公开(公告)号：US5633595A

公开(公告)日：1997-05-27

申请号：US418418

申请日：1995-04-07

申请人： Koshi Ueda ,  Akira Goishi ,  Masayuki Kuribara

发明人： Koshi Ueda ,  Akira Goishi ,  Masayuki Kuribara

IPC分类号： G01Q30/02 ,  G01Q30/04 ,  G01Q60/30 ,  G01R31/307 ,  G01R31/305

CPC分类号： G01R31/307

摘要： A stop pattern setting part 203 is provided which permits setting therein a plurality of patterns for stopping the test pattern updating operation of a test pattern generator 210, and upon each generation of the test patterns set in the stop pattern setting part 203, the test pattern generator 210 is stopped from the pattern updating operation. Each time the test pattern stops, a stop signal is applied to an electron beam probe system 300, causing it to start an image data acquiring operation. Upon completion of the image data acquisition, a write completion signal generating part 308 generates a write completion signal, which is applied to the test pattern generator 210 to cause it to resume the pattern updating operation. By applying different test patterns to a device under test alternately with each other and displaying image data of the difference between resulting pieces of image data, a potential contrast image can be improved.

摘要翻译： 提供了一种停止模式设置部件203，其允许在其中设置用于停止测试图案生成器210的测试图案更新操作的多个模式，并且在每次生成设置在停止模式设置部件203中的测试图案时，测试模式 发生器210停止模式更新操作。 每次测试模式停止时，停止信号被施加到电子束探测器系统300，使其开始图像数据获取操作。 在图像数据获取完成时，写入完成信号生成部件308生成写入完成信号，该写入完成信号被施加到测试图案生成器210，使其恢复图案更新操作。 通过将不同的测试图案交替地应用于被测设备，并且显示所得到的图像数据之间的差异的图像数据，可以提高潜在的对比度图像。

公开(公告)号：US5589780A

公开(公告)日：1996-12-31

申请号：US312953

申请日：1994-09-30

申请人： Koshi Ueda ,  Akira Goishi ,  Masayuki Kuribara

发明人： Koshi Ueda ,  Akira Goishi ,  Masayuki Kuribara

IPC分类号： G01Q30/02 ,  G01Q30/04 ,  G01Q60/30 ,  G01R31/307 ,  G01R31/305

CPC分类号： G01R31/307

摘要： A stop pattern setting part 203 is provided which permits setting therein a plurality of patterns for stopping the test pattern updating operation of a test pattern generator 210, and upon each generation of the test patters set in the stop pattern setting part 203, the test pattern generator 210 is stopped from the pattern updating operation. Each time the test pattern stops, a stop signal is applied to an electron beam probe system 300, causing it to start an image data acquiring operation. Upon completion of the image data acquisition, a write completion signal generating part 308 generates a write completion signal, which is applied to the test pattern generator 210 to cause it to resume the pattern updating operation. By applying different test patterns to a device under test alternately with each other and displaying image data of the difference between resulting pieces of image data, a potential contrast image can be improved.

摘要翻译： 提供了一种停止模式设置部分203，其允许在其中设置用于停止测试图案生成器210的测试图案更新操作的多个模式，并且在每次生成设置在停止模式设置部分203中的测试模式时，测试模式 发生器210停止模式更新操作。 每次测试模式停止时，停止信号被施加到电子束探测器系统300，使其开始图像数据获取操作。 在图像数据获取完成时，写入完成信号生成部件308生成写入完成信号，该写入完成信号被施加到测试图案生成器210，使其恢复图案更新操作。 通过将不同的测试图案交替地应用于被测设备，并且显示所得到的图像数据之间的差异的图像数据，可以提高潜在的对比度图像。

公开(公告)号：US5640539A

公开(公告)日：1997-06-17

申请号：US309750

申请日：1994-09-21

申请人： Akira Goishi ,  Masayuki Kurihara ,  Koshi Ueda

发明人： Akira Goishi ,  Masayuki Kurihara ,  Koshi Ueda

IPC分类号： G01Q30/00 ,  G01R31/307 ,  G06F17/00 ,  G21K1/08 ,  H01J37/304

CPC分类号： G01R31/307

摘要： The object of the invention is to provide an IC analysis system having a charged particle beam apparatus in which the operability and picture quality have been enhanced and the measurement method of a device under test. In the IC analysis system, stop signal generating means in which the stop signal stimulates the acquisition of image data is added to a test pattern generator and acquisition completion signal generating means which releases the stopping state on completing the acquisition of image data and which resumes the test pattern updating operation is added to the charged particle beam apparatus. Furthermore, by adding mode select means to the charged particle beam apparatus, a clearer potential contrast image can be obtained. The methods for locating fault positions can be realized in the IC analysis system having the charged particle beam apparatus wherein the image data can be obtained by alternate test patterns, or by adding one image data to the reverse potential of another image data, or by scanning and irradiating the charged particle beam onto the same surface of the device at a plurality of times.

摘要翻译： 本发明的目的是提供一种具有带电粒子束装置的IC分析系统，其中可操作性和图像质量得到提高，并且被测装置的测量方法。 在IC分析系统中，停止信号刺激图像数据的获取的停止信号产生装置被添加到测试图案发生器和获取完成信号产生装置，在完成图像数据的获取时释放停止状态，并且恢复 将测试图案更新操作添加到带电粒子束装置中。 此外，通过向带电粒子束装置添加模式选择装置，可以获得更清晰的电位对比图像。 用于定位故障位置的方法可以在具有带电粒子束装置的IC分析系统中实现，其中可以通过替代测试图案获得图像数据，或者通过将一个图像数据添加到另一图像数据的反向电位，或通过扫描 并且多次将带电粒子束照射到装置的相同表面上。

公开(公告)号：US5592099A

公开(公告)日：1997-01-07

申请号：US418498

申请日：1995-04-07

申请人： Masayuki Kuribara ,  Akira Goishi ,  Koshi Ueda

发明人： Masayuki Kuribara ,  Akira Goishi ,  Koshi Ueda

IPC分类号： G01R31/302 ,  G01R31/303 ,  H01L21/66 ,  G01R31/28

CPC分类号： G01R31/303

摘要： An IC test system analyzes a defective part in the inside of an IC chip. The IC test system irradiates an ion beam on the surface of the IC under test and displays a potential contrast image of wiring conductors under the surface of the IC device. The IC test system has improved operability and image quality as well as a capability of specifying a defective part of the IC under test. A stop pattern setting part is provided for setting a plurality of patterns to suspend a renewal operation of pattern generation in a test pattern generator. Whenever this stop pattern occurs, a pattern renewal action of the test pattern generator is stopped and repeatedly generates the stop pattern while an ion beam tester acquires image data. When the acquisition of the image data completes, the test pattern generator resumes the pattern renewal action. Different test patterns are alternatively applied to the IC under test and the resulting image data is either added or subtracted to improve an image quality. By further controlling on and off of a power source to the IC under test, the potential contrast image can be obtained with further certainty.

摘要翻译： IC测试系统分析IC芯片内部的故障部分。 IC测试系统在测试的IC的表面上照射离子束，并且在IC器件的表面下显示布线导体的潜在对比图像。 IC测试系统具有改进的可操作性和图像质量，以及指定被测IC的缺陷部分的能力。 提供了一种停止模式设置部分，用于设置多个模式以暂停测试模式生成器中的模式生成的更新操作。 无论何时发生该停止模式，停止测试图形发生器的图案更新动作，并且在离子束测试器获取图像数据的同时重复地产生停止模式。 当图像数据的获取完成时，测试图案生成器恢复图案更新动作。 将不同的测试图案替代地应用于被测试的IC，并且所得到的图像数据被添加或减去以提高图像质量。 通过进一步控制对被测IC的电源的开和关，可以进一步确定地获得潜在的对比度图像。

公开(公告)号：US5640098A

公开(公告)日：1997-06-17

申请号：US593549

申请日：1996-01-30

申请人： Hironobu Niijima ,  Hiroshi Kawamoto ,  Akira Goishi ,  Masayuki Kurihara ,  Toshimichi Iwai

发明人： Hironobu Niijima ,  Hiroshi Kawamoto ,  Akira Goishi ,  Masayuki Kurihara ,  Toshimichi Iwai

IPC分类号： G01R31/307 ,  G01R31/319 ,  G01R31/305

CPC分类号： G01R31/307 ,  G01R31/31912

摘要： An IC fault analysis system which is capable of accurately correlating mask layout data and/or net listing data associated with CAD (computer aided design) data developed in the IC design and an image obtained by a non-contact type tester such as an electron beam tester. The IC fault analysis system includes a circuit diagram display for showing a circuit diagram of the IC device under test based on the CAD data, a mask layout display for showing a mask layout of the IC device under test based on the CAD data, a contrast image display for showing a potential distribution of the IC device under test obtained in the non-contact type tester, an input means connected to the circuit diagram display for specifying a circuit component of the IC device under test, a comparison means for comparing the circuit diagram of the circuit component defined by the input means and contrast image corresponding to the circuit component, and a comparison data memory for storing the comparison data of the comparison means and providing the comparison data to the contrast image display.

摘要翻译： 一种IC故障分析系统，其能够精确地将与IC设计中开发的CAD（计算机辅助设计）数据相关联的掩模布局数据和/或净列表数据相关联，以及由诸如电子束之类的非接触型测试仪获得的图像 测试仪 IC故障分析系统包括用于示出基于CAD数据的被测IC器件的电路图的电路图显示，用于显示基于CAD数据的被测IC器件的掩模布局的掩模布局显示，对比度 用于示出在非接触型测试仪中获得的被测IC器件的电位分布的图像显示器，连接到用于指定被测IC器件的电路部件的电路图显示器的输入装置，用于比较电路 由对应于电路部件的输入装置和对比度图像定义的电路部件的图表，以及用于存储比较装置的比较数据并将比较数据提供给对比度图像显示的比较数据存储器。

公开(公告)号：US5528156A

公开(公告)日：1996-06-18

申请号：US181584

申请日：1994-01-14

申请人： Koshi Ueda ,  Akira Goishi ,  Masayuki Kuribara

发明人： Koshi Ueda ,  Akira Goishi ,  Masayuki Kuribara

IPC分类号： G01Q30/02 ,  G01Q30/04 ,  G01Q60/30 ,  G01R31/307 ,  G01R31/305

CPC分类号： G01R31/307

摘要： A stop pattern setting part 203 is provided which permits setting therein a plurality of patterns for stopping the test pattern updating operation of a test pattern generator 210, and upon each generation of the test patterns set in the stop pattern setting part 203, the test pattern generator 210 is stopped from the pattern updating operation. Each time the test pattern stops, a stop signal is applied to an electron beam probe system 300, causing it to start an image data acquiring operation. Upon completion of the image data acquisition, a write completion signal generating part 308 generates a write completion signal, which is applied to the test pattern generator 210 to cause it to resume the pa-tern updating operation. By applying different test patterns to a device under test alternately with each other and displaying image data of the difference between resulting pieces of image data, a potential contrast image can be improved.

摘要翻译： 提供了一种停止模式设置部件203，其允许在其中设置用于停止测试图案生成器210的测试图案更新操作的多个模式，并且在每次生成设置在停止模式设置部件203中的测试图案时，测试模式 发生器210停止模式更新操作。 每次测试模式停止时，停止信号被施加到电子束探测器系统300，使其开始图像数据获取操作。 在完成图像数据采集之后，写入完成信号产生部件308产生写入完成信号，该写入完成信号被施加到测试图案发生器210，以使其恢复当前更新操作。 通过将不同的测试图案交替地应用于被测设备，并且显示所得到的图像数据之间的差异的图像数据，可以提高潜在的对比度图像。