公开(公告)号：US20110290651A1

公开(公告)日：2011-12-01

申请号：US13117866

申请日：2011-05-27

申请人： Alan C. Lund ,  Nazila Dadvand ,  John Cahalen ,  Daniel J. Montville

发明人： Alan C. Lund ,  Nazila Dadvand ,  John Cahalen ,  Daniel J. Montville

IPC分类号： C25D21/00

CPC分类号： C25D3/56 ,  C25D3/562 ,  C25D21/12 ,  G01N31/22 ,  Y10T436/203332 ,  Y10T436/216

摘要： Electrodeposition baths, systems and methods are provided. In some embodiments, the baths, systems and methods are used to deposit metal alloy coatings.

摘要翻译： 提供电沉积浴，系统和方法。 在一些实施例中，浴，系统和方法用于沉积金属合金涂层。

公开(公告)号：US20130153430A1

公开(公告)日：2013-06-20

申请号：US13616496

申请日：2012-09-14

申请人： Alan C. Lund ,  Nazila Dadvand ,  John Cahalen ,  Daniel J. Montville

发明人： Alan C. Lund ,  Nazila Dadvand ,  John Cahalen ,  Daniel J. Montville

IPC分类号： C25D3/56

CPC分类号： C25D3/56 ,  C25D3/562 ,  C25D21/12 ,  G01N31/22 ,  Y10T436/203332 ,  Y10T436/216

摘要： Electrodeposition baths, systems and methods are provided. In some embodiments, the baths, systems and methods are used to deposit metal alloy coatings.

摘要翻译： 提供电沉积浴，系统和方法。 在一些实施例中，浴，系统和方法用于沉积金属合金涂层。

公开(公告)号：US20120043213A1

公开(公告)日：2012-02-23

申请号：US13283870

申请日：2011-10-28

申请人： Alan C. Lund ,  Nazila Dadvand ,  John Cahalen ,  Daniel J. Montville

发明人： Alan C. Lund ,  Nazila Dadvand ,  John Cahalen ,  Daniel J. Montville

IPC分类号： C25D21/00 ,  C25D3/54

CPC分类号： C25D3/56 ,  C25D3/562 ,  C25D21/12 ,  G01N31/22 ,  Y10T436/203332 ,  Y10T436/216

摘要： Electrodeposition baths, systems and methods are provided. In some embodiments, the baths, systems and methods are used to deposit metal alloy coatings.

摘要翻译： 提供电沉积浴，系统和方法。 在一些实施例中，浴，系统和方法用于沉积金属合金涂层。

公开(公告)号：US20100120159A1

公开(公告)日：2010-05-13

申请号：US12267010

申请日：2008-11-07

申请人： Alan C. Lund ,  Nazila Dadvand ,  John Cahalen ,  Daniel J. Montville

发明人： Alan C. Lund ,  Nazila Dadvand ,  John Cahalen ,  Daniel J. Montville

IPC分类号： G01N33/20

CPC分类号： C25D3/56 ,  C25D3/562 ,  C25D21/12 ,  G01N31/22 ,  Y10T436/203332 ,  Y10T436/216

摘要： Electrodeposition baths, systems and methods are provided. In some embodiments, the baths, systems and methods are used to deposit metal alloy coatings.

摘要翻译： 提供电沉积浴，系统和方法。 在一些实施例中，浴，系统和方法用于沉积金属合金涂层。

公开(公告)号：US09631293B2

公开(公告)日：2017-04-25

申请号：US13283870

申请日：2011-10-28

申请人： Alan C. Lund ,  Nazila Dadvand ,  John Cahalen ,  Daniel J. Montville

发明人： Alan C. Lund ,  Nazila Dadvand ,  John Cahalen ,  Daniel J. Montville

IPC分类号： C25D21/00 ,  C25D3/54 ,  C25D3/56 ,  C25D21/12 ,  G01N31/22

CPC分类号： C25D3/56 ,  C25D3/562 ,  C25D21/12 ,  G01N31/22 ,  Y10T436/203332 ,  Y10T436/216

摘要： Electrodeposition baths, systems and methods are provided. In some embodiments, the baths, systems and methods are used to deposit metal alloy coatings.

公开(公告)号：US08071387B1

公开(公告)日：2011-12-06

申请号：US13117866

申请日：2011-05-27

申请人： Alan C. Lund ,  Nazila Dadvand ,  John Cahalen ,  Daniel J. Montville

发明人： Alan C. Lund ,  Nazila Dadvand ,  John Cahalen ,  Daniel J. Montville

IPC分类号： G01N33/20

CPC分类号： C25D3/56 ,  C25D3/562 ,  C25D21/12 ,  G01N31/22 ,  Y10T436/203332 ,  Y10T436/216

摘要： Electrodeposition baths, systems and methods are provided. In some embodiments, the baths, systems and methods are used to deposit metal alloy coatings.

摘要翻译： 提供电沉积浴，系统和方法。 在一些实施例中，浴，系统和方法用于沉积金属合金涂层。

公开(公告)号：US07951600B2

公开(公告)日：2011-05-31

申请号：US12267010

申请日：2008-11-07

申请人： Alan C. Lund ,  Nazila Dadvand ,  John Cahalen ,  Daniel J. Montville

发明人： Alan C. Lund ,  Nazila Dadvand ,  John Cahalen ,  Daniel J. Montville

IPC分类号： G01N33/20

CPC分类号： C25D3/56 ,  C25D3/562 ,  C25D21/12 ,  G01N31/22 ,  Y10T436/203332 ,  Y10T436/216

摘要： Electrodeposition baths, systems and methods are provided. In some embodiments, the baths, systems and methods are used to deposit metal alloy coatings.