sherwood ,  Norm Shendon

发明人： William L. Guthrie ,  Tsungnan Cheng ,  Sen-Hou Ko ,  Harry Q. Lee ,  Michael T. Sherwood ,  Norm Shendon

IPC分类号： B24B5/00

CPC分类号： B24B5/00

摘要： A process using a retaining ring assembly of a carrier head to precompress a polishing pad to reduce or minimize the edge effect in a chemical mechanical polishing process.

摘要翻译： 使用载体头的保持环组件来预压缩抛光垫以减少或最小化化学机械抛光工艺中的边缘效应的方法。