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    NOVEL COMPOUND
    2.
    发明申请
    NOVEL COMPOUND 审中-公开
    新型化合物

    公开(公告)号：US20140221649A1

    公开(公告)日：2014-08-07

    申请号：US14127907

    申请日：2012-06-15

    申请人： Dai Shiota ,  Mayumi Kuroko ,  Kunihiro Noda ,  Yoshinori Tadokoro ,  Yasuyuki Akai ,  Hideyuki Takai

    发明人： Dai Shiota ,  Mayumi Kuroko ,  Kunihiro Noda ,  Yoshinori Tadokoro ,  Yasuyuki Akai ,  Hideyuki Takai

    IPC分类号： G03F7/085

    CPC分类号： G03F7/085 ,  C07C231/02 ,  C07C235/34 ,  C07C235/38 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/031

    摘要： A novel compound suitable for obtaining a negative-type photosensitive resin composition capable of forming a pattern having favorable adhesiveness at a low light exposure. The compound is represented by the following formula (1). In the formula, R1 and R2 each independently indicate a hydrogen atom or an organic group, but at least one indicates an organic group. R1 and R2 may be bonded to form a ring structure and may contain a hetero atom bond. R3 indicates a single bond or an organic group. R4 to R9 each independently indicate a hydrogen atom, an organic group, etc., but R6 and R7 are never hydroxyl groups. R10 indicates a hydrogen atom or an organic group.

    摘要翻译： 一种适用于获得能够在低光照下形成具有良好粘合性的图案的负型感光性树脂组合物的新型化合物。 该化合物由下式（1）表示。 在该式中，R 1和R 2各自独立地表示氢原子或有机基团，但至少一个表示有机基团。 R 1和R 2可以键合形成环结构并且可以含有杂原子键。 R3表示单键或有机基团。 R4至R9各自独立地表示氢原子，有机基团等，但R6和R7不为羟基。 R 10表示氢原子或有机基团。

    NEGATIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, CURED FILM, INSULATING FILM, COLOR FILTER, AND DISPLAY DEVICE
    3.
    发明申请
    NEGATIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, CURED FILM, INSULATING FILM, COLOR FILTER, AND DISPLAY DEVICE 有权
    负型型感光树脂组合物，图案形成方法，固化膜，绝缘膜，彩色滤光片和显示装置

    公开(公告)号：US20140231729A1

    公开(公告)日：2014-08-21

    申请号：US14127868

    申请日：2012-06-15

    申请人： Dai Shiota ,  Mayumi Kuroko ,  Kunihiro Noda ,  Yoshinori Tadokoro

    发明人： Dai Shiota ,  Mayumi Kuroko ,  Kunihiro Noda ,  Yoshinori Tadokoro

    IPC分类号： G03F7/027

    CPC分类号： G03F7/027 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C09B23/143 ,  G02B5/223 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/032 ,  G03F7/033 ,  G03F7/035 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/085 ,  G03F7/105

    摘要： A negative-type photosensitive resin composition capable of forming a pattern having favorable adhesiveness at a low light exposure; a pattern forming method using the resin composition; a cured film, an insulating film, a color filter formed using resin composition; and a display device provided with the cured film, insulating film, or color filter. The resin composition contains a compound represented by the following formula (1). In the formula, R1 and R2 each independently indicate a hydrogen atom or an organic group, but at least one indicates an organic group. R1 and R2 may be bonded to form a ring structure and may contain a hetero atom bond. R3 indicates a single bond or an organic group. R4 to R9 each independently indicate a hydrogen atom, an organic group, etc., but R6 and R7 are never hydroxyl groups. R10 indicates a hydrogen atom or an organic group.

    摘要翻译： 一种能够在低曝光下形成具有良好粘附性的图案的负型感光性树脂组合物; 使用该树脂组合物的图案形成方法; 固化膜，绝缘膜，使用树脂组合物形成的滤色器; 以及设置有固化膜，绝缘膜或滤色器的显示装置。 树脂组合物含有下述式（1）表示的化合物。 在该式中，R 1和R 2各自独立地表示氢原子或有机基团，但至少一个表示有机基团。 R 1和R 2可以键合形成环结构并且可以含有杂原子键。 R3表示单键或有机基团。 R4至R9各自独立地表示氢原子，有机基团等，但R6和R7不为羟基。 R 10表示氢原子或有机基团。