公开(公告)号：US09063439B2

公开(公告)日：2015-06-23

申请号：US12624993

申请日：2009-11-24

申请人： Aksel Goehnermeier ,  Daniel Kraehmer ,  Vladimir Kamenov ,  Michael Totzeck

发明人： Aksel Goehnermeier ,  Daniel Kraehmer ,  Vladimir Kamenov ,  Michael Totzeck

IPC分类号： G03B27/68 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70958 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/70941

摘要： A projection objective for applications in microlithography, a microlithography projection exposure apparatus with a projection objective, a microlithographic manufacturing method for microstructured components, and a component manufactured using such a manufacturing method are disclosed. The projection objective includes an optical component configured so that, during use of the projection objective, the optical component generates a stray light component in the exposure field of the projection objective which adapts a parameter of the projection objective to a parameter of a second projection objective. The parameter is the stray light component at the exposure field of the projection objective and/or a variation of the stray light component at the exposure field of the projection objective. The parameter of the second projection objective is a stray light component at an exposure field of the second projection objective and/or a variation of the stray light component at the exposure field of the second projection objective. The second projection objective is different from the projection objective.

摘要翻译： 公开了一种用于微光刻的投影物镜，具有投影物镜的微光刻投影曝光设备，微结构元件的微光刻制造方法以及使用这种制造方法制造的元件。 投影物镜包括一个光学元件，其被构造成使得在投影物镜的使用期间，光学元件在投影物镜的曝光区域中产生杂散光分量，该投射物镜将投射物镜的参数适应于第二投影物镜的参数 。 该参数是在投影物镜的曝光场处的杂散光分量和/或投影物镜的曝光场处的杂散光分量的变化。 第二投影物镜的参数是在第二投影物镜的曝光场处的杂散光分量和/或第二投影物镜的曝光场处的杂散光分量的变化。 第二个投影目标与投影目标不同。

公开(公告)号：US08213079B2

公开(公告)日：2012-07-03

申请号：US13008282

申请日：2011-01-18

申请人： Daniel Kraehmer ,  Ralf Mueller

发明人： Daniel Kraehmer ,  Ralf Mueller

IPC分类号： G02B13/14

CPC分类号： G03F7/70966 ,  G02B5/3083 ,  G03F7/70566 ,  Y10S359/90 ,  Y10T29/49908

摘要： A method of manufacturing a polarization-modulating optical element is provided. The element causes, for light passing through the element and due to stress-induced birefringence, a distribution of retardation between orthogonal states of polarization. The method includes joining a first component and a second component. A non-plane surface of the first component is provided with a defined height profile is joined with a plane surface of the second component. A mechanical stress causing the stress-induced birefringence is produced in the such formed polarization-modulating optical element.

摘要翻译： 提供了一种制造偏振调制光学元件的方法。 该元件对于通过元件的光并由于应力诱导的双折射引起正交偏振态之间的延迟分布。 该方法包括连接第一部件和第二部件。 第一部件的非平面表面设置有限定的高度轮廓，与第二部件的平面连接。 在这种形成的偏振调制光学元件中产生引起应力引起的双折射的机械应力。

公开(公告)号：US08054557B2

公开(公告)日：2011-11-08

申请号：US12715473

申请日：2010-03-02

申请人： Ulrich Loering ,  Vladan Blahnik ,  Wilhelm Ulrich ,  Daniel Kraehmer ,  Norbert Wabra

发明人： Ulrich Loering ,  Vladan Blahnik ,  Wilhelm Ulrich ,  Daniel Kraehmer ,  Norbert Wabra

IPC分类号： G02B9/00 ,  G03B27/42 ,  G03F7/00

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/7015

摘要： Projection objectives, as well as related components, systems and methods, are disclosed. In general, a projection objective is configured to image radiation from an object plane to an image plane. A projection objective can include a plurality of optical elements along the optical axis. The plurality of optical elements can include a group of optical elements and a last optical element which is closest to the image plane, and a positioning device configured to move the last optical element relative to the image plane. Typically, a projection objective is configured to be used in a microlithography projection exposure machine.

摘要翻译： 公开了投影目标以及相关组件，系统和方法。 通常，投影物镜被配置成将来自物体平面的辐射图像到图像平面。 投影物镜可以包括沿着光轴的多个光学元件。 多个光学元件可以包括一组光学元件和最靠近图像平面的最后一个光学元件，以及被配置为相对于图像平面移动最后一个光学元件的定位装置。 通常，投影物镜被配置为用于微光刻投影曝光机。

公开(公告)号：US20110222043A1

公开(公告)日：2011-09-15

申请号：US13112357

申请日：2011-05-20

申请人： Vladimir Kamenov ,  Daniel Kraehmer ,  Toralf Gruner ,  Karl-Stefan Weissenrieder ,  Heiko Feldmann ,  Achim Zirkel ,  Alexandra Pazidis ,  Bruno Thome ,  Stephan Six

发明人： Vladimir Kamenov ,  Daniel Kraehmer ,  Toralf Gruner ,  Karl-Stefan Weissenrieder ,  Heiko Feldmann ,  Achim Zirkel ,  Alexandra Pazidis ,  Bruno Thome ,  Stephan Six

IPC分类号： G03B27/72

CPC分类号： G02B1/11 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70958

摘要： The disclosure relates to a microlithographic projection exposure apparatus, such as are used for the production of large-scale integrated electrical circuits and other microstructured components. The disclosure relates in particular to coatings of optical elements in order to increase or reduce the reflectivity.

摘要翻译： 本公开涉及一种微光刻投影曝光装置，例如用于生产大型集成电路和其它微结构元件的微光投影曝光装置。 本公开特别涉及光学元件的涂层以增加或降低反射率。

公开(公告)号：US07692868B2

公开(公告)日：2010-04-06

申请号：US12265090

申请日：2008-11-05

申请人： Ulrich Loering ,  Vladan Blahnik ,  Wilhelm Ulrich ,  Daniel Kraehmer ,  Norbert Wabra

发明人： Ulrich Loering ,  Vladan Blahnik ,  Wilhelm Ulrich ,  Daniel Kraehmer ,  Norbert Wabra

IPC分类号： G02B9/00 ,  G03B27/42 ,  G03F7/00

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/7015

摘要： Projection objectives, as well as related components, systems and methods, are disclosed. In general, a projection objective is configured to image radiation from an object plane to an image plane. A projection objective can include a plurality of optical elements along the optical axis. The plurality of optical elements can include a group of optical elements and a last optical element which is closest to the image plane, and a positioning device configured to move the last optical element relative to the image plane. Typically, a projection objective is configured to be used in a microlithography projection exposure machine.

摘要翻译： 公开了投影目标以及相关组件，系统和方法。 通常，投影物镜被配置成将来自物体平面的辐射图像到图像平面。 投影物镜可以包括沿着光轴的多个光学元件。 多个光学元件可以包括一组光学元件和最靠近图像平面的最后一个光学元件，以及被配置为相对于图像平面移动最后一个光学元件的定位装置。 通常，投影物镜被配置为用于微光刻投影曝光机。

公开(公告)号：US07679831B2

公开(公告)日：2010-03-16

申请号：US11838995

申请日：2007-08-15

申请人： Daniel Kraehmer ,  Johannes Ruoff

发明人： Daniel Kraehmer ,  Johannes Ruoff

IPC分类号： G02B9/00

CPC分类号： G03F7/70966 ,  G02B13/143

摘要： Projection objectives of micro-lithographic projection exposure apparatuses, as well as related methods and components, are disclosed.

摘要翻译： 公开了微光刻投影曝光装置的投影目标，以及相关方法和组件。

公开(公告)号：US20090284831A1

公开(公告)日：2009-11-19

申请号：US12330980

申请日：2008-12-09

申请人： Karl-Heinz Schuster ,  Heiko Feldmann ,  Toralf Gruner ,  Michael Totzeck ,  Wilfried Clauss ,  Susanne Beder ,  Daniel Kraehmer ,  Olaf Dittmann

发明人： Karl-Heinz Schuster ,  Heiko Feldmann ,  Toralf Gruner ,  Michael Totzeck ,  Wilfried Clauss ,  Susanne Beder ,  Daniel Kraehmer ,  Olaf Dittmann

IPC分类号： G02B13/14 ,  G02B27/28 ,  G02B3/00

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G02B5/3091 ,  G02B27/0025 ,  G03F7/70308

摘要： A projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus has a high index refractive optical element (L3) with an index of refraction greater than 1.6. This element (L3) has a volume and a material related optical property which varies over the volume. Variations of this optical property cause an aberration of the objective. In one embodiment at least 4 optical surfaces are provided that are arranged in at least one volume (L3′) which is optically conjugate with the volume of the refractive optical element. Each optical surface comprises at least one correction means, for example a surface deformation or a birefringent layer with locally varying properties, which at least partially corrects the aberration caused by the variation of the optical property.

摘要翻译： 微光刻投影曝光装置的投影物镜具有折射率大于1.6的高折射率折射光学元件（L3）。 该元件（L3）具有在体积上变化的体积和材料相关的光学性质。 该光学特性的变化导致物镜的像差。 在一个实施例中，提供至少4个光学表面，其布置在与折射光学元件的体积光学共轭的至少一个体积（L3'）中。 每个光学表面包括至少一个校正装置，例如具有局部变化特性的表面变形或双折射层，其至少部分地校正由光学性质的变化引起的像差。

公开(公告)号：US20090115986A1

公开(公告)日：2009-05-07

申请号：US11916162

申请日：2006-05-23

申请人： Heiko Feldmann ,  Daniel Kraehmer ,  Jean-Claude Perrin ,  Julian Kaller ,  Aurelian Dodoc ,  Vladimir Kamenov ,  Olaf Conradi ,  Toralf Gruner ,  Thomas Okon ,  Alexander Epple

发明人： Heiko Feldmann ,  Daniel Kraehmer ,  Jean-Claude Perrin ,  Julian Kaller ,  Aurelian Dodoc ,  Vladimir Kamenov ,  Olaf Conradi ,  Toralf Gruner ,  Thomas Okon ,  Alexander Epple

IPC分类号： G03F7/20 ,  G02B17/08

CPC分类号： G03F7/70225 ,  G02B17/08 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70941

摘要： Microlithography projection objectives for imaging into an image plane a pattern arranged in an object plane are described with respect to suppressing false light in such projection objectives.

摘要翻译： 关于在这样的投影物镜中抑制假光，描述用于成像到平面中的布置在物体平面中的图案的微光刻投影物镜。

公开(公告)号：US20090021714A1

公开(公告)日：2009-01-22

申请号：US12173595

申请日：2008-07-15

申请人： Hans-Juergen Mann ,  Daniel Kraehmer ,  Aurelian Dodoc ,  Toralf Gruner

发明人： Hans-Juergen Mann ,  Daniel Kraehmer ,  Aurelian Dodoc ,  Toralf Gruner

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70941 ,  G02B5/005 ,  G02B17/0657 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/7025

摘要： The disclosure relates to an optical projection arrangement that can be used to image a reticle onto a substrate. The projection arrangement includes reflective elements, by which a ray path is defined. A combination stop is in a pupil of the ray path. The combination stop has a first opening (aperture opening) for use as an aperture stop. The combination stop also has a second opening for allowing passage of a ray bundle of the ray path, such that the combination stop acts as a combined aperture stop and stray light stop. In addition, the disclosure relates to a corresponding combination stop for optical arrangements, as well as related systems, components and methods.

摘要翻译： 本公开涉及一种可用于将掩模版成像到基底上的光学投影装置。 投影装置包括反射元件，通过该反射元件定义光线路径。 光束路径中的光瞳组合停止。 组合止动件具有用作孔径光阑的第一开口（孔口）。 组合挡块还具有用于允许射线路径的射线束通过的第二开口，使得组合挡块用作组合孔径光阑和杂散光挡块。 此外，本公开涉及用于光学布置的相应组合停止，以及相关系统，部件和方法。

公开(公告)号：US20080212060A1

公开(公告)日：2008-09-04

申请号：US12065451

申请日：2006-09-02

申请人： Joern Greif-Wuestenbecker ,  Beate Boehme ,  Ulrich Stroessner ,  Michael Totzeck ,  Vladimir Kamenov ,  Olaf Dittmann ,  Daniel Kraehmer ,  Toralf Gruner ,  Bernd Geh

发明人： Joern Greif-Wuestenbecker ,  Beate Boehme ,  Ulrich Stroessner ,  Michael Totzeck ,  Vladimir Kamenov ,  Olaf Dittmann ,  Daniel Kraehmer ,  Toralf Gruner ,  Bernd Geh

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70666 ,  G03F7/70308

摘要： A method for determining intensity distribution in the focal plane of a projection exposure arrangement, in which a large aperture imaging system is emulated and a light from a sample is represented on a local resolution detector by an emulation imaging system. A device for carrying out the method and emulated devices are also described. The invention makes it possible to improve a reproduction quality since the system apodisation is taken into consideration. The inventive method consists in includes determining the integrated amplitude distribution in an output pupil, combining the integrated amplitude distribution with a predetermined apodization correction and calculating a corrected apodization image according to the modified amplitude distribution.

摘要翻译： 一种用于确定投影曝光装置的焦平面中的强度分布的方法，其中大面积成像系统被仿真并且来自样品的光由仿真成像系统在局部分辨率检测器上表示。 还描述了用于执行该方法和仿真装置的装置。 由于考虑到系统变迹，本发明使得可以提高再现质量。 本发明的方法包括确定输出光瞳中的积分幅度分布，将积分幅度分布与预定的变迹校正相结合，并根据修改的幅度分布来计算校正的变迹图像。