公开(公告)号：US20050164098A1

公开(公告)日：2005-07-28

申请号：US10765531

申请日：2004-01-27

Applicant: Burn Lin ,  Ping Yang ,  Hong Hsieh ,  Yao Ku ,  Chin-Hsiang Lin ,  Chiu Yoo

Inventor： Burn Lin ,  Ping Yang ,  Hong Hsieh ,  Yao Ku ,  Chin-Hsiang Lin ,  Chiu Yoo

IPC: G03C5/00 ,  G03F1/00 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/00

CPC classification number: G03F7/70425 ,  G03F1/72 ,  G03F1/76 ,  G03F1/84 ,  G03F7/70383 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7011 ,  G03F9/7046 ,  G03F9/7049

Abstract: A method and system is disclosed for processing one or more oblique features on a mask or reticle substrate. After aligning the mask or reticle substrate with a predetermined reference system, an offset angle of a feature to be processed on the mask or reticle substrate with regard to either the horizontal or vertical reference direction of the predetermined reference system is determined. The mask or reticle substrate is rotated in a predetermined direction by the offset angle; and the feature on the mask or reticle substrate is processed using the predetermined reference system wherein the feature is processed in either the horizontal or vertical reference direction thereof.

Abstract translation: 公开了一种用于处理掩模或掩模版基板上的一个或多个倾斜特征的方法和系统。 在掩模或掩模版基板与预定的参考系统对准之后，确定相对于预定参考系的水平或垂直参考方向在掩模或掩模版基板上要处理的特征的偏移角。 掩模或掩模版基板沿预定方向旋转偏移角; 并且使用预定的参考系统处理掩模或掩模版基板上的特征，其中特征在水平或垂直参考方向上被处理。